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プラズマのセミナー・研修・出版物

大気圧プラズマの基礎と最新応用技術

2025年1月20日(月) 10時30分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、用途が広がる大気圧プラズマについて取り上げ、大気圧プラズマの基礎から表面処理、医療、農業、環境等への応用技術まで解説いたします。

ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向

2025年1月20日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

プラズマエッチングにおけるパーティクル・プロセス異常の検出技術とプラズマ耐性部材

2024年12月19日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レガシーファブの量産ラインの前工程において装置稼働率や歩留まりの向上に必要となる製造技術について扱います。
前工程の中でも特に収益性に関わりが大きいプラズマプロセスであるプラズマエッチングプロセス及び装置に必要となる技術について、不良発生の抑止や予知保全、メンテナンス費用削減、装置機差の低減等に資する技術について解説いたします。

大気圧プラズマを用いたSi系機能薄膜の低温・高能率形成技術

2024年12月18日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマの安定生成とSi系機能性薄膜の成膜技術を解説いたします。

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

2024年12月18日(水) 10時30分2024年12月20日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマについて取り上げ、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割から、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく解説いたします。

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

2024年12月6日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマについて取り上げ、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割から、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく解説いたします。

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

2024年10月30日(水) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

プラズマエッチングにおけるプロセス不良の検出とプラズマ耐性材料の評価技術

2024年10月4日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマエッチングの基礎から解説し、チャンバー材料の腐食やパーティクルの発生を抑えるための技術を解説いたします。

プラズマの基礎および半導体ドライエッチング入門

2024年9月9日(月) 13時00分2024年9月11日(水) 16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

2024年9月4日(水) 10時30分2024年9月6日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマについて取り上げ、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割から、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく解説いたします。

プラズマの基礎および半導体ドライエッチング入門

2024年8月28日(水) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

2024年8月26日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマについて取り上げ、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割から、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく解説いたします。

大気圧プラズマを用いた材料の表面改質、ぬれ性の改善

2024年8月5日(月) 10時00分16時20分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマの基礎・原理から、大気圧プラズマの使用方法、運用方法、品質管理方法、応用技術までわかりやすく解説いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

2024年7月31日(水) 10時30分2024年8月2日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

2024年7月30日(火) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

低温大気圧プラズマによる各種基材への表面処理、その応用例

2024年7月23日(火) 10時30分16時15分
オンライン 開催

本セミナーでは、低温大気圧プラズマについて基礎から解説し、表面改質の経時変化と保持の考え方、低温かつ高速処理の両立、接着前処理、コーティング、医療など豊富な事例と共に解説いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

2024年7月22日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

大気圧プラズマの基礎知識

2024年6月27日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマの研究開発を行う上で必要となる基本的な考え方、特有の物理科学現象、簡易的なプラズマの診断手法、最新の応用について実例を挙げて解説いたします。
また、プラズマが不得意とする領域への代替手段として用いられるレーザーの基礎知識と応用例についても紹介いたします。

プラズマエッチング装置・プロセスにおける不良発生の検知技術と部材のプラズマ耐性向上技術

2024年6月20日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レガシーファブの量産ラインの前工程において装置稼働率や歩留まりの向上に必要となる製造技術について扱います。
前工程の中でも特に収益性に関わりが大きいプラズマプロセスであるプラズマエッチングプロセス及び装置に必要となる技術について、不良発生の抑止や予知保全、メンテナンス費用削減、装置機差の低減等に資する技術について解説いたします。

プラズマCVDによるナノ・微粒子材料の作製技術とプロセスモニタリング

2024年6月5日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマの物理的・化学的基礎から始めて、プラズマ発生装置、プラズマCVD、プロセス解析のための計測方法、プロセスのモニタリング・制御、材料合成への応用、特にナノ・微粒子材料合成の方法について分かりやすく解説いたします。

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

2024年6月4日(火) 13時00分2024年6月17日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

2024年5月22日(水) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

プラズマによる表面改質技術の基礎と応用

2024年5月21日(火) 12時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマ照射により材料表面で生じている現象等、基礎事項の解説から、各種材料 (金属、ポリマー等) の表面改質や機能性発現技術までわかりやすく解説いたします。

プラズマプロセスにおける基礎と半導体微細加工へのプラズマによるエッチングプロセス

2024年5月21日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマの性質やプラズマ中で起こっている基本的な現象 (電離、解離、拡散、消滅) を解説するとともに、半導体微細加工において重要なパラメータとなる壁へのイオンや化学活性種のフラックス量がどのような過程で決定づけられているかを説明いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と原子層プロセスの最新動向

2024年4月23日(火) 10時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

大気圧プラズマの基礎と応用展開

2024年3月28日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、親水化処理、接着性向上、クリーニング等の分野で応用が広がる大気圧プラズマについて、基礎から分かりやすく解説いたします。
また、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

大気圧プラズマの基礎と新しいプラズマ装置の開発・応用

2024年3月25日(月) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、親水化処理、接着性向上、クリーニング等の分野で応用が広がる大気圧プラズマについて、基礎から分かりやすく解説いたします。
また、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

2024年2月29日(木) 10時00分2024年3月13日(水) 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

2024年2月26日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

2024年2月16日(金) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

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