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プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

~プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズム~
オンライン 開催

概要

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

開催日

  • 2021年12月24日(金) 10時00分 17時00分

受講対象者

  • プラズマCVDの応用分野の技術者、研究者
    • 太陽光発電
    • ハイバリア成膜
    • 親水・撥水
    • ディスプレイ
    • 集積回路
    • ミニマルファブなど

修得知識

  • 高品質膜を得ようとした際の物理的・化学的なメカニズム
  • 高品質なプラズマCVD膜を得るためのノウハウ
  • プラズマ源の選定、装置設定、現象
  • ハイバリア成膜、親水・撥水、ディスプレイ、集積回路などの応用

プログラム

 産業界で高品質なプラズマCVD膜の得るための仕事に従事する方々は、プラズマ源の選定から装置パラメータの設定に至る意思決定をする立場にあると思います。この意思決定を適切に行うためには、各種のプラズマ源の特徴を把握しておく必要があります。
 また、そのプラズマ源を用いたリアクター内で起こる物理・化学的現象が、各種パラメータを変えるとどうなるのか、更にそれが膜質にどのように反映されるのかを把握しておく必要があります。
 本講座では、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムを理解して頂くことを趣旨としました。

  1. なぜプラズマCVD?
    1. ドライだから
    2. 低温だから
    3. 段差被覆性に優れるから
    4. 機能性官能基を含有できるから
    5. 非平衡だから
  2. プラズマと気体放電の基礎
    1. プラズマの温度
      • 低温大気圧プラズマはどうしてできるのか
    2. 壁との境界「シース」
      • プロセスでは表面近傍の理解が大切
    3. 放電によるプラズマ生成の基礎 (Townsendの放電理論とPaschenの法則)
      • そもそも放電しないと話にならないが、放電しやすい/しにくいは何で決まる?
  3. 各種プラズマ生成方式 (プラズマ源)
    1. 直流放電プラズマ
      • 応用範囲は狭いが、まずはこれで基本原理を理解
      • プラズマ中の電位構造を理解することで、イオン衝撃の制御法がわかる
    2. 高周波放電プラズマ
      • 電極を向かい合わせたらよい? ちがいます! 電極非対象とコンデンサが重要
    3. 高密度プラズマ源は何故高密度か?
      • 電子の直進か回転かが密度の決め手
  4. プラズマ化学工学
    1. 制御パラメータと内部パラメータ
      • 操作できるのは何か、実際には何が変わるのか?
    2. プラズマ中の電子のエネルギー分布
      • 電子のエネルギーは数十eVまで拡がる
    3. 電子衝突により一次反応
      • 電子衝突解離で何ができるのか? それは制御可能なのか?
    4. 二次反応とその影響
      • 電子衝突解離で何が生成されるかが関係無い、ということもある
    5. 気相から表面までの輸送過程
      • 通常は拡散だが、イオンのドリフトを使うとイオン衝撃効果を援用できる
  5. 薄膜堆積プロセスの理解と応用技術
    1. 表面プロセスの概要
      • まずは、「膜形成の前駆体が降ってきて、それが付着する」という単純な視点から
    2. 膜構造形成過程の基本的描像
      • 前駆体が持つエネルギーの大小で着地後の振る舞いが変わり、膜構造が変わる
    3. 膜の構造と電子材料としての物性
      • 欠陥とは何か? 何故形成されるのか?
    4. 膜構造形成過程と膜物性
      • 最も良く理解されているa-Si:HのプラズマCVDの描像を例にとって
      • 欠陥を減らすには何を操作するとよい?
    5. 成膜速度と基板温度
      • 成膜速度の向上のためには、基板温度は高くする?それとも低くする?
    6. イオン衝撃の効能
      • 制御によって毒にも薬にもなる
    7. 機能基の含有
      • 電子エネルギー分布の制御と二次反応の賜物
    • 質疑応答

講師

  • 白藤 立
    大阪市立大学 大学院 工学研究科
    教授

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 30,400円 (税別) / 33,440円 (税込)
複数名
: 25,000円 (税別) / 27,500円 (税込)

複数名受講割引

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 30,400円(税別) / 33,440円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
  • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

  • 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
  • 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
  • お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

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