技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術・乾燥技術について取り上げ、洗浄技術・乾燥技術の基礎、課題と対策について解説いたします。
(2024年12月10日 10:30〜14:10)※途中、昼休みを含む
半導体製造において品質/歩留まりを向上するために欠かせない洗浄プロセスを基礎から解説する。洗浄装置や洗浄薬液の種類について紹介し、異物を除去するための洗浄メカニズムや現在使用されている除去技術の候補も併せて解説する。また急速に微細化、複雑化する半導体に対応する洗浄装置/技術の進化について紹介し、次世代半導体の構造や材料などの変化に伴う課題を解決する最先端洗浄技術にも触れる。
(2024年12月10日 14:20〜16:00)
半導体デバイス微細化の進展や新材料導入により、CMP後洗浄技術の重要性が増している。デバイスの欠陥を減らすためには、洗浄対象に即した機能設計と、洗浄表面に対する的確な評価・解析手段が必須である。本講座では、ウェット洗浄の一般論を概説したのち、CMP後洗浄技術の基礎とそれを支える表面状態の各種評価手法について、実例を交えて紹介する。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/8/27 | ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向 | オンライン | |
2025/8/28 | 微生物迅速試験法の各試験の原理と目的・プロセス分析技術 (PAT) | オンライン | |
2025/9/2 | バッチ化学合成プロセスのスケールアップによる化学品・医薬原薬の製造のポイントとトラブル対策 | オンライン | |
2025/9/8 | 医薬品の特性を踏まえた外観目視検査基準の設定と検査結果の妥当性評価および検査員の育成・認定 | オンライン | |
2025/9/8 | 低分子・高分子の高活性物質を扱う共用設備での洗浄評価基準と洗浄管理の留意点 | オンライン | |
2025/9/9 | 医薬品凍結乾燥の条件設定、設備、バリデーション、スケールアップおよび失敗事例と改善 (パラメータ変更) | オンライン | |
2025/9/10 | Roll To Roll製造と各工程における要素技術の実践 | オンライン | |
2025/9/11 | 微生物迅速試験法の各試験の原理と目的・プロセス分析技術 (PAT) | オンライン | |
2025/9/17 | PIC/S GMP Annex 1 汚染管理戦略につながる無菌医薬品製造設備の設計・エンジニアリング | オンライン | |
2025/9/26 | 先進半導体パッケージの技術動向と三次元集積化プロセス開発の道程 | オンライン | |
2025/10/22 | 塗工プロセスにおける乾燥技術の基本、実際とプロセス・条件の最適化、乾燥起因トラブルへの対策 | 愛知県 | 会場 |
発行年月 | |
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2010/2/25 | コーティング材料のコントロールと添加剤の活用 |
2009/11/30 | クリーンルームの必須基礎知識と作業員教育 |
2009/6/30 | 目的に合った界面活性剤の上手な使い方と選定方法 |
2009/4/5 | 洗浄剤 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版) |
2009/4/5 | 洗浄剤 技術開発実態分析調査報告書 |
2008/9/1 | 半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書 |
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1999/10/29 | DRAM混載システムLSI技術 |
1992/11/11 | VLSI試験/故障解析技術 |
1991/3/1 | プリント配線板洗浄技術 |
1990/6/1 | LSI周辺金属材料・技術 |
1988/10/1 | 高密度表面実装 (SMT) におけるLSIパッケージング技術 |
1988/2/1 | 半導体の故障モードと加速試験 |
1985/12/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅰ) |
1985/11/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅱ) |