フォトリソグラフィ - セミナー・研修・出版物

フォトリソグラフィのセミナー・研修・出版物

2017年6月22日(木) 12時30分～ 16時30分

東京都開催会場開催

本セミナーでは、レジスト材料・プロセスについて基礎から解説し、実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説いたします。

2016年7月27日(水) 10時30分～ 16時30分

東京都開催会場開催

本セミナーでは、レジスト材料・プロセスについて基礎から解説し、実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説いたします。

2015年9月11日(金) 10時30分～ 16時30分

東京都開催会場開催

本セミナーでは、極端紫外線リソグラフィ EUVL の基礎から周辺材料、技術動向について解説いたします。

2013年4月26日(金) 10時30分～ 16時30分

東京都開催会場開催

2012年12月17日(月) 10時30分～ 16時30分

東京都開催会場開催

本セミナーでは、バーチャル・リソグラフィ評価方法の解説を中心に、リソグラフィの工程に沿って、リソグラフィの基礎から、最新のフォトレジスト材料の評価方法について解説いたします。

本調査報告書は、「EUV (極端紫外線) 露光装置」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
EUV (極端紫外線) 露光装置技術開発実態分析調査報告書のCD-ROM版もご用意しております。

本調査報告書は、「EUV (極端紫外線) 露光装置」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
EUV (極端紫外線) 露光装置技術開発実態分析調査報告書の書籍版もご用意しております。

本書籍は、有機膜、インキ、レジスト、金属、ナノ粒子、CNT、セラミックス、ガラスなどに活用される超微細パターニング技術について網羅した技術書です。