技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、リソグラフィの基礎知識・最新技術、レジスト材料・微細加工用材料の基礎、微細加工用材料の特性、レジスト材料・微細加工用材料の課題・対策、レジスト材料の最新技術・ビジネス動向まで、具体的に分かりやすく解説いたします。
本講演では、リソグラフィの基礎を解説した後、デバイスの微細化を支えるレジストの基礎をEUVレジスト (化学増幅型EUVレジスト、EUVネガレジストプロセス、EUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセス) の詳細を含めて述べます。
レジスト・微細加工用材料のトラブル対策をその要求特性、課題をふまえて解説します。EUVレジストの課題と対策についても述べます。最後に最新のロードマップと先端デバイスの動向を解説し、今後のレジスト・微細加工用材料の技術展望、市場動向についてまとめます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 40,000円(税別) / 44,000円(税込) で受講いただけます。
ライブ配信・アーカイブ配信受講の場合、別途テキストの送付先1件につき、配送料 1,100円(税別) / 1,210円(税込) を頂戴します。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/6/3 | 半導体露光技術の発展、およびEUV露光装置の現状と将来展望 | オンライン | |
2025/6/11 | 光デバイス向けMEMS加工技術の解説と応用事例 | オンライン | |
2025/7/4 | ナノインプリントの材料、プロセスの設計とVR/AR、半導体プロセスへの応用技術 | オンライン | |
2025/7/15 | ナノインプリントの材料、プロセスの設計とVR/AR、半導体プロセスへの応用技術 | オンライン | |
2025/7/16 | フォトレジスト材料の基礎と材料設計およびその評価 | オンライン | |
2025/7/17 | ナノインプリントの基礎と最新の動向 | オンライン | |
2025/7/23 | ナノインプリントの基礎と最新の動向 | オンライン | |
2025/7/25 | 半導体製造プロセス技術 入門講座 | オンライン | |
2025/8/12 | 半導体製造プロセス技術 入門講座 | オンライン |
発行年月 | |
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2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |
2021/11/12 | レジスト材料の基礎とプロセス最適化 |
2018/3/20 | レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決 |
2012/3/9 | フォトレジスト材料の評価 |
2012/2/25 | フォトレジスト 技術開発実態分析調査報告書 |