プラズマのセミナー・研修・出版物

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

admin — Thu, 22 Aug 2024 08:44:40 +0000

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

オンライン開催

視聴期間は2024年12月9日〜20日を予定しております。
お申し込みは2024年12月18日まで承ります。

概要

本セミナーでは、大気圧プラズマについて取り上げ、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割から、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく解説いたします。

開催日

2024年12月18日(水) 10時30分～ 2024年12月20日(金) 16時30分

受講対象者

プラズマに関連する技術者、研究者
プラズマの応用に関連する技術者、研究者
- 微粒子合成
- 炭素薄膜合成
- ガス処理など

修得知識

プラズマ反応器の構成、設計の基礎
高電圧電源の選定 (仕様、コスト)
電圧電流波形の計測、電力の見積もり方法
ガス処理に応用する際の適切なパラメータの設定
基礎から応用まで文献情報
電力の計測、分光計測などの実例
反応速度の求め方、アレニウスプロットの作成方法
難易度はやや高くなりますがオープンソフトの使い方

プログラム

　大気圧プラズマを使って、温室効果ガス (CH4、CO2) を水素、合成ガス、カーボンナノチューブなど有用物質に変換する反応を対象に、大気圧プラズマ技術の基礎と応用を講義します。本講義で取り扱う誘電体バリア放電 (DBD) は、オゾン合成、CO2レーザー、表面処理など低温で動作させる非平衡プロセスを実現する方法として多くの産業で実績を有している信頼性の高い技術です。近年は、DBDと触媒を組み合わせた反応システムが注目を集め、電気エネルギーで駆動する非熱的な物質変換への応用が検討されています。その中でも、大気圧プラズマは再生可能エネルギーとの接続性が高く、低コストで脱炭素を実現する新しいGX技術として期待されています。
　本講義では、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割を紹介します。さらに、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく講義します。プラズマによるガス処理を対象にしていますが、プラズマ発生技術や計測、データ解析方法などの基礎は、表面処理、殺菌・バイオ応用など様々な応用分野に適用できます。

はじめに (基礎)
1. 大気圧プラズマの分類
  1. DBD、コロナ放電、グライディングアーク放電など
2. 応用事例の紹介:大気圧プラズマでできること
  1. 表面処理と成膜
  2. 微粒子の合成
  3. プラズマジェットの応用など
誘電体バリア放電 (DBD)
1. 誘電体バリア放電の基本特性 (無触媒)
  1. 気体の絶縁破壊
  2. 相似則 (パッシェンの法則)
2. 電圧と電流の計測 (実時間、時間平均)
3. リサージュ図形を使ったDBDの解析
  1. 放電電力、放電維持電圧、平均電流
  2. 比投入エネルギーとエネルギー効率
4. 誘電体バリア放電のエネルギー収支
5. DBDの本質はリサージュで理解できるか? :ミクロとマクロをつなぐ
触媒充填層のなかでDBDをつくる
1. 充填層のなかで形成されるDBDの特徴
2. ストリーマは細孔の中で形成されるか?:デバイ長とパッシェン則
3. 発光分光分析の基礎
  1. 空間分解、時間分解、波長分解
  2. 事例紹介 (1) ガス温度計測
  3. 事例紹介 (2) 化学反応のパルス応答解析
オープンソースの活用 (簡単に)
1. 換算電界強度とは
2. 電子と分子の衝突断面積データ
3. ボルツマン方程式ソルバー
大気圧プラズマと低炭素技術 (応用)
1. Power-to-Xとプロセス電化
2. プラズマによる低炭素技術とは
3. プラズマ技術の事例紹介
メタンドライ改質の応用 (CO2+CH4=2CO+2H2)
1. 充填層型DBD反応器の構成
2. ステップ応答を利用した反応解析
3. 平均反応速度の求め方 (プラグフロー・モデル)
4. アレニウスプロットと活性化エネルギー
  1. 熱反応とプラズマ反応の分離
5. 流動層型DBD反応器
  1. 熱物質輸送の促進
6. エネルギー効率 (吸熱反応)
7. オープンソースによる衝突パラメーターの推定
逆水性シフト反応 (CO2+H2=CO+H2O)
1. 流動層型DBD反応器の構成
2. 活性化エネルギー
3. FTIRによる表面反応解析
  1. 計測方法の注意点
メタネーション反応 (CO2+4H2=CH4+2H2O)
1. DBDによる熱とラジカルの併給効果
2. オートサーマル・メタネーション反応
3. 外熱を必要としない自立したメタネーション反応
4. エネルギー効率 (発熱反応)
ターコイズ水素とカーボンブラック (CH4=C+2H2)
1. C-H-O相図 (平衡計算による反応予測)
2. 流動層DBDによるカーボンブラックの大量合成
3. 二次電池電極材料への応用
質疑応答

ページのトップヘ

講師

野崎智洋氏
東京工業大学大学院理工学研究科機械物理工学専攻

教授

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 50000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

アーカイブ配信セミナー

当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
視聴期間は2024年12月9日〜20日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
セミナー資料は別途、送付いたします。

アーカイブ配信セミナーに申し込む

ページのトップヘ

ページ内で移動

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

admin — Thu, 22 Aug 2024 08:44:09 +0000

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

ライブ配信セミナーに申し込む

アーカイブ配信セミナーに申し込む

アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2024年12月9日〜20日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2024年12月18日まで承ります。

概要

開催日

2024年12月6日(金) 10時30分～ 16時30分

受講対象者

プラズマに関連する技術者、研究者
プラズマの応用に関連する技術者、研究者
- 微粒子合成
- 炭素薄膜合成
- ガス処理など

修得知識

プラズマ反応器の構成、設計の基礎
高電圧電源の選定 (仕様、コスト)
電圧電流波形の計測、電力の見積もり方法
ガス処理に応用する際の適切なパラメータの設定
基礎から応用まで文献情報
電力の計測、分光計測などの実例
反応速度の求め方、アレニウスプロットの作成方法
難易度はやや高くなりますがオープンソフトの使い方

プログラム

はじめに (基礎)
1. 大気圧プラズマの分類
  1. DBD、コロナ放電、グライディングアーク放電など
2. 応用事例の紹介:大気圧プラズマでできること
  1. 表面処理と成膜
  2. 微粒子の合成
  3. プラズマジェットの応用など
誘電体バリア放電 (DBD)
1. 誘電体バリア放電の基本特性 (無触媒)
  1. 気体の絶縁破壊
  2. 相似則 (パッシェンの法則)
2. 電圧と電流の計測 (実時間、時間平均)
3. リサージュ図形を使ったDBDの解析
  1. 放電電力、放電維持電圧、平均電流
  2. 比投入エネルギーとエネルギー効率
4. 誘電体バリア放電のエネルギー収支
5. DBDの本質はリサージュで理解できるか? :ミクロとマクロをつなぐ
触媒充填層のなかでDBDをつくる
1. 充填層のなかで形成されるDBDの特徴
2. ストリーマは細孔の中で形成されるか?:デバイ長とパッシェン則
3. 発光分光分析の基礎
  1. 空間分解、時間分解、波長分解
  2. 事例紹介 (1) ガス温度計測
  3. 事例紹介 (2) 化学反応のパルス応答解析
オープンソースの活用 (簡単に)
1. 換算電界強度とは
2. 電子と分子の衝突断面積データ
3. ボルツマン方程式ソルバー
大気圧プラズマと低炭素技術 (応用)
1. Power-to-Xとプロセス電化
2. プラズマによる低炭素技術とは
3. プラズマ技術の事例紹介
メタンドライ改質の応用 (CO2+CH4=2CO+2H2)
1. 充填層型DBD反応器の構成
2. ステップ応答を利用した反応解析
3. 平均反応速度の求め方 (プラグフロー・モデル)
4. アレニウスプロットと活性化エネルギー
  1. 熱反応とプラズマ反応の分離
5. 流動層型DBD反応器
  1. 熱物質輸送の促進
6. エネルギー効率 (吸熱反応)
7. オープンソースによる衝突パラメーターの推定
逆水性シフト反応 (CO2+H2=CO+H2O)
1. 流動層型DBD反応器の構成
2. 活性化エネルギー
3. FTIRによる表面反応解析
  1. 計測方法の注意点
メタネーション反応 (CO2+4H2=CH4+2H2O)
1. DBDによる熱とラジカルの併給効果
2. オートサーマル・メタネーション反応
3. 外熱を必要としない自立したメタネーション反応
4. エネルギー効率 (発熱反応)
ターコイズ水素とカーボンブラック (CH4=C+2H2)
1. C-H-O相図 (平衡計算による反応予測)
2. 流動層DBDによるカーボンブラックの大量合成
3. 二次電池電極材料への応用
質疑応答

ページのトップヘ

講師

野崎智洋氏
東京工業大学大学院理工学研究科機械物理工学専攻

教授

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 50000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー

「Zoom」を使ったライブ配信またはアーカイブ配信セミナーのいずれかをご選択いただけます。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

ライブ配信セミナーをご希望の場合

セミナー資料は、郵送にて前日までにお送りいたします。
開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
印刷物は後日お手元に届くことになります。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

アーカイブ配信セミナーをご希望の場合

当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
視聴期間は2024年12月9日〜20日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
セミナー資料は別途、送付いたします。

ライブ配信セミナーに申し込む

アーカイブ配信セミナーに申し込む

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

admin — Mon, 12 Aug 2024 05:00:17 +0000

半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

～装置メーカーの立場から、プラズマCVD装置の技術/課題と対策を解説～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

オンデマンドセミナーに申し込む

このセミナーは2024年5月に開催したセミナーのオンラインセミナー:オンデマンド配信です。
オンラインセミナーは、お申し込み日より10営業日の間、動画をご視聴いただけます。
お申込は、2024年10月30日まで受け付けいたします。
(収録日:2024年5月22日 ※映像時間:約2時間42分)

概要

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

開催日

2024年10月30日(水) 13時00分～ 16時30分

受講対象者

プラズマCVDの応用分野の技術者、研究者
- 太陽光発電
- ハイバリア成膜
- 親水・撥水
- ディスプレイ
- 集積回路
- ミニマルファブなど

修得知識

プラズマCVD装置の基礎
プラズマCVDの開発技術、周辺技術
プラズマCVD技術の課題と対策

プログラム

　当社は、1989年から「研究開発用半導体一貫製造システム」の開発を開始して、装置メーカーとして、30年以上の実績・経験があります。この講演では、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心にご紹介いたします。

プラズマCVD装置の基本構造
1. プラズマCVD装置の構成
2. 反応チャンバーの基本構成
プラズマCVD装置の用途
1. 適用アプリケーション
プラズマCVD装置のプロセス性能
1. SiH4系SiO2膜
2. SiH4系SiN膜
3. SiH4系SiON膜
4. SiH4系a-Si膜
5. SiH4系SiC膜
6. TEOS系SiO2膜
7. 液体ソース系SiN膜
開発用装置と量産用装置
1. プラットフォーム
プラズマCVD装置の課題と対策
1. 高レート化
2. プロセスの再現性
3. 低パーティクル
4. チャンバークリーニング
5. ウェーハ温度の低温化
6. ウェーハ大口径化など

質疑応答

ページのトップヘ

講師

金尾寛人氏
SPPテクノロジーズ株式会社製造部

次長

ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー株式会社

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 32400円 (税別) / 35,640円 (税込)

複数名

: 22500円 (税別) / 24,750円 (税込)

複数名受講割引

2名様でお申込みの場合、1名あたり 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。
3名様以上でお申込みの場合、1名あたり 20,000円(税別) / 22,000円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 32,400円(税別) / 35,640円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 60,000円(税別) / 66,000円(税込)
同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
他の割引は併用できません。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

オンデマンドセミナーの留意点

申込み後、すぐに視聴可能なため、本セミナーのキャンセルは承りかねます。 予めご了承ください。
録画セミナーの動画をお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
お申し込み前に、視聴環境をご確認いただき、視聴テストにて動作確認をお願いいたします。
3営業日後までに、メールをお送りいたします。
視聴期間は申込日より10営業日の間です。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
動画視聴・インターネット環境をご確認ください
- セキュリティの設定や、動作環境によってはご視聴いただけない場合がございます。
- サンプル動画が閲覧できるかを事前にご確認いただいたうえで、お申し込みください。
本セミナーの録音・撮影、複製は固くお断りいたします。

オンデマンドセミナーに申し込む

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマエッチングにおけるプロセス不良の検出とプラズマ耐性材料の評価技術

admin — Sun, 11 Aug 2024 05:36:47 +0000

プラズマエッチングにおけるプロセス不良の検出とプラズマ耐性材料の評価技術

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

ライブ配信セミナーに申し込む

概要

本セミナーでは、プラズマエッチングの基礎から解説し、チャンバー材料の腐食やパーティクルの発生を抑えるための技術を解説いたします。

開催日

2024年10月4日(金) 10時30分～ 16時30分

受講対象者

半導体製造工程におけるプラズマプロセス技術に携わっている方

修得知識

プラズマエッチングプロセスにおける異常検出
プロセスモニタリング手法
- パーティクル検出
- 異常放電検出
- プロセスチャンバー状態診断等
プラズマプロセス装置チャンバー内部品部材のプラズマ耐性評価

プログラム

　現在、半導体は産業上の一部品としてではなく、経済安全保障にも関わる極めて重要な「特定重要物資」として取り扱われています。半導体製造技術の最先端では2nm、更にはより以細な製造技術の研究開発も進められています。その一方、我が国の半導体産業の特長の一つは、車載用マイコンやセンサ用半導体、パワー半導体を始めとして最先端の微細製造技術を必ずしも必要としない半導体デバイスに競争力を有することです。
　本セミナーでは、後者の製造を多く担う、いわゆるレガシーファブの量産ラインの前工程において、装置稼働率や歩留まりの向上に必要となる製造技術について紹介します。前工程の中でも、特に収益性に関わりが大きいプラズマエッチングプロセス及びその装置に関し、不良発生の抑止や予知保全、メンテナンス費用削減、装置機差の低減等に資する技術について解説します。

はじめに
1. 半導体を取り巻く情勢、半導体産業界の動向
2. 半導体の製造工程とプラズマプロセス
3. 量産ラインにおけるプラズマプロセスの課題
4. 半導体製造効率と歩留まり
5. プラズマエッチングプロセス
プラズマエッチングプロセスにおけるパーティクルの課題
1. パーティクル対策の必要性
2. パーティクルのその場検出手法
3. パーティクルの発生メカニズム
プラズマプロセスにおける異常モニタリング・検出技術
1. プロセス異常モニタリングの必要性
2. 異常放電の課題
3. 異常モニタリング、検出手法
  - アコースティックエミッション手法
  - プラズマインピーダンスモニタリング手法等
プラズマ耐性材料とその評価技術
1. プロセスチャンバー用部品部材の腐食とパーティクル発生
2. 高プラズマ耐性材料
3. チャンバー部品部材のプラズマ耐性評価手法〜セラミックス部材を例として

質疑応答

ページのトップヘ

講師

笠嶋悠司氏
国立研究開発法人産業技術総合研究所センシングシステム研究センター複合センシングデバイス研究チーム

主任研究員

ページのトップヘ

主催

株式会社技術情報協会

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 50000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名

: 45000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
他の割引は併用できません。

アカデミック割引

1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方

支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
印刷物は後日お手元に届くことになります。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

ライブ配信セミナーに申し込む

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマの基礎および半導体ドライエッチング入門

admin — Thu, 04 Jul 2024 16:45:38 +0000

プラズマの基礎および半導体ドライエッチング入門

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

アーカイブ配信セミナーに申し込む

視聴期間は2024年8月29日〜9月11日を予定しております。
お申し込みは2024年9月9日まで承ります。

概要

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

開催日

2024年9月9日(月) 13時00分～ 2024年9月11日(水) 16時00分

修得知識

プラズマの基礎
ドライエッチングの原理
種々のエッチング手法

プログラム

　プラズマは産業の広い分野で日常的に使われています。しかし、プラズマの原理やプラズマを用いることの利点について系統的に学ぶ機会は少ないと思います。現在の応用だけでなく、今後道具としてさらにプラズマを利用していくためには、その物理的な考え方、特徴を理解することが不可欠になります。
　そこで、本セミナーでは、まず前半で薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマ (非平衡プラズマと呼ばれる) の生成機構や特徴について解説します。後半ではそれらを踏まえ、ドライエッチングにフォーカスしてその原理、装置の構造、処理条件の最適化法などについて説明します。

プラズマの基礎
1. プラズマ中の衝突現象とその定量的な取り扱い
2. 衝突反応の種類と反応速度定数の考え方
3. Boltzmann方程式
4. Boltzmann方程式から得られるプラズマの基礎方程式
  - 拡散方程式
  - 連続の式など
各種プラズマの生成機構と特徴
1. 直流放電プラズマ
2. 容量性結合RF放電プラズマ
3. 誘導性結合RF放電プラズマ
4. 大気圧低温プラズマ
プラズマエッチング
1. プラズマエッチングの特徴と原理
  - 等方性
  - 異方性
2. 代表的なエッチング装置
3. エッチングダメージ
4. 終点検出の原理

ページのトップヘ

講師

市川幸美氏
東京電機大学大学院工学研究科

非常勤講師

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 45000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名

: 22500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 42,000円(税別) / 46,200円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

アーカイブ配信セミナー

当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
視聴期間は2024年8月29日〜9月11日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。

アーカイブ配信セミナーに申し込む

ページのトップヘ

ページ内で移動

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

admin — Thu, 04 Jul 2024 15:56:03 +0000

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは、都合により延期いたしました。
2024年12月18日(水) 大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

関連するセミナー・出版物を探す

視聴期間は2024年8月27日〜9月6日を予定しております。
お申し込みは2024年9月4日まで承ります。

概要

開催日

2024年9月4日(水) 10時30分～ 2024年9月6日(金) 16時30分

受講対象者

プラズマに関連する技術者、研究者
プラズマの応用に関連する技術者、研究者
- 微粒子合成
- 炭素薄膜合成
- ガス処理など

修得知識

プラズマ反応器の構成、設計の基礎
高電圧電源の選定 (仕様、コスト)
電圧電流波形の計測、電力の見積もり方法
ガス処理に応用する際の適切なパラメータの設定
基礎から応用まで文献情報
電力の計測、分光計測などの実例
反応速度の求め方、アレニウスプロットの作成方法
難易度はやや高くなりますがオープンソフトの使い方

プログラム

はじめに (基礎)
1. 大気圧プラズマの分類
  1. DBD、コロナ放電、グライディングアーク放電など
2. 応用事例の紹介:大気圧プラズマでできること
  1. 表面処理と成膜
  2. 微粒子の合成
  3. プラズマジェットの応用など
誘電体バリア放電 (DBD)
1. 誘電体バリア放電の基本特性 (無触媒)
  1. 気体の絶縁破壊
  2. 相似則 (パッシェンの法則)
2. 電圧と電流の計測 (実時間、時間平均)
3. リサージュ図形を使ったDBDの解析
  1. 放電電力、放電維持電圧、平均電流
  2. 比投入エネルギーとエネルギー効率
4. 誘電体バリア放電のエネルギー収支
5. DBDの本質はリサージュで理解できるか? :ミクロとマクロをつなぐ
触媒充填層のなかでDBDをつくる
1. 充填層のなかで形成されるDBDの特徴
2. ストリーマは細孔の中で形成されるか?:デバイ長とパッシェン則
3. 発光分光分析の基礎
  1. 空間分解、時間分解、波長分解
  2. 事例紹介 (1) ガス温度計測
  3. 事例紹介 (2) 化学反応のパルス応答解析
オープンソースの活用 (簡単に)
1. 換算電界強度とは
2. 電子と分子の衝突断面積データ
3. ボルツマン方程式ソルバー
大気圧プラズマと低炭素技術 (応用)
1. Power-to-Xとプロセス電化
2. プラズマによる低炭素技術とは
3. プラズマ技術の事例紹介
メタンドライ改質の応用 (CO2+CH4=2CO+2H2)
1. 充填層型DBD反応器の構成
2. ステップ応答を利用した反応解析
3. 平均反応速度の求め方 (プラグフロー・モデル)
4. アレニウスプロットと活性化エネルギー
  1. 熱反応とプラズマ反応の分離
5. 流動層型DBD反応器
  1. 熱物質輸送の促進
6. エネルギー効率 (吸熱反応)
7. オープンソースによる衝突パラメーターの推定
逆水性シフト反応 (CO2+H2=CO+H2O)
1. 流動層型DBD反応器の構成
2. 活性化エネルギー
3. FTIRによる表面反応解析
  1. 計測方法の注意点
メタネーション反応 (CO2+4H2=CH4+2H2O)
1. DBDによる熱とラジカルの併給効果
2. オートサーマル・メタネーション反応
3. 外熱を必要としない自立したメタネーション反応
4. エネルギー効率 (発熱反応)
ターコイズ水素とカーボンブラック (CH4=C+2H2)
1. C-H-O相図 (平衡計算による反応予測)
2. 流動層DBDによるカーボンブラックの大量合成
3. 二次電池電極材料への応用
質疑応答

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 50000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

アーカイブ配信セミナー

当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
視聴期間は2024年8月27日〜9月6日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
セミナー資料は別途、送付いたします。

本セミナーは、都合により延期いたしました。
2024年12月18日(水) 大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマの基礎および半導体ドライエッチング入門

admin — Thu, 04 Jul 2024 16:45:00 +0000

プラズマの基礎および半導体ドライエッチング入門

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2024年8月29日〜9月11日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2024年9月9日まで承ります。

概要

開催日

2024年8月28日(水) 13時00分～ 16時00分

修得知識

プラズマの基礎
ドライエッチングの原理
種々のエッチング手法

プログラム

プラズマの基礎
1. プラズマ中の衝突現象とその定量的な取り扱い
2. 衝突反応の種類と反応速度定数の考え方
3. Boltzmann方程式
4. Boltzmann方程式から得られるプラズマの基礎方程式
  - 拡散方程式
  - 連続の式など
各種プラズマの生成機構と特徴
1. 直流放電プラズマ
2. 容量性結合RF放電プラズマ
3. 誘導性結合RF放電プラズマ
4. 大気圧低温プラズマ
プラズマエッチング
1. プラズマエッチングの特徴と原理
  - 等方性
  - 異方性
2. 代表的なエッチング装置
3. エッチングダメージ
4. 終点検出の原理

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 45000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名

: 22500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー

「Zoom」を使ったライブ配信またはアーカイブ配信セミナーのいずれかをご選択いただけます。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は、PDFファイルを配布予定です。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

ライブ配信セミナーをご希望の場合

Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

アーカイブ配信セミナーをご希望の場合

当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
視聴期間は2024年8月29日〜9月11日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

admin — Thu, 04 Jul 2024 15:54:57 +0000

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2024年8月27日〜9月6日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2024年9月4日まで承ります。

概要

開催日

2024年8月26日(月) 10時30分～ 16時30分

受講対象者

プラズマに関連する技術者、研究者
プラズマの応用に関連する技術者、研究者
- 微粒子合成
- 炭素薄膜合成
- ガス処理など

修得知識

プラズマ反応器の構成、設計の基礎
高電圧電源の選定 (仕様、コスト)
電圧電流波形の計測、電力の見積もり方法
ガス処理に応用する際の適切なパラメータの設定
基礎から応用まで文献情報
電力の計測、分光計測などの実例
反応速度の求め方、アレニウスプロットの作成方法
難易度はやや高くなりますがオープンソフトの使い方

プログラム

はじめに (基礎)
1. 大気圧プラズマの分類
  1. DBD、コロナ放電、グライディングアーク放電など
2. 応用事例の紹介:大気圧プラズマでできること
  1. 表面処理と成膜
  2. 微粒子の合成
  3. プラズマジェットの応用など
誘電体バリア放電 (DBD)
1. 誘電体バリア放電の基本特性 (無触媒)
  1. 気体の絶縁破壊
  2. 相似則 (パッシェンの法則)
2. 電圧と電流の計測 (実時間、時間平均)
3. リサージュ図形を使ったDBDの解析
  1. 放電電力、放電維持電圧、平均電流
  2. 比投入エネルギーとエネルギー効率
4. 誘電体バリア放電のエネルギー収支
5. DBDの本質はリサージュで理解できるか? :ミクロとマクロをつなぐ
触媒充填層のなかでDBDをつくる
1. 充填層のなかで形成されるDBDの特徴
2. ストリーマは細孔の中で形成されるか?:デバイ長とパッシェン則
3. 発光分光分析の基礎
  1. 空間分解、時間分解、波長分解
  2. 事例紹介 (1) ガス温度計測
  3. 事例紹介 (2) 化学反応のパルス応答解析
オープンソースの活用 (簡単に)
1. 換算電界強度とは
2. 電子と分子の衝突断面積データ
3. ボルツマン方程式ソルバー
大気圧プラズマと低炭素技術 (応用)
1. Power-to-Xとプロセス電化
2. プラズマによる低炭素技術とは
3. プラズマ技術の事例紹介
メタンドライ改質の応用 (CO2+CH4=2CO+2H2)
1. 充填層型DBD反応器の構成
2. ステップ応答を利用した反応解析
3. 平均反応速度の求め方 (プラグフロー・モデル)
4. アレニウスプロットと活性化エネルギー
  1. 熱反応とプラズマ反応の分離
5. 流動層型DBD反応器
  1. 熱物質輸送の促進
6. エネルギー効率 (吸熱反応)
7. オープンソースによる衝突パラメーターの推定
逆水性シフト反応 (CO2+H2=CO+H2O)
1. 流動層型DBD反応器の構成
2. 活性化エネルギー
3. FTIRによる表面反応解析
  1. 計測方法の注意点
メタネーション反応 (CO2+4H2=CH4+2H2O)
1. DBDによる熱とラジカルの併給効果
2. オートサーマル・メタネーション反応
3. 外熱を必要としない自立したメタネーション反応
4. エネルギー効率 (発熱反応)
ターコイズ水素とカーボンブラック (CH4=C+2H2)
1. C-H-O相図 (平衡計算による反応予測)
2. 流動層DBDによるカーボンブラックの大量合成
3. 二次電池電極材料への応用
質疑応答

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 50000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー

「Zoom」を使ったライブ配信またはアーカイブ配信セミナーのいずれかをご選択いただけます。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

ライブ配信セミナーをご希望の場合

セミナー資料は、郵送にて前日までにお送りいたします。
開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
印刷物は後日お手元に届くことになります。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

アーカイブ配信セミナーをご希望の場合

当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
視聴期間は2024年8月27日〜9月6日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
セミナー資料は別途、送付いたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

大気圧プラズマを用いた材料の表面改質、ぬれ性の改善

admin — Thu, 30 May 2024 16:31:52 +0000

大気圧プラズマを用いた材料の表面改質、ぬれ性の改善

～大気圧プラズマによる表面処理事例と表面設計のポイントを学ぶ～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、大気圧プラズマの基礎・原理から、大気圧プラズマの使用方法、運用方法、品質管理方法、応用技術までわかりやすく解説いたします。

開催日

2024年8月5日(月) 10時00分～ 16時20分

修得知識

大気圧プラズマの発生法の基礎知識
大気圧プラズマ表面処理の具体的方法
大気圧プラズマ表面処理の産業応用例
難接着フィルム・基材表面処理への応用展開

大気圧プラズマによる塗装、コーティング
接着前のドライ洗浄、表面改質技術

大気圧プラズマ処理、DLC成膜を活用した材料表面の機械的応答特性制御

プラズマインジケータの基礎
大気圧プラズマ処理効果の評価

プログラム

第1部大気圧プラズマの基礎と難接着フィルム・基材表面処理への応用展開

(2024年8月5日 10:00〜12:00)

本セミナーでは、はじめに大気圧プラズマの発生方法と発生メカニズムの基礎について実例をあげわかりやすく解説します。次に講師が開発した大気圧プラズマ複合表面処理プロセスの基礎と産業応用例を、分野の最新動向を交えながらわかりやすく解説します。事例として、樹脂、ガラス、ポリマーなどのプラズマ表面処理を選択解説し、受講後、類似の開発を直ちに始めることができるような具体的情報を提供します。

大気圧プラズマ発生法の基礎知識
1. 大気圧プラズマの発生方法と発生メカニズムの基礎
  1. 大気圧プラズマと発生法
  2. プラズマとは?
  3. プラズマの種類
  4. パルス放電方式
  5. 無声放電方式 (誘電体バリア放電方式)
  6. オゾン発生装置
  7. 電流電圧電力波形
  8. 沿面放電方式
  9. 高周波プラズマ方式
  10. プラズマジェット電極
  11. コロナ放電プラズマ装置と電子回路
  12. その他各種プラズマジェットとプラズマ医療
大気圧プラズマ表面処理の産業応用技術
1. 大気圧プラズマ複合プロセスによるフッ素樹脂フィルムの接着性向上技術
  1. フッ素樹脂の特性
  2. プラズマグラフト重合とは
  3. フッ素樹脂フィルム処理の実験装置と実験条件
  4. 接触角による親水性評価
  5. 剥離試験による接着性評価
  6. ESCA (XPS) による表面分析評価
  7. FT-IRによる表面分析評価
  8. 電子顕微鏡による表面写真撮影
  9. 従来技術 (ナトリウム-アンモニア処理等) との比較
  10. テフロン表面へのめっきについて (プラズマ複合めっき処理)
  11. 大面積処理装置の実現
  12. テフロン上めっきのフォトリソグラフィによる微細加工
  13. A4コロナ表面処理のデモンストレーション
    - 試作サンプル紹介
2. 大気圧プラズマジェットと医療への応用、殺菌技術
  1. 医療への応用例
  2. プラズマ照射装置のその他の応用 (低温殺菌技術など)
  3. 低温プラズマ殺菌の試験結果
3. 大気圧プラズマ複合プロセスによるガラス表面およびポリマー表面の恒久的処理技術
  1. 自動車のフロントガラスやサイドミラーの水滴除去
  2. ガラス表面の改質装置
  3. プラズマのみを照射した場合 (親水性向上)
  4. プラズマ・ケミカル複合プロセスによる恒久的はっ水処理
  5. 恒久的表面処理のメカニズムについて
  6. フッ素樹脂フィルム上有機EL膜の発光特性

質疑応答

第2部大気圧プラズマによる塗装、コーティング、接着前のドライ洗浄、表面改質技術

(2024年8月5日 13:00〜14:00)

　昨今、ものづくりの工程で採用が広まっている大気圧プラズマによる表面改質技術は、製造品質の向上はもとより、製造コストを削減し環境にもやさしい工法です。
　「空気」を電気エネルギーで活性化させ、基材に付着している有機汚れをドライ洗浄します。また生成されたラジカルは基材の濡れ性を向上させ、塗装やコーティング、接着に適した表面状態にする事で塗料、コーティング剤、接着剤と強固に結合します。使用するのは「空気」と「電力」。従来の洗浄工程で使用していた有機溶剤の削減や、プライマー材の代替として自動車、航空宇宙、医療機器等の製造コスト削減から環境改善にも貢献します。
　本講演では、大気圧プラズマの基礎から原理、取り扱いの注意事項や採用事例をご紹介致します。

プラズマとは
1. 物質の第4の状態
2. プラズマの発生方法
プラズマで何ができるか
1. ドライ洗浄
2. 表面改質
3. 樹脂の親水化
4. 金属の親水化
5. 異種材料の接着
大気圧プラズマの活用事例
大気圧プラズマの処理効果事例
1. ポリプロピレン
2. アルミダイガスト
3. プラズマ処理後の評価方法
使用上の注意事項
1. 温度・湿度・時間の影響

質疑応答

第3部大気圧プラズマ処理、DLC 成膜を活用した材料表面の機械的応答特性制御への応用

(2024年8月5日 14:10〜15:10)

　プラズマ処理を利用し、DLC (Diamond-like Carbon) などを基材上に成膜することで、優れた摩擦特性、耐摩耗性や耐堆積性などを付与できる。また、ゴムや樹脂材料表面の機械特性をプラズマ処理によって変化させ、優れた付着特性を与えることができる。摺動中の界面にプラズマを作用させ、摺動特性を変化させることができる。
　本講演では、機械的応答特性を対象とした研究事例を中心にプラズマ処理の最新技術と今後の動向について解説する。

表面処理とプラズマ
ハードコーティング・DLC成膜手法の解説
マイクロ波プラズマによる表面機械特性の制御
DLCによる低摩擦発現事例の解説
大気圧プラズマによるシリカナノ粒子担持と水潤滑下低摩擦発現への応用
摩擦中その場大気圧プラズマ照射による低摩擦発現促進

質疑応答

第4部プラズマインジケータの紹介と大気圧プラズマ処理効果の評価

(2024年8月5日 15:20〜16:20)

　プラズマインジケータは、プラズマ中のラジカルやイオンで変色する色材を用いた評価ツールです。装置内に置くだけで、プラズマの処理効果を可視化できます。簡便に工程のバラつきや面内分布を評価でき、生産性向上やトラブルシューティングに役立ちます。大気圧プラズマのラジカル種に特化した検知性能を有するので、プリント配線板製造/FPD製造/フィルム加工など、大面積の大気圧プラズマ処理のチェックに適しています。
　本講座では、プラズマインジケータの基礎原理から、その基本性能、さらに評価事例を紹介します。

はじめに
- 会社概要
- 機能性色材について
プラズマインジケータの概要・基礎原理
プラズマインジケータ大気圧プラズマ用の基本性能
プラズマインジケータの大気圧プラズマ処理評価事例
まとめ

質疑応答

ページのトップヘ

講師

大久保雅章氏
大阪公立大学大学院工学研究科

教授
神藤高広氏
株式会社FUJI ロボットソリューション事業本部技術開発部第3課

課長
上坂裕之氏
岐阜大学工学部機械工学科

教授
玉木万美子氏
株式会社サクラクレパス中央研究所

ページのトップヘ

主催

株式会社技術情報協会

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 60000円 (税別) / 66,000円 (税込)

複数名

: 55000円 (税別) / 60,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 55,000円(税別) / 60,500円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 60,000円(税別) / 66,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 110,000円(税別) / 121,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 165,000円(税別) / 181,500円(税込)
同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
他の割引は併用できません。

アカデミック割引

1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方

支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
印刷物は後日お手元に届くことになります。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

admin — Thu, 14 Mar 2024 07:11:25 +0000

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

～反応性イオンエッチング、プラズマ支援原子層エッチング (PA-ALE) 、熱原子層エッチング (thermal ALE) など～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

視聴期間は2024年7月26日〜8月2日を予定しております。
お申し込みは2024年7月31日まで承ります。

概要

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

開催日

2024年7月31日(水) 10時30分～ 2024年8月2日(金) 16時30分

修得知識

エッチング用プラズマ装置の基礎
プラズマエッチングにおける物質表面化学反応の基礎
反応性イオンエッチング、プラズマ支援原子層エッチング (PA-ALE) 、熱原子層エッチング (thermal ALE) の特徴と応用

プログラム

　本講座では、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説する。具体的には、ドライエッチングに用いられるプラズマ装置、装置内のプラズマの構造やダイナミクス、気相反応、および、反応性イオンエッチング (RIE) から、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) にわたるドライエッチング技術に関して、プラズマ物質相互作用の物理機構から最新技術動向まで、詳しく紹介する。
　関連項目として、プラズマCVDと原子層堆積 (ALD) プロセス、および、現在進行しつつあるプロセス開発におけるデジタル・トランスフォーメーション (DX) の最新研究動向についても、概要を紹介する。プラズマプロセスの初心者でも聴講できる講義内容を目指す。

背景
プラズマ科学の基礎
代表的なプラズマプロセス装置
1. 容量結合型プラズマ (CCP) 装置
2. 誘導結合型プラズマ (ICP) 装置
反応性イオンエッチング (RIE) の基礎
1. プラズマ表面相互作用
2. 表面帯電効果
3. シリコン系材料エッチング反応機構
4. 金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
5. 高アスペクト比 (HAR) エッチング概要
プラズマCVD概要:原子層堆積 (ALD) の基礎として
ALDプロセスの概要:原子層エッチング (ALE) の逆過程として
1. 熱ALD
2. プラズマ支援 (PA-) ALD
ALEプロセスの概要と最新技術動向
1. PA-ALE
2. 熱ALE:リガンド交換
3. 熱ALE:金属錯体形成
半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション (DX)
まとめ

質疑応答

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 50000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 40,000円(税別) / 44,000円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

アーカイブ配信セミナー

当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
視聴期間は2024年7月26日〜8月2日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

admin — Thu, 11 Apr 2024 15:25:51 +0000

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

～プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズム～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

このセミナーは2024年2月に開催したセミナーのオンラインセミナー:オンデマンド配信です。
オンラインセミナーは、お申し込み日より10営業日の間、動画をご視聴いただけます。
お申込は、2024年7月30日まで受け付けいたします。
(収録日:2024年2月16日 ※映像時間:約5時間33分)

概要

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

開催日

2024年7月30日(火) 10時00分～ 17時00分

受講対象者

プラズマCVDの応用分野の技術者、研究者
- 太陽光発電
- ハイバリア成膜
- 親水・撥水
- ディスプレイ
- 集積回路
- ミニマルファブなど

修得知識

目的に応じたプラズマ源の選定指針
ガス流量、圧力、投入電力、基板温度などの操作パラメータと成膜プロセスとの関係

プログラム

　産業界で高品質なプラズマCVD膜の得るための仕事に従事する方々は、プラズマ源の選定から装置パラメータの設定に至る意思決定をする立場にあると思います。この意思決定を適切に行うためには、各種のプラズマ源の特徴を把握しておく必要があります。
　また、そのプラズマ源を用いたリアクター内で起こる物理・化学的現象が、各種パラメータを変えるとどうなるのか、更にそれが膜質にどのように反映されるのかを把握しておく必要があります。
　本講座では、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムを理解して頂くことを趣旨としました。

なぜプラズマCVD?
1. ドライだから
2. 低温だから
3. 段差被覆性に優れるから
4. 機能性官能基を含有できるから
5. 非平衡だから
プラズマと気体放電の基礎
1. プラズマの温度
  - 低温大気圧プラズマはどうしてできるのか?
2. 壁との境界「シース」
  - プロセスでは表面近傍の理解が大切
3. 放電によるプラズマ生成の基礎 (Townsendの放電理論とPaschenの法則)
  - そもそも放電しないと話にならないが、放電しやすい/しにくいは何で決まる?
各種プラズマ生成方式 (プラズマ源)
1. 直流放電プラズマ
  - 応用範囲は狭いが、まずはこれで基本原理を理解
  - プラズマ中の電位構造を理解することで、イオン衝撃の制御法がわかる
2. 高周波放電プラズマ
  - 電極を向かい合わせたらよい?ちがいます電極非対象とコンデンサが重要!
3. 高密度プラズマ源は何故高密度か?
  - 電子の直進か回転かが密度の決め手
プラズマ化学工学
1. 制御パラメータと内部パラメータ
  - 操作できるのは何か、実際には何が変わるのか?
2. プラズマ中の電子のエネルギー分布
  - 電子のエネルギーは数十eVまで拡がる
3. 電子衝突により一次反応
  - 電子衝突解離で何ができるのか? それは制御可能なのか?
4. 二次反応とその影響
  - 電子衝突解離で何が生成されるかが関係無い、ということもある
5. 気相から表面までの輸送過程
  - 通常は拡散だが、イオンのドリフトを使うとイオン衝撃効果を援用できる
薄膜堆積プロセスの理解と応用技術
1. 表面プロセスの概要
  - まずは、「膜形成の前駆体が降ってきて、それが付着する」という単純な視点から
2. 膜構造形成過程の基本的描像
  - 前駆体が持つエネルギーの大小で着地後の振る舞いが変わり、膜構造が変わる
3. 膜の構造と電子材料としての物性
  - 欠陥とは何か? 何故形成されるのか?
4. 膜構造形成過程と膜物性
  - 最も良く理解されているa-Si:HのプラズマCVDの描像を例にとって
  - 欠陥を減らすには何を操作するとよい?
5. 成膜速度と基板温度
  - 成膜速度の向上のためには、基板温度は高くする? それとも低くする?
6. イオン衝撃の効能
  - 制御によって毒にも薬にもなる
7. 機能基の含有
  - 電子エネルギー分布の制御と二次反応の賜物

質疑応答

ページのトップヘ

講師

白藤立氏
大阪市立大学大学院工学研究科

教授

ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー株式会社

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 40000円 (税別) / 44,000円 (税込)

複数名

: 27500円 (税別) / 30,250円 (税込)

複数名受講割引

2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
他の割引は併用できません。
サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

オンデマンドセミナーの留意点

申込み後、すぐに視聴可能なため、本セミナーのキャンセルは承りかねます。 予めご了承ください。
録画セミナーの動画をお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
お申し込み前に、視聴環境をご確認いただき、視聴テストにて動作確認をお願いいたします。
3営業日後までに、メールをお送りいたします。
視聴期間は申込日より10営業日の間です。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
動画視聴・インターネット環境をご確認ください
- セキュリティの設定や、動作環境によってはご視聴いただけない場合がございます。
- サンプル動画が閲覧できるかを事前にご確認いただいたうえで、お申し込みください。
本セミナーの録音・撮影、複製は固くお断りいたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

低温大気圧プラズマによる各種基材への表面処理、その応用例

admin — Thu, 30 May 2024 13:49:57 +0000

低温大気圧プラズマによる各種基材への表面処理、その応用例

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、低温大気圧プラズマについて基礎から解説し、表面改質の経時変化と保持の考え方、低温かつ高速処理の両立、接着前処理、コーティング、医療など豊富な事例と共に解説いたします。

開催日

2024年7月23日(火) 10時30分～ 16時15分

修得知識

大気圧プラズマの原理・特徴と応用
表面改質の原理、メカニズム
ウエット工程前処理の考え方
プラズマ表面改質の経時変化と保持の考え方

大気圧プラズマの最新装置の開発現状
大気圧プラズマの様々な応用例
プラズマの有効な利用法

プログラム

第1部低温大気圧プラズマ装置の動作原理と各種基材に対する表面改質

(2024年7月23日 10:30〜14:30) ※途中、お昼休憩含む

　大気圧プラズマの装置の種類と特徴及び表面改質に注目し、プラズマ照射により材料表面で生じている現象や界面化学の観点による解説から、表面改質や機能性発現技術の基礎ついて解り易く解説する。

真空プラズマと大気圧プラズマ (登尾)
1. プラズマの基礎
2. プラズマ発生の原理
3. 各プラズマの特徴
大気圧プラズマの種類 (登尾)
1. 放電方式による分類と各方式の特徴
2. ダメージフリーなプラズマの生成
大気圧プラズマ装置の特徴 (登尾)
1. 装置としての特徴
2. 具体的応用例、開発例紹介
大気圧プラズマによる表面改質の原理 (山原)
1. 大気圧プラズマによる表面改質メカニズム
2. 表面改質条件による表面状態
表面科学・界面化学と濡れ性 (山原)
1. 濡れ性について
2. ウエット工程の前処理の考え方
親水性表面処理 (山原)
1. 各種材料に於ける親水性処理について
2. 親水性表面の機能性と応用について
処理効果の経時変化 (山原)
1. 各種材料に於ける親水性処理効果の経時変化
2. 経時変化のメカニズム
3. 処理効果保持技術とその考え方
表面改質の応用・発展 (山原)
まとめと今後の課題 (山原)

質疑応答

第2部大気圧低温プラズマの最新装置開発と各種応用

(2024年7月23日 14:45〜16:15)

　本講演では、講師の最新の研究テーマである、マルチガスプラズマ、温度制御プラズマ、パーティクルフリープラズマなど新しい装置の開発、およびこれらを活かした高速表面処理、接着性改善、酸化膜還元、殺菌処理、環境浄化、皮膚等付着物分析、美容・医療・農業応用などの研究成果をご紹介します。

新しい大気圧低温プラズマ
1. マルチガスプラズマ
2. 零下から高温までの温度制御プラズマ
3. クリーンルーム対応パーティクルフリープラズマ
4. 大流量処理対応大面積多層構造プラズマ
大気圧低温プラズマの応用例
1. 表面処理 (接着前処理,酸化膜還元,コーティング等) への応用
2. 殺菌・美容・医療・農業分野への応用
3. 環境浄化・分析への応用
4. プラズマとバブル,超音波,紫外線,赤外線等のハイブリッド処理

質疑応答

ページのトップヘ

講師

登尾一幸氏
株式会社魁半導体技術部

課長
山原基裕氏
株式会社魁半導体プロセス開発部

指導役
沖野晃俊氏
東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所

准教授

ページのトップヘ

主催

株式会社技術情報協会

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 50000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名

: 45000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
他の割引は併用できません。

アカデミック割引

1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方

支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
印刷物は後日お手元に届くことになります。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

admin — Thu, 14 Mar 2024 07:10:53 +0000

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

～反応性イオンエッチング、プラズマ支援原子層エッチング (PA-ALE) 、熱原子層エッチング (thermal ALE) など～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2024年7月26日〜8月2日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2024年7月31日まで承ります。

概要

開催日

2024年7月22日(月) 10時30分～ 16時30分

修得知識

エッチング用プラズマ装置の基礎
プラズマエッチングにおける物質表面化学反応の基礎
反応性イオンエッチング、プラズマ支援原子層エッチング (PA-ALE) 、熱原子層エッチング (thermal ALE) の特徴と応用

プログラム

背景
プラズマ科学の基礎
代表的なプラズマプロセス装置
1. 容量結合型プラズマ (CCP) 装置
2. 誘導結合型プラズマ (ICP) 装置
反応性イオンエッチング (RIE) の基礎
1. プラズマ表面相互作用
2. 表面帯電効果
3. シリコン系材料エッチング反応機構
4. 金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
5. 高アスペクト比 (HAR) エッチング概要
プラズマCVD概要:原子層堆積 (ALD) の基礎として
ALDプロセスの概要:原子層エッチング (ALE) の逆過程として
1. 熱ALD
2. プラズマ支援 (PA-) ALD
ALEプロセスの概要と最新技術動向
1. PA-ALE
2. 熱ALE:リガンド交換
3. 熱ALE:金属錯体形成
半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション (DX)
まとめ

質疑応答

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 50000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー

「Zoom」を使ったライブ配信またはアーカイブ配信セミナーのいずれかをご選択いただけます。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は、PDFファイルを配布予定です。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

ライブ配信セミナーをご希望の場合

Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

アーカイブ配信セミナーをご希望の場合

当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
視聴期間は2024年7月26日〜8月2日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

大気圧プラズマの基礎知識

admin — Thu, 25 Apr 2024 15:38:05 +0000

大気圧プラズマの基礎知識

～プラズマの発生からプラズマ診断、産業応用まで～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、大気圧プラズマの研究開発を行う上で必要となる基本的な考え方、特有の物理科学現象、簡易的なプラズマの診断手法、最新の応用について実例を挙げて解説いたします。
また、プラズマが不得意とする領域への代替手段として用いられるレーザーの基礎知識と応用例についても紹介いたします。

開催日

2024年6月27日(木) 10時30分～ 16時30分

修得知識

プラズマの基礎、考え方、用語、特有の物理科学現象
プラズマの研究/実応用時に生じるトラブルに対して、プラズマ診断を用い、原因を探れるようになる
大気圧プラズマに関する最近の動向
大気圧プラズマによる処理が困難な事案とレーザーによる代替の提案

プログラム

　大気圧プラズマは、真空容器が必要なく、まるでカラースプレーを吹きかけるかのようにプラズマ処理を行えるのが特徴である。このため、大気圧プラズマの導入は比較的敷居が低い。その反面、プラズマの基礎知識が無いまま闇雲に実験を進め、十分な成果が上げられない、あるいは、無駄な遠回りをしてようやく成功にたどり着く、といった事例を多く見かける。
　本講演では、前半部でプラズマがいかなるものか、と、「正しく、そして簡単なプラズマの診断方法」を基礎から解説する。こうした大気圧プラズマのバックグランドを備えたうえで、最新の大気圧プラズマの活用法を後半部で時間の許す限り紹介する。これにより、効率の高い「プラズマ技術の導入」が可能となることを願っている。
　また、プラズマでの対応が難しい局面において、レーザーを使う事案も増えてきたことから、レーザーに関する基礎知識と応用についても触れる。

プラズマを理解する
1. 自然界/人工のプラズマ
2. プラズマの種類と性質
3. プラズマの発生方法
大気圧プラズマ
1. 真空 (減圧) プラズマと大気圧プラズマの差異
2. 大気圧プラズマに特有の挙動
3. 大気圧プラズマ装置の種類と構成
4. 大気圧プラズマ実験の勘所
5. 新しい大気圧プラズマのご紹介
プラズマ診断
1. プラズマ診断とは
2. さまざまなプラズマ診断手法
3. 実践的なプラズマ診断の手順
4. プラズマ診断結果の解析法
5. プラズマ診断用の分光器の勘所
大気圧プラズマの応用例
1. 親水化、撥水化、クリーニング、酸化膜除去
2. 皮膜、不純物除去
3. 殺菌、医療
4. 水処理
5. 化学分析
レーザー/レーザー誘起プラズマ
1. レーザーの種類・パラメータの理解とレーザー装置の最新の動向
2. レーザー誘起プラズマ
3. レーザー/レーザー誘起プラズマの応用例
まとめ

質疑応答

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 50000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマエッチング装置・プロセスにおける不良発生の検知技術と部材のプラズマ耐性向上技術

admin — Fri, 19 Apr 2024 06:06:25 +0000

プラズマエッチング装置・プロセスにおける不良発生の検知技術と部材のプラズマ耐性向上技術

～パーティクル対策、プロセス異常モニタリング、部材の腐食・プラズマ耐性評価 etc.～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

ライブ配信セミナーには、特典としてアーカイブ配信が付きます。
アーカイブ配信の視聴期間は、2024年6月21日〜27日を予定しております。
ライブ配信を受講しない場合は、「アーカイブ配信」をご選択ください。

概要

本セミナーでは、レガシーファブの量産ラインの前工程において装置稼働率や歩留まりの向上に必要となる製造技術について扱います。
前工程の中でも特に収益性に関わりが大きいプラズマプロセスであるプラズマエッチングプロセス及び装置に必要となる技術について、不良発生の抑止や予知保全、メンテナンス費用削減、装置機差の低減等に資する技術について解説いたします。

開催日

2024年6月20日(木) 10時30分～ 16時30分

プログラム

　現在、半導体はもはや産業上の一部品としてではなく、経済安全保障に関わる極めて重要な「特定重要物資」として扱われています。半導体製造技術の最先端では2nm、更にはより以細な製造技術の研究開発も進められています。その一方、国内半導体産業の特長の一つは、車載用マイコンやパワーデバイスを始めとして最先端の微細製造技術を必ずしも必要としない半導体デバイスに競争力を有することです。
　本セミナーでは、後者の製造を多く担う、いわゆるレガシーファブの量産ラインの前工程において装置稼働率や歩留まりの向上に必要となる製造技術について扱います。前工程の中でも特に収益性に関わりが大きいプラズマプロセスであるプラズマエッチングプロセス及び装置に必要となる技術について、不良発生の抑止や予知保全、メンテナンス費用削減、装置機差の低減等に資する技術について紹介、解説します。

はじめに
1. 半導体業界の動向
2. 半導体製造工程
3. 製造工程におけるプラズマプロセス
4. 量産ラインにおける課題
5. 半導体製造効率、歩留まり
6. プラズマエッチング
プラズマエッチングプロセスにおけるパーティクル課題
1. パーティクル対策の必要性
2. パーティクルのその場検出手法
3. パーティクルの発生メカニズム
4. パーティクルの突発的多量発生
プラズマプロセスにおける異常モニタリング・検出技術
1. プロセス異常モニタリングの必要性
2. 異常モニタリング・検出手法
3. 異常放電
4. アコースティックエミッション法によるプロセスモニタリング技術
5. プラズマインピーダンスモニタリングによる異常検出・プロセス診断技術
プラズマ耐性材料とその評価技術
1. プロセスチャンバー用部品部材の腐食とパーティクル発生
2. 高プラズマ耐性材料へのニーズ
3. 部品部材のプラズマ耐性評価手法〜セラミックス部材を例として

質疑応答

ページのトップヘ

講師

笠嶋悠司氏
国立研究開発法人産業技術総合研究所センシングシステム研究センター複合センシングデバイス研究チーム

主任研究員

ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー株式会社

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 36200円 (税別) / 39,820円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込)

ah3. 複数名受講割引

2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 36,200円(税別) / 39,820円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
他の割引は併用できません。
サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマCVDによるナノ・微粒子材料の作製技術とプロセスモニタリング

admin — Wed, 03 Apr 2024 13:11:14 +0000

プラズマCVDによるナノ・微粒子材料の作製技術とプロセスモニタリング

～ナノ・微粒子材料合成への応用と制御に向けたその場計測～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、プラズマの物理的・化学的基礎から始めて、プラズマ発生装置、プラズマCVD、プロセス解析のための計測方法、プロセスのモニタリング・制御、材料合成への応用、特にナノ・微粒子材料合成の方法について分かりやすく解説いたします。

開催日

2024年6月5日(水) 10時30分～ 16時30分

プログラム

　本セミナーでは、プラズマの物理的・化学的基礎から始めて、プラズマ発生装置、プラズマCVD、プロセス解析のための計測方法、プロセスのモニタリング・制御、材料合成への応用、特にナノ・微粒子材料合成の方法について分かりやすく講述する。
　プラズマ化学反応を利用した材料合成・加工の技術に関する研究開発には50年ほどの歴史がある。特に半導体・電子産業において著しい進展があり、最近はナノ・微粒子材料の作製や、医療・環境・農業などの分野へも展開がなされている。プラズマは高いエネルギーの状態にあり、制御次第で、高速の電子やイオンを利用して効果的かつ自在に材料の合成・加工を行える潜在性を有し、様々な応用がなされてきた。しかし反面、非線形・自己組織化的特徴があり、周囲の環境などに敏感に応答して変化するため、プロセスの最適化や再現性についての課題もある。
　したがって、プラズマプロセスを真に有用な技術として利用するには、プラズマの物理を理解し、現象をその場でモニタリング・解析しながら制御することが重要となる。

プラズマの基礎
1. プラズマの物理
2. プロセスプラズマの発生
3. 原子・分子からイオン・ラジカルの生成
プラズマ装置とプラズマプロセス
1. プラズマ発生装置と種類
2. プラズマCVDの基礎
  - プラズマCVD技術の発展
  - 真空技術とプロセス工学
  - プラズマCVDによる材料合成
  - 気相反応と表面反応
プラズマプロセスのモニタリング
1. プロセスモニタリングの必要性
2. 気相と表面の計測とモニタリング
3. 偏光を利用したモニタリング
ナノ・微粒子材料のプラズマCVD
1. ナノ・微粒子材料の作製
2. 気相・表面での核発生
3. カーボンナノチューブとグラフェンの成長
4. ナノ材料成長過程のインプロセスモニタリング

質疑応答

ページのトップヘ

講師

林康明氏
林R&D

代表

ページのトップヘ

主催

株式会社技術情報協会

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 50000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名

: 45000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
他の割引は併用できません。

アカデミック割引

1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方

支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
印刷物は後日お手元に届くことになります。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

admin — Wed, 03 Apr 2024 14:16:20 +0000

半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

～装置メーカーの立場から、プラズマCVD装置の技術/課題と対策を解説～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

視聴期間は2024年6月4日〜17日を予定しております。
お申し込みは2024年6月4日まで承ります。

概要

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

開催日

2024年6月4日(火) 13時00分～ 2024年6月17日(月) 16時30分

受講対象者

プラズマCVDの応用分野の技術者、研究者
- 太陽光発電
- ハイバリア成膜
- 親水・撥水
- ディスプレイ
- 集積回路
- ミニマルファブなど

修得知識

プラズマCVD装置の基礎
プラズマCVDの開発技術、周辺技術
プラズマCVD技術の課題と対策

プログラム

プラズマCVD装置の基本構造
1. プラズマCVD装置の構成
2. 反応チャンバーの基本構成
プラズマCVD装置の用途
1. 適用アプリケーション
プラズマCVD装置のプロセス性能
1. SiH4系SiO2膜
2. SiH4系SiN膜
3. SiH4系SiON膜
4. SiH4系a-Si膜
5. SiH4系SiC膜
6. TEOS系SiO2膜
7. 液体ソース系SiN膜
開発用装置と量産用装置
1. プラットフォーム
プラズマCVD装置の課題と対策
1. 高レート化
2. プロセスの再現性
3. 低パーティクル
4. チャンバークリーニング
5. ウェーハ温度の低温化
6. ウェーハ大口径化など

質疑応答

ページのトップヘ

講師

金尾寛人氏
SPPテクノロジーズ株式会社製造部

次長

ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー株式会社

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 32400円 (税別) / 35,640円 (税込)

複数名

: 22500円 (税別) / 24,750円 (税込)

複数名受講割引

2名様でお申込みの場合、1名あたり 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。
3名様以上でお申込みの場合、1名あたり 20,000円(税別) / 22,000円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 32,400円(税別) / 35,640円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 60,000円(税別) / 66,000円(税込)
同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
他の割引は併用できません。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

アーカイブ配信セミナー

「ビデオグ」を使ったアーカイブ配信セミナーとなります。
当日のセミナーを、後日にお手元のPCなどからご視聴ができます。
お申し込み前に、視聴環境をご確認いただき、視聴テストにて動作確認をお願いいたします。
別途、ID,パスワードをメールにてご連絡申し上げます。
視聴期間は2024年6月4日〜17日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

admin — Wed, 03 Apr 2024 14:15:27 +0000

半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

～装置メーカーの立場から、プラズマCVD装置の技術/課題と対策を解説～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2024年6月4日〜17日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2024年6月4日まで承ります。

概要

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

開催日

2024年5月22日(水) 13時00分～ 16時30分

受講対象者

プラズマCVDの応用分野の技術者、研究者
- 太陽光発電
- ハイバリア成膜
- 親水・撥水
- ディスプレイ
- 集積回路
- ミニマルファブなど

修得知識

プラズマCVD装置の基礎
プラズマCVDの開発技術、周辺技術
プラズマCVD技術の課題と対策

プログラム

プラズマCVD装置の基本構造
1. プラズマCVD装置の構成
2. 反応チャンバーの基本構成
プラズマCVD装置の用途
1. 適用アプリケーション
プラズマCVD装置のプロセス性能
1. SiH4系SiO2膜
2. SiH4系SiN膜
3. SiH4系SiON膜
4. SiH4系a-Si膜
5. SiH4系SiC膜
6. TEOS系SiO2膜
7. 液体ソース系SiN膜
開発用装置と量産用装置
1. プラットフォーム
プラズマCVD装置の課題と対策
1. 高レート化
2. プロセスの再現性
3. 低パーティクル
4. チャンバークリーニング
5. ウェーハ温度の低温化
6. ウェーハ大口径化など

質疑応答

ページのトップヘ

講師

金尾寛人氏
SPPテクノロジーズ株式会社製造部

次長

ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー株式会社

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 32400円 (税別) / 35,640円 (税込)

複数名

: 22500円 (税別) / 24,750円 (税込)

複数名受講割引

2名様でお申込みの場合、1名あたり 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。
3名様以上でお申込みの場合、1名あたり 20,000円(税別) / 22,000円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 32,400円(税別) / 35,640円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 60,000円(税別) / 66,000円(税込)
同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
他の割引は併用できません。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー

ライブ配信またはアーカイブ配信セミナーのいずれかをご選択いただけます。

ライブ配信セミナーをご希望の場合

「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

アーカイブ配信セミナーをご希望の場合

「ビデオグ」を使ったアーカイブ配信セミナーとなります。
当日のセミナーを、後日にお手元のPCなどからご視聴ができます。
お申し込み前に、視聴環境をご確認いただき、視聴テストにて動作確認をお願いいたします。
別途、ID,パスワードをメールにてご連絡申し上げます。
視聴期間は2024年6月4日〜17日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマによる表面改質技術の基礎と応用

admin — Fri, 29 Mar 2024 09:27:39 +0000

プラズマによる表面改質技術の基礎と応用

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、プラズマ照射により材料表面で生じている現象等、基礎事項の解説から、各種材料 (金属、ポリマー等) の表面改質や機能性発現技術までわかりやすく解説いたします。

開催日

2024年5月21日(火) 12時30分～ 16時30分

修得知識

プラズマによる表面改質の原理
プラズマ表面改質効果の経時変化とその原理
プラズマ表面改質による発現可能な機能性
プラズマ表面改質技術の適応範囲の広さと応用例

プログラム

　近年、各種材料表面の高機能化の社会的ニーズが益々の拡大される中、従来主流とされた有機溶媒や触媒を用いたウエットプロセスから環境に優しいドライプロセス技術の開発が求められている。
　本講座では、最近注目されている各種ドライプロセスの中で、プラズマによる表面改質に注目し、プラズマ照射により材料表面で生じている現象や界面化学の観点による解説から、各種材料 (金属、ポリマー等) の表面改質や機能性発現技術の基礎から応用について解り易く解説する。また、講義では単なる一方向的な講義ではなく、受講者からの質問に対して、その都度答える双方向の講義としたい。

プラズマによる表面改質の原理
1. プラズマ状態について
2. プラズマによる表面改質メカニズム
3. 表面改質条件による表面状態
4. 各種表面改質特性について
表面科学・界面化学と濡れ性
1. 表面・界面
2. 気体と液体の界面
3. 気体と固体の界面
4. 液体と固体の界面
5. 濡れ性について
6. ウエット工程の前処理の考え方
親水性表面処理
1. 各種材料に於ける親水性処理について
2. 真空プラズマによる親水性処理のプロセスについて
3. 大気圧プラズマによる親水性処理のプロセスについて
4. 親水性表面の機能性と応用について
撥水性表面処理
1. 撥水親油性処理と撥水撥油性処理について
2. 撥水性処理プロセスについて
3. 撥水性表面の機能性と応用について
処理効果の経時変化
1. 各種材料に於ける親水性処理効果の経時変化
2. 経時変化のメカニズム
3. 撥水性処理効果にも経時変化はあるのか?
4. 処理効果保持技術とその考え方
表面改質の応用・発展 (2024年版)
まとめと今後の課題

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 45000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名

: 22500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 36,000円(税別) / 39,600円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 36,000円(税別) / 39,600円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマプロセスにおける基礎と半導体微細加工へのプラズマによるエッチングプロセス

admin — Wed, 03 Apr 2024 13:54:43 +0000

プラズマプロセスにおける基礎と半導体微細加工へのプラズマによるエッチングプロセス

～半導体製造において必須:プラズマプロセッシング～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、プラズマの性質やプラズマ中で起こっている基本的な現象 (電離、解離、拡散、消滅) を解説するとともに、半導体微細加工において重要なパラメータとなる壁へのイオンや化学活性種のフラックス量がどのような過程で決定づけられているかを説明いたします。

開催日

2024年5月21日(火) 10時30分～ 16時30分

修得知識

プラズマの基礎
エッチングプロセス実現のためのプラズマ制御の基本指針
半導体微細加工において重要なパラメータ
壁へのイオンや化学活性種のフラックス量
半導体プロセスに用いられるプラズマ源、反応性イオンエッチングの表面現象

プログラム

　さまざまな表面化学反応を低温で実現できるプラズマプロセスは半導体製造において必須のプロセスです。
　本講座はプラズマの性質やプラズマ中で起こっている基本的な現象 (電離、解離、拡散、消滅) を解説するとともに、半導体微細加工において重要なパラメータとなる壁へのイオンや化学活性種のフラックス量がどのような過程で決定づけられているかを説明します。
　また、半導体プロセスで用いられるさまざまなプラズマ源の特徴、反応性イオンエッチングにおいて表面で起こっている現象を説明するとともに、近年の動向である二周波重畳プラズマの必要性と課題についても触れていきます。

プラズマとは
1. 半導体プロセスにおけるプラズマの必要性
2. 化学活性種の低温生成
3. イオンの活用
プラズマ中での荷電粒子のふるまい
1. 電子のエネルギー分布
2. 電界の遮蔽
3. プラズマの振動とプラズマ周波数
プラズマ中における粒子間衝突 (荷電粒子や化学活性種の生成)
1. 衝突の種類
2. 衝突断面積
3. 平均値としての衝突頻度
4. 原子・分子のもつ内部エネルギー
プラズマと壁 (荷電粒子や化学活性種の消失)
1. 荷電粒子の損失
  - シースの形成とボーム速度
  - 壁への損失フラックス
2. 化学活性種の損失
  - 壁へのランダムフラックス
  - 表面損失の確率
プラズマの生成と損失のバランス
1. 荷電粒子の生成と消滅のバランス
2. 化学活性種の生成と消滅のバランス
3. エネルギーのバランス
プラズマの作り方
1. 容量結合型プラズマ
2. 誘導結合型プラズマ
3. マイクロ波プラズマ
反応性イオンエッチング
1. 反応性イオンエッチング (RIE) とは
2. RIE表面において起こっている現象
3. 選択性の発現
4. イオンの入射角度分布と高エネルギーイオン入射の必要性
容量結合型プラズマによるエッチングプロセス
1. 容量結合型プラズマの長所と短所
2. プロセススループット向上のためのプラズマの高密度化
3. 容量結合型プラズマにおける自己バイアス発生とイオンのエネルギー分布形成
4. なぜ二周波重畳プラズマなのか
5. 粒子の滞在時間と真空装置の高排気速度化の重要性
6. 電源高周波化にともなう課題

質疑応答

ページのトップヘ

講師

豊田浩孝氏
名古屋大学工学研究科電子工学専攻

教授

ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー株式会社

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 36200円 (税別) / 39,820円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込)

複数名受講割引

2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 36,200円(税別) / 39,820円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
他の割引は併用できません。
サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
印刷物は後日お手元に届くことになります。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

半導体ドライエッチングの基礎と原子層プロセスの最新動向

admin — Tue, 12 Mar 2024 06:22:42 +0000

半導体ドライエッチングの基礎と原子層プロセスの最新動向

～基礎となる物理化学原理から解説する～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

概要

開催日

2024年4月23日(火) 10時00分～ 16時30分

修得知識

プラズマプロセスの基礎知識
ドライエッチングの基礎知識
原子層エッチング (ALE) の基礎知識と最新技術動向

プログラム

　本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説する。
　具体的には、ドライエッチングに用いられるプラズマ装置、装置内のプラズマの構造やダイナミクス、気相反応、および、反応性イオンエッチング (RIE) から、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) にわたるドライエッチング技術に関して、プラズマ物質相互作用の物理機構から最新技術動向まで、詳しく紹介する。関連項目として、プラズマCVDと原子層堆積 (ALD) プロセス、および、現在進行しつつあるプロセス開発におけるデジタル・トランスフォーメーション (DX) の最新研究動向についても、概要を紹介する。プラズマプロセスの初心者でも聴講できる講義内容を目指す。

背景
プラズマ科学の基礎
代表的なプラズマプロセス装置
1. 容量結合型プラズマ (CCP) 装置
2. 誘導結合型プラズマ (ICP) 装置
反応性イオンエッチング (RIE) の基礎
1. プラズマ表面相互作用
2. 表面帯電効果
3. シリコン系材料エッチング反応機構
4. 金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
5. 高アスペクト比 (HAR) エッチング概要
プラズマCVD概要:原子層堆積 (ALD) の基礎として
ALDプロセスの概要:原子層エッチング (ALE) の逆過程として
1. 熱ALD
2. プラズマ支援 (PA-) ALD
ALEプロセスの概要と最新技術動向
1. PA – ALE
2. 熱ALE:リガンド交換
3. 熱ALE:金属錯体形成
半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション (DX)
まとめ

ページのトップヘ

講師

浜口智志氏
大阪大学大学院工学研究科

教授

ページのトップヘ

主催

株式会社トリケップス

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 49000円 (税別) / 53,900円 (税込)

1口

: 60000円 (税別) / 66,000円 (税込) (3名まで受講可)

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

大気圧プラズマの基礎と応用展開

admin — Tue, 30 Jan 2024 09:53:09 +0000

大気圧プラズマの基礎と応用展開

～マルチガス・温度制御・パーティクルフリーを活かす～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、親水化処理、接着性向上、クリーニング等の分野で応用が広がる大気圧プラズマについて、基礎から分かりやすく解説いたします。
また、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

開催日

2024年3月28日(木) 10時30分～ 16時30分

受講対象者

プラズマに関連する技術者
プラズマの応用に関連する技術者
- プラズマ表面処理
- プロセシング・新材料創成
- 医療・バイオ分野
- 殺菌・滅菌処理
- 環境浄化
- 微量元素分析など
プラズマで課題を抱えている方

修得知識

大気圧プラズマの基礎
最新装置の開発現状
大気圧プラズマの様々な応用例
プラズマの有効な利用法

プログラム

　大気圧プラズマは真空容器や排気設備を必要とせず、また高密度な活性種を生成できるため、産業応用には大変多くのメリットがあります。このため、ここ数年、材料表面の親水化処理、接着性の向上、クリーニング等の分野で急速に利用され始めています。学術的にも、IEEEの国際会議では2005年には1%以下だった大気圧プラズマの発表件数が、近年では半数を超えて激増しています。しかし、大気圧プラズマの発生や利用法についてはブラックボックス的な部分が多いため、産業応用へのしきいが高いのも事実です。
　そこで本講演では、前半で大気圧プラズマの物理や基本的な装置構成をわかりやすく解説し、後半で講師の最新の研究テーマである、マルチガスプラズマ、温度制御プラズマ、パーティクルフリープラズマなど新しい装置の開発、およびこれらを活かした高速表面クリーニング、接着性改善、酸化膜還元、殺菌処理、環境浄化、皮膚等付着物分析、美容・医療・農業応用などにスポットをあてて研究成果をご紹介します。

大気圧プラズマの基礎
1. なぜ大気圧プラズマ?
2. プラズマの特長
3. 大気圧プラズマの生成法
4. プラズマ中の原子・分子過程
5. プラズマの物理
大気圧高温プラズマと応用
1. 大気圧高温プラズマ
2. ガス分解処理
3. 半導体表面処理
大気圧低温プラズマ
1. 低温プラズマとは
2. リモートプラズマ
3. マルチガスプラズマ
4. プラズマガス種と生成される活性種
5. 温度制御プラズマ
6. クリーンルーム対応パーティクルフリープラズマ
大気圧低温プラズマの応用例
1. 表面処理への応用
  - 接着前処理
  - 酸化膜還元
  - コーティング等
2. 殺菌・美容・医療・農業分野への応用
3. 環境浄化・分析への応用
4. プラズマとバブル、超音波、紫外線、赤外線等のハイブリッド処理
大気圧プラズマの有効な利用法と近未来展望

質疑応答

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 50000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

大気圧プラズマの基礎と新しいプラズマ装置の開発・応用

admin — Fri, 08 Mar 2024 16:21:24 +0000

大気圧プラズマの基礎と新しいプラズマ装置の開発・応用

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

概要

開催日

2024年3月25日(月) 13時00分～ 16時30分

受講対象者

プラズマに関連する技術者
プラズマの応用に関連する技術者
- プラズマ表面処理
- プロセシング・新材料創成
- 医療・バイオ分野
- 殺菌・滅菌処理
- 環境浄化
- 微量元素分析など
プラズマで課題を抱えている方

修得知識

大気圧プラズマの基礎
最新装置の開発現状
大気圧プラズマの様々な応用例
プラズマの有効な利用法

プログラム

　大気圧プラズマは真空容器や排気設備を必要とせず、また高密度な活性種を生成できるため、金属やセラミックスだけではなく、プラスチック、繊維、皮膚、細胞などにも照射できるため、表面処理や医療・美容などの分野で注目を集めています。しかし、それぞれの応用にどんなプラズマ装置を使えばいいのか、どのように処理すればいいのか、がよくわからないという話をよく伺います。
　この講演では、これらの参考になる、大気圧プラズマの基礎を数式を使わずにご説明したあと、最新の装置の方式と特徴、応用例をご紹介します。

大気圧プラズマの生成法
1. なぜ大気圧プラズマ?
2. 大気圧プラズマの各種生成法とその特徴
大気圧プラズマの中身
1. プラズマ中では何が起こっているか
2. 大気圧プラズマの計測法
大気圧高温プラズマとその応用
1. 大気圧高純度マルチガスプラズマ
2. 気体の分解処理
3. 半導体プロセシング
大気圧低温プラズマの基礎と新しいプラズマ装置開発
1. マルチガス化の必要性
2. マルチガスプラズマによる表面処理・接着性向上
3. パーティクルフリーリニア型プラズマ
4. シャワーヘッド型プラズマ
5. プラズマによる気流発生
6. 零下から高温まで温度を精密制御できるプラズマ
大気圧低温プラズマの各種応用
1. 殺菌・ウイルス不活化
2. プラズマ処理水
3. ファインバブル、超音波、光等とのハイブリッド処理
4. 水耕栽培への応用
5. 植物のゲノム編集への応用
6. 止血処理への応用
7. 皮膚へのプラズマ照射
8. 大流量の気体処理
9. 金属酸化膜の還元処理
10. 生体分析への応用

ページのトップヘ

講師

沖野晃俊氏
東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所

准教授

ページのトップヘ

主催

株式会社トリケップス

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 47000円 (税別) / 51,700円 (税込)

1口

: 60000円 (税別) / 66,000円 (税込) (3名まで受講可)

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

admin — Mon, 20 Nov 2023 15:10:52 +0000

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

～プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズム～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

視聴期間は2024年2月29日〜3月13日を予定しております。
お申し込みは2024年2月29日まで承ります。

概要

開催日

2024年2月29日(木) 10時00分～ 2024年3月13日(水) 17時00分

受講対象者

プラズマCVDの応用分野の技術者、研究者
- 太陽光発電
- ハイバリア成膜
- 親水・撥水
- ディスプレイ
- 集積回路
- ミニマルファブなど

修得知識

目的に応じたプラズマ源の選定指針
ガス流量、圧力、投入電力、基板温度などの操作パラメータと成膜プロセスとの関係

プログラム

なぜプラズマCVD?
1. ドライだから
2. 低温だから
3. 段差被覆性に優れるから
4. 機能性官能基を含有できるから
5. 非平衡だから
プラズマと気体放電の基礎
1. プラズマの温度
  - 低温大気圧プラズマはどうしてできるのか?
2. 壁との境界「シース」
  - プロセスでは表面近傍の理解が大切
3. 放電によるプラズマ生成の基礎 (Townsendの放電理論とPaschenの法則)
  - そもそも放電しないと話にならないが、放電しやすい/しにくいは何で決まる?
各種プラズマ生成方式 (プラズマ源)
1. 直流放電プラズマ
  - 応用範囲は狭いが、まずはこれで基本原理を理解
  - プラズマ中の電位構造を理解することで、イオン衝撃の制御法がわかる
2. 高周波放電プラズマ
  - 電極を向かい合わせたらよい?ちがいます電極非対象とコンデンサが重要!
3. 高密度プラズマ源は何故高密度か?
  - 電子の直進か回転かが密度の決め手
プラズマ化学工学
1. 制御パラメータと内部パラメータ
  - 操作できるのは何か、実際には何が変わるのか?
2. プラズマ中の電子のエネルギー分布
  - 電子のエネルギーは数十eVまで拡がる
3. 電子衝突により一次反応
  - 電子衝突解離で何ができるのか? それは制御可能なのか?
4. 二次反応とその影響
  - 電子衝突解離で何が生成されるかが関係無い、ということもある
5. 気相から表面までの輸送過程
  - 通常は拡散だが、イオンのドリフトを使うとイオン衝撃効果を援用できる
薄膜堆積プロセスの理解と応用技術
1. 表面プロセスの概要
  - まずは、「膜形成の前駆体が降ってきて、それが付着する」という単純な視点から
2. 膜構造形成過程の基本的描像
  - 前駆体が持つエネルギーの大小で着地後の振る舞いが変わり、膜構造が変わる
3. 膜の構造と電子材料としての物性
  - 欠陥とは何か? 何故形成されるのか?
4. 膜構造形成過程と膜物性
  - 最も良く理解されているa-Si:HのプラズマCVDの描像を例にとって
  - 欠陥を減らすには何を操作するとよい?
5. 成膜速度と基板温度
  - 成膜速度の向上のためには、基板温度は高くする? それとも低くする?
6. イオン衝撃の効能
  - 制御によって毒にも薬にもなる
7. 機能基の含有
  - 電子エネルギー分布の制御と二次反応の賜物

質疑応答

ページのトップヘ

講師

白藤立氏
大阪市立大学大学院工学研究科

教授

ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー株式会社

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 40000円 (税別) / 44,000円 (税込)

複数名

: 27500円 (税別) / 30,250円 (税込)

複数名受講割引

2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
他の割引は併用できません。
サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

アーカイブ配信セミナー

「ビデオグ」を使ったアーカイブ配信セミナーとなります。
当日のセミナーを、後日にお手元のPCなどからご視聴ができます。
お申し込み前に、視聴環境をご確認いただき、視聴テストにて動作確認をお願いいたします。
別途、ID,パスワードをメールにてご連絡申し上げます。
視聴期間は2024年2月29日〜3月13日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

admin — Sun, 31 Dec 2023 04:52:37 +0000

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

～反応性イオンエッチング、プラズマ支援原子層エッチング (PA-ALE) 、熱原子層エッチング (thermal ALE) など～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2024年2月29日〜3月8日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2024年3月6日まで承ります。

概要

開催日

2024年2月26日(月) 10時30分～ 16時30分

修得知識

エッチング用プラズマ装置の基礎
プラズマエッチングにおける物質表面化学反応の基礎
反応性イオンエッチング、プラズマ支援原子層エッチング (PA-ALE) 、熱原子層エッチング (thermal ALE) の特徴と応用

プログラム

背景
プラズマ科学の基礎
代表的なプラズマプロセス装置
1. 容量結合型プラズマ (CCP) 装置
2. 誘導結合型プラズマ (ICP) 装置
反応性イオンエッチング (RIE) の基礎
1. プラズマ表面相互作用
2. 表面帯電効果
3. シリコン系材料エッチング反応機構
4. 金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
5. 高アスペクト比 (HAR) エッチング概要
プラズマCVD概要:原子層堆積 (ALD) の基礎として
ALDプロセスの概要:原子層エッチング (ALE) の逆過程として
1. 熱ALD
2. プラズマ支援 (PA-) ALD
ALEプロセスの概要と最新技術動向
1. PA-ALE
2. 熱ALE:リガンド交換
3. 熱ALE:金属錯体形成
半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション (DX)
まとめ

質疑応答

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 50000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー

「Zoom」を使ったライブ配信またはアーカイブ配信セミナーのいずれかをご選択いただけます。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は、PDFファイルを配布予定です。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

ライブ配信セミナーをご希望の場合

Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

アーカイブ配信セミナーをご希望の場合

当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
視聴期間は2024年2月29日〜3月8日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

admin — Mon, 20 Nov 2023 15:10:16 +0000

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

～プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズム～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2024年2月29日〜3月13日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2024年2月29日まで承ります。

概要

開催日

2024年2月16日(金) 10時00分～ 17時00分

受講対象者

プラズマCVDの応用分野の技術者、研究者
- 太陽光発電
- ハイバリア成膜
- 親水・撥水
- ディスプレイ
- 集積回路
- ミニマルファブなど

修得知識

目的に応じたプラズマ源の選定指針
ガス流量、圧力、投入電力、基板温度などの操作パラメータと成膜プロセスとの関係

プログラム

なぜプラズマCVD?
1. ドライだから
2. 低温だから
3. 段差被覆性に優れるから
4. 機能性官能基を含有できるから
5. 非平衡だから
プラズマと気体放電の基礎
1. プラズマの温度
  - 低温大気圧プラズマはどうしてできるのか?
2. 壁との境界「シース」
  - プロセスでは表面近傍の理解が大切
3. 放電によるプラズマ生成の基礎 (Townsendの放電理論とPaschenの法則)
  - そもそも放電しないと話にならないが、放電しやすい/しにくいは何で決まる?
各種プラズマ生成方式 (プラズマ源)
1. 直流放電プラズマ
  - 応用範囲は狭いが、まずはこれで基本原理を理解
  - プラズマ中の電位構造を理解することで、イオン衝撃の制御法がわかる
2. 高周波放電プラズマ
  - 電極を向かい合わせたらよい?ちがいます電極非対象とコンデンサが重要!
3. 高密度プラズマ源は何故高密度か?
  - 電子の直進か回転かが密度の決め手
プラズマ化学工学
1. 制御パラメータと内部パラメータ
  - 操作できるのは何か、実際には何が変わるのか?
2. プラズマ中の電子のエネルギー分布
  - 電子のエネルギーは数十eVまで拡がる
3. 電子衝突により一次反応
  - 電子衝突解離で何ができるのか? それは制御可能なのか?
4. 二次反応とその影響
  - 電子衝突解離で何が生成されるかが関係無い、ということもある
5. 気相から表面までの輸送過程
  - 通常は拡散だが、イオンのドリフトを使うとイオン衝撃効果を援用できる
薄膜堆積プロセスの理解と応用技術
1. 表面プロセスの概要
  - まずは、「膜形成の前駆体が降ってきて、それが付着する」という単純な視点から
2. 膜構造形成過程の基本的描像
  - 前駆体が持つエネルギーの大小で着地後の振る舞いが変わり、膜構造が変わる
3. 膜の構造と電子材料としての物性
  - 欠陥とは何か? 何故形成されるのか?
4. 膜構造形成過程と膜物性
  - 最も良く理解されているa-Si:HのプラズマCVDの描像を例にとって
  - 欠陥を減らすには何を操作するとよい?
5. 成膜速度と基板温度
  - 成膜速度の向上のためには、基板温度は高くする? それとも低くする?
6. イオン衝撃の効能
  - 制御によって毒にも薬にもなる
7. 機能基の含有
  - 電子エネルギー分布の制御と二次反応の賜物

質疑応答

ページのトップヘ

講師

白藤立氏
大阪市立大学大学院工学研究科

教授

ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー株式会社

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 40000円 (税別) / 44,000円 (税込)

複数名

: 27500円 (税別) / 30,250円 (税込)

複数名受講割引

2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
他の割引は併用できません。
サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー

ライブ配信またはアーカイブ配信セミナーのいずれかをご選択いただけます。

ライブ配信セミナーをご希望の場合

「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

アーカイブ配信セミナーをご希望の場合

「ビデオグ」を使ったアーカイブ配信セミナーとなります。
当日のセミナーを、後日にお手元のPCなどからご視聴ができます。
お申し込み前に、視聴環境をご確認いただき、視聴テストにて動作確認をお願いいたします。
別途、ID,パスワードをメールにてご連絡申し上げます。
視聴期間は2024年2月29日〜3月13日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

大気圧プラズマの基礎と最新応用技術

admin — Thu, 16 Nov 2023 09:52:33 +0000

大気圧プラズマの基礎と最新応用技術

～高速半導体プロセシング、高速親水化処理・クリーニング、コーティング、接着性の向上、金属酸化膜の超高速還元、殺菌・ウイルス不活化、排ガス処理、廃水処理、VOC (揮発性有機化合物) 分解、空気清浄システム、ポリマー表面の恒久的処理等などへの応用展開～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、用途が広がる大気圧プラズマについて取り上げ、大気圧プラズマの基礎から表面処理、医療、農業、環境等への応用技術まで解説いたします。

開催日

2024年1月31日(水) 10時30分～ 17時00分

修得知識

プラズマの予備知識を前提としない大気圧プラズマの基礎
大気圧プラズマ装置の種類と特徴と有効な応用法
新しい大気圧プラズマ装置の開発現状
大気圧高温・低温プラズマの工業・環境・医療等への応用例

大気圧プラズマの形成法と応用法
プラズマによるディーゼルエンジン排気のPM、NOx同時除去技術
プラズマによる排ガス処理技術
水中気液界面プラズマによる廃水処理技術
低温プラズマ複合処理によるVOC (揮発性有機化合物) 分解技術
プラズマ空気清浄システム
プラズマ複合プロセスによるフッ素樹脂フィルムの接着性向上技術
プラズマ複合プロセスによるガラス表面およびポリマー表面の恒久的処理技術

プログラム

第1部大気圧プラズマの基礎と新しいプラズマ装置の開発

(2024年1月31日 10:30〜14:20 ※途中50分程度の休憩を挟みます)

　大気圧プラズマは真空容器や排気設備を必要とせず、また高密度な活性種を生成できるため,産業応用には大変多くのメリットがあります。特に低温プラズマは、材料表面の親水化処理、接着性の向上、クリーニング等の分野で急速に利用され、ウイルスの不活化や殺菌への応用も進められています。
　しかし、大気圧プラズマの発生や使用法についてはブラックボックス的な部分が多いため、利用への敷居が高いのも事実です。本講座では、各種の大気圧プラズマ生成法とその特徴、プラズマ中で起こっている事をわかりやすく解説するとともに、最新の大気圧プラズマ装置の現状と、表面・粉体・液体・気体等の処理例を紹介します。

大気圧プラズマの基礎
1. 教科書に書かれているプラズマ
2. なぜ大気圧プラズマ?
3. 様々な大気圧プラズマの生成法とその特徴
4. プラズマ中では何が起こっているか
大気圧高温プラズマとその応用
1. 大気圧高純度マルチガスプラズマ
2. 地球温暖化ガスの分解
3. 高速半導体プロセシング
新しい大気圧低温プラズマとその応用
1. マルチガス化の必要性
2. マルチガスプラズマジェット
3. リニア型プラズマ
4. 大面積プラズマ
5. シャワーヘッド型プロズマ
6. 零下から高温まで温度を精密制御できるプラズマ
7. 高速親水化処理・クリーニング
8. コーティング、接着性の向上
9. 金属酸化膜の超高速還元
10. 殺菌、ウイルス不活化
11. プラズマ医療機器
12. ファインバブル、超音波、光等との併用
質疑応答

第2部大気圧プラズマの環境浄化および表面処理への応用

(2024年1月31日 14:30〜17:00)

　本講演でははじめに、大気圧プラズマの発生方法と発生メカニズムの基礎について実例をあげわかりやすく解説します。次に講師が開発した大気圧プラズマ複合処理技術の基礎と応用例を、分野の最新動向を交えながらわかりやすく解説します。例として環境浄化と表面処理への応用例を取り上げます。具体的には、ディーゼルエンジン排ガス処理、水中プラズマによる水浄化廃水処理、揮発性有機化合物 (VOC) 分解処理、空気清浄装置、フッ素樹脂フィルムの接着性向上技術、ガラス表面およびポリマー表面の恒久的処理技術などを選択して解説し、受講後、類似の開発を直ちに始めることができるような具体的情報を提供します。なお、研究途上の技術については実用化に向けた技術的課題、今後の見通しを述べます。

大気圧プラズマの発生方法と発生メカニズムの基礎
1. 大気圧プラズマと発生法
2. オゾン発生装置
3. 沿面放電方式
4. パックドベットプラズマリアクタ
5. プラズマジェット電極
6. プラズマ発生装置の例
7. 電流電圧電力波形
ディーゼルエンジン排気のPM、NOx同時除去
1. ディーゼルPM除去装置
2. PMの低温燃焼浄化
3. NOxの還元浄化
4. 船舶ディーゼルNOx除去の経時変化
水中気液界面プラズマによる廃水処理
1. プラズマ発生の原理と装置詳細
2. 電極による放電状態の違い
3. 代表的OHラジカル発生法比較
4. 各種計測・試験の結果とまとめ
低温プラズマ複合処理によるVOC (揮発性有機化合物) 分解技術
1. プラズマ発生の原理と装置詳細
2. プラズマ脱着を用いたVOC処理技術
3. 非熱プラズマ発生時の放電写真
4. 各種計測・研究の結果の例
プラズマ空気清浄システム
1. プラズマ脱臭の原理
2. 空気清浄機の構造と結果
3. プラズマ空気清浄のデモンストレーション
4. 各種計測・試験の結果
大気圧低温プラズマ発生法とフッ素樹脂フィルムの接着性向上技術
1. コロナ放電処理とプラズマ処理による親水化の理由
2. 大気圧プラズマグラフト重合処理装置
3. プラズマ装置と電子回路
4. フッ素樹脂フィルム処理の実験装置と実験条件
5. 接着性評価結果
6. テフロン表面へのめっきについて (プラズマ複合めっき処理)
7. A4サイズプラズマグラフト重合処理のデモンストレーション
大気圧プラズマ複合プロセスによるガラス表面およびポリマー表面の恒久的処理技術
1. 自動車のフロントガラスやサイドミラーの水滴除去
2. プラズマのみを照射した場合 (親水性向上)
3. プラズマ・ケミカル複合プロセスによる恒久的はっ水処理
質疑応答

ページのトップヘ

講師

沖野晃俊氏
東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所

准教授
大久保雅章氏
大阪公立大学大学院工学研究科

教授

ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー株式会社

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 36200円 (税別) / 39,820円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込)

複数名受講割引

2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 36,200円(税別) / 39,820円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
他の割引は併用できません。
サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

ライブ配信セミナーについて

本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門

admin — Sun, 29 Oct 2023 04:22:46 +0000

プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

視聴期間は2023年12月5日〜19日を予定しております。
お申し込みは2023年12月15日まで承ります。

概要

開催日

2023年12月15日(金) 12時30分～ 2023年12月19日(火) 16時30分

修得知識

半導体プロセスに用いられるプラズマの特徴と基礎
プラズマCVDの原理
Si系薄膜の膜質制御の考え方
ドライエッチングの原理
種々のエッチング手法

プログラム

　プラズマは、現在では産業の広い分野で日常的に使われています。しかし、プラズマの原理やプラズマを用いることの利点については、あまり系統的に学ぶ機会がないと思います。現在の応用だけでなく、今後道具としてさらにプラズマを利用していくためには、その物理的な考え方、特徴を理解することが不可欠になります。
　そこで、本セミナーでは、まず前半で薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマ (非平衡プラズマと呼ばれる) の生成機構や特徴について解説します。後半ではそれらを踏まえて、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法などについて説明します。

プラズマの基礎
1. プラズマ中の衝突現象とその定量的な取り扱い
2. 衝突反応の種類と反応速度定数の考え方
3. Boltzmann方程式
4. Boltzmann方程式から得られるプラズマの基礎方程式
  - 拡散方程式
  - 連続の式など
5. プラズマの生成 (直流放電プラズマ)
6. プラズマの生成 (容量性結合RF放電プラズマ)
7. プラズマの生成 (誘導性結合RF放電プラズマ)
8. プラズマの生成 (大気圧低温プラズマ)
プラズマCVD
1. プラズマCVDの特徴と原理 (アモルファスSi薄膜を中心に)
2. 代表的なプラズマCVD装置
3. 製膜パラメータの考え方
4. アモルファスSi堆積条件と高品質化
プラズマエッチング
1. プラズマエッチングの特徴と原理
  - 等方性
  - 異方性
2. 代表的なエッチング装置
3. エッチングダメージ
4. 終点検出の原理

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 45000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名

: 22500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

アーカイブ配信セミナー

当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
視聴期間は2023年12月5日〜19日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向

admin — Fri, 06 Oct 2023 15:26:49 +0000

ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向

～最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術 / 原子層エッチング (ALE:アトミックレイヤーエッチング) 技術 / プラズマCVD、原子層堆積 (ALD) プロセス、デジタル・トランスフォーメーション (DX)～

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

視聴期間は2023年12月6日〜19日を予定しております。
お申し込みは2023年12月6日まで承ります。

概要

開催日

2023年12月6日(水) 10時30分～ 2023年12月19日(火) 16時30分

修得知識

プラズマプロセスの基礎知識
ドライエッチングの基礎知識
原子層エッチング (ALE) の基礎知識と最新技術動向

プログラム

　本講座では、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを詳しく紹介する。
　関連項目として、プラズマCVDと原子層堆積 (ALD) プロセス、および、現在進行しつつあるプロセス開発におけるデジタル・トランスフォーメーション (DX) の最新研究動向についても、概要を紹介する。プラズマプロセスの初心者でも聴講できる講義内容を目指す。

背景
プラズマ科学の基礎
代表的なプラズマプロセス装置
反応性イオンエッチング (RIE) の基礎
1. プラズマ表面相互作用
2. 表面帯電効果
3. シリコン系材料エッチング反応機構
4. 金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
5. 高アスペクト比 (HAR) エッチング概要
プラズマCVD概要:原子層堆積 (ALD) の基礎として
ALDプロセスの概要:原子層エッチング (ALE) の逆過程として
1. 熱ALD
2. プラズマ支援 (PA – ) ALD
ALEプロセスの概要と最新技術動向
1. PA – ALE
2. 熱ALE:リガンド交換
3. 熱ALE:金属錯体形成
半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション (DX)
1. プロセス数値シミュレーションとTCAD (technical computer aided design)
2. 仮想計測 (VM) とプロセス装置制御
3. マテリアルズ・インフォマティクス
4. プロセス開発における機械学習 (ML) ・AIの活用
まとめ

質疑応答

ページのトップヘ

講師

浜口智志氏
大阪大学大学院工学研究科

教授

ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー株式会社

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 34700円 (税別) / 38,170円 (税込)

複数名

: 25000円 (税別) / 27,500円 (税込)

複数名受講割引

2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 34,700円(税別) / 38,170円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
他の割引は併用できません。
サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

アーカイブ配信セミナー

「ビデオグ」を使ったアーカイブ配信セミナーとなります。
当日のセミナーを、後日にお手元のPCなどからご視聴ができます。
お申し込み前に、視聴環境をご確認いただき、視聴テストにて動作確認をお願いいたします。
別途、ID,パスワードをメールにてご連絡申し上げます。
視聴期間は2023年12月6日〜19日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ

ページ内で移動

プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門

admin — Sun, 29 Oct 2023 04:22:16 +0000

プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門

オンライン開催

関連するセミナー・出版物

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する関連するセミナー・出版物を探す

アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2023年12月5日〜19日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2023年12月15日まで承ります。

概要

開催日

2023年12月4日(月) 12時30分～ 16時30分

修得知識

半導体プロセスに用いられるプラズマの特徴と基礎
プラズマCVDの原理
Si系薄膜の膜質制御の考え方
ドライエッチングの原理
種々のエッチング手法

プログラム

プラズマの基礎
1. プラズマ中の衝突現象とその定量的な取り扱い
2. 衝突反応の種類と反応速度定数の考え方
3. Boltzmann方程式
4. Boltzmann方程式から得られるプラズマの基礎方程式
  - 拡散方程式
  - 連続の式など
5. プラズマの生成 (直流放電プラズマ)
6. プラズマの生成 (容量性結合RF放電プラズマ)
7. プラズマの生成 (誘導性結合RF放電プラズマ)
8. プラズマの生成 (大気圧低温プラズマ)
プラズマCVD
1. プラズマCVDの特徴と原理 (アモルファスSi薄膜を中心に)
2. 代表的なプラズマCVD装置
3. 製膜パラメータの考え方
4. アモルファスSi堆積条件と高品質化
プラズマエッチング
1. プラズマエッチングの特徴と原理
  - 等方性
  - 異方性
2. 代表的なエッチング装置
3. エッチングダメージ
4. 終点検出の原理

ページのトップヘ

主催

株式会社 R&D支援センター

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 45000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名

: 22500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
R&D支援センターからの案内を希望しない方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー

「Zoom」を使ったライブ配信またはアーカイブ配信セミナーのいずれかをご選択いただけます。
お申し込み前に、視聴環境とテストミーティングへの参加手順をご確認いただき、テストミーティングにて動作確認をお願いいたします。
開催日前に、接続先URL、ミーティングID、パスワードを別途ご連絡いたします。
セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
セミナー資料は、PDFファイルを配布予定です。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

ライブ配信セミナーをご希望の場合

Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

アーカイブ配信セミナーをご希望の場合

当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
視聴期間は2023年12月5日〜19日を予定しております。
ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。

本セミナーは終了いたしました。

セミナーの再開催を依頼する

ページのトップヘ