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本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

本セミナーでは、レガシーファブの量産ラインの前工程において装置稼働率や歩留まりの向上に必要となる製造技術について扱います。
前工程の中でも特に収益性に関わりが大きいプラズマプロセスであるプラズマエッチングプロセス及び装置に必要となる技術について、不良発生の抑止や予知保全、メンテナンス費用削減、装置機差の低減等に資する技術について解説いたします。

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

本セミナーでは、プラズマ照射により材料表面で生じている現象等、基礎事項の解説から、各種材料 (金属、ポリマー等) の表面改質や機能性発現技術までわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

本セミナーでは、親水化処理、接着性向上、クリーニング等の分野で応用が広がる大気圧プラズマについて、基礎から分かりやすく解説いたします。
また、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

本セミナーでは、用途が広がる大気圧プラズマについて取り上げ、大気圧プラズマの基礎から表面処理、医療、農業、環境等への応用技術まで解説いたします。

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

本セミナーでは、スパッタリング法の理解に欠かせない真空・プラズマから、各種スパッタリング法の特徴、薄膜の評価、異常放電・薄膜の剥離などのトラブルと対策、シミュレーション手法や最新動向まで解説いたします。
スパッタリング技術を上手く扱うために理解すべき知識・技術を、装置・プロセスの開発に多くの経験を有する講師が分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、大気圧プラズマに関する、基礎的な考え方、用語、特有の物理科学現象やプラズマの診断方法と最新の大気圧プラズマ応用例について解説いたします。
また、プラズマの代替手段として用いられるレーザーの基礎知識と応用例を紹介いたします。

本セミナーでは、スパッタリング法の理解に欠かせない真空・プラズマから、各種スパッタリング法の特徴、薄膜の評価、異常放電・薄膜の剥離などのトラブルと対策、シミュレーション手法や最新動向まで解説いたします。
スパッタリング技術を上手く扱うために理解すべき知識・技術を、装置・プロセスの開発に多くの経験を有する講師が分かりやすく解説いたします。