技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

電子機器におけるさまざまな放熱方法とその効果

電子機器におけるさまざまな放熱方法とその効果

オンライン 開催

概要

本セミナーでは、電子機器の熱設計に必要な伝熱工学の基礎知識について解説いたします。
また、プリント配線板の放熱方法、密閉・自然空冷・強制空冷筐体の放熱方法、放熱部品の使用上の注意について解説いたします。

配信期間

  • 2026年2月24日(火) 10時00分2026年3月2日(月) 16時30分

お申し込みの締切日

  • 2026年2月27日(金) 16時30分

修得知識

  • プリント配線板の放熱方法
  • 密閉、自然空冷、強制空冷筐体の放熱方法
  • 放熱部品の使用上の注意事項
  • 熱電対による温度測定方法

プログラム

 電子機器において“熱”は必ず発生します。そのため、発熱量の大きな部品を使用する電子機器では適切な熱設計を行わないと熱問題によって製品化できない、製品の信頼性が低下する、製品の寿命が短くなる、過剰設計によってコストがアップする等の問題が発生する可能性があります。しかし、一部の電子機器を除き常に熱問題が生じているわけではないため、技術やノウハウを蓄積しにくい分野でもあります。
 本セミナーでは電子機器のさまざまな放熱方法の中で基本的な放熱方法を項目ごとにご説明いたします。また、それぞれの放熱方法に関して、実際にどの程度の効果があるのかについてご説明いたしますので、熱設計をする際の参考にしていただくことができます。
 本セミナーは初級者向けのセミナーです。伝熱工学や流体力学の知識がなくても理解できるようにご説明いたしますので、これから熱設計の勉強を始めたい方や、もう一度、勉強しなおしたい方を主な対象としています。

  1. 放熱方法の基本 (伝熱工学編)
    • 伝熱工学における3つの伝熱方法 (伝導、対流、放射) から考えられる放熱方法とその効果についてご説明いたします。
      また、熱抵抗回路網を作成することにより、おおよその温度を求めることができますので、伝導、対流、放射、それぞれの熱抵抗値の算出方法についてご説明いたします。
  2. 放熱方法の基本 (プリント配線板編)
    • プリント配線板は熱伝導率の高い銅を配線材料として使用しているため、放熱部品としても使用できます。
      プリント配線板の放熱効果についてご説明いたします。
  3. 放熱方法の基本 (密閉筺体編)
    • 密閉筐体は筐体内部の空気を換気することができないため、放熱は筐体表面からの対流と放射だけになります。
      密閉筐体の放熱は部品から筐体への伝熱と、筐体表面からの放熱がキーとなります。
      これらの放熱方法とその効果についてご説明いたします。
  4. 放熱方法の基本 (自然空冷筺体編)
    • 自然空冷筐体は筐体表面からの放熱に加え、筐体内部の空気を換気することによって放熱することができます。
      自然空冷筐体の放熱は密閉筐体と同様な放熱に加え、通風孔からの換気が放熱のキーになります。
      これらの放熱方法とその効果についてご説明いたします。
  5. 放熱方法の基本 (強制空冷筺体編)
    • 強制空冷筐体における放熱のほとんどはファンによって生じる空気流動によって行われます。
      強制空冷筐体の放熱はファンと通風孔、および空気の流れ方がキーになります。
      これらの放熱方法とその効果についてご説明いたします。
  6. 放熱方法の基本 (放熱部品編)
    • 放熱部品 (ヒートシンク、TIM) は注意事項を守らないと放熱効果が低下することがあります。
      放熱部品を使用する際に注意する点と、放熱効果についてご説明いたします。
  7. 熱電対による温度測定方法
    • 熱電対は取扱いが容易なため温度測定で良く使用されます。
      しかし、熱電対は接触式の測定方法ですので、熱電対を伝わり熱が逃げてしまい、測定誤差が出やすい測定方法でもあります。
      測定誤差が出にくい熱電対による測定方法をご説明いたします。

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 25,000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。

  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

アーカイブ配信セミナー

  • 当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
  • 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
  • 視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
  • 視聴期間は2026年2月24日〜3月2日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
本セミナーは終了いたしました。

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/3/10 高速回路 (Mbps〜Gbps級) の基本と実装設計への展開 オンライン
2026/3/10 半導体デバイスで良品を作るためのクリーン化技術 オンライン
2026/3/11 熱伝導性フィラーの充填・表面処理技術とポリマー系コンポジットの開発、微視構造設計・特性評価技術 オンライン
2026/3/11 高速回路 (Mbps〜Gbps級) の基本と実装設計への展開 オンライン
2026/3/11 半導体デバイスで良品を作るためのクリーン化技術 オンライン
2026/3/13 EVにおける熱マネジメント技術の現状および構成要素の動向と課題 オンライン
2026/3/13 プラズマの基礎特性と半導体成膜、エッチングでの応用技術 オンライン
2026/3/16 開閉接点・摺動接点・接続接点の接触理論と故障モード・メカニズムならびにその対策 東京都 会場・オンライン
2026/3/16 半導体市場の動向と主要メーカーの開発状況 オンライン
2026/3/16 EVにおける熱マネジメント技術の現状および構成要素の動向と課題 オンライン
2026/3/16 クライオエッチングの反応メカニズムと高アスペクト比加工技術 オンライン
2026/3/16 シリコン・パワー半導体におけるCMPの技術動向 オンライン
2026/3/17 半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 東京都 会場・オンライン
2026/3/17 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向 オンライン
2026/3/17 先端パッケージングの最前線 東京都 会場・オンライン
2026/3/18 積層セラミックコンデンサの故障メカニズムと解析技術 オンライン
2026/3/18 先端パッケージングの最前線 オンライン
2026/3/18 CESとSPIEから読み解く電子デバイス2030年 オンライン
2026/3/19 積層セラミックコンデンサの故障メカニズムと解析技術 オンライン
2026/3/19 半導体封止材用エポキシ樹脂と硬化剤・硬化促進剤の種類・特徴および新技術 オンライン

関連する出版物

発行年月
2013/2/10 酸化物半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/9/27 熱膨張・収縮の低減化とトラブル対策
2012/6/15 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書
2012/6/15 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/5/20 エレクトロニクス分野へのダイヤモンド応用技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/5/20 エレクトロニクス分野へのダイヤモンド応用技術 技術開発実態分析調査報告書
2012/4/15 Intel 【米国特許版】 技術開発実態分析調査報告書
2011/11/15 半導体露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2011/10/3 '12 コンデンサ業界の実態と将来展望
2010/10/1 '11 コンデンサ業界の実態と将来展望
2010/6/5 半導体技術10社 技術開発実態分析調査報告書
2009/10/10 ヒートポンプ 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2009/10/10 ヒートポンプ 技術開発実態分析調査報告書
2009/6/25 携帯端末 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2009/6/25 携帯端末 技術開発実態分析調査報告書
2009/5/20 日本電気と富士通2社分析 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2009/5/20 日本電気と富士通2社分析 技術開発実態分析調査報告書
2009/1/15 ヒートアイランド対策 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2009/1/15 ヒートアイランド対策 技術開発実態分析調査報告書
2008/9/1 半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)