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スパッタリング法による薄膜形成技術とトラブルシューティング

スパッタリング法による薄膜形成技術とトラブルシューティング

~物理現象の理解、分析・評価、特性安定化、密着性・信頼性の確保~
オンライン 開催

視聴期間は2024年7月1日〜5日を予定しております。
お申し込みは2024年7月3日まで承ります。

概要

本セミナーでは、スパッタリング薄膜の品質の安定化、密着性改善、生産性向上、トラブル対応など、実務上の重要ポイントを網羅的・具体的に解説いたします。

開催日

  • 2024年7月3日(水) 10時30分 2024年7月5日(金) 16時30分

受講対象者

  • スパッタリング・成膜に関連する技術者
    • エネルギー分野
      • 反射防止膜保護膜
      • 透過膜太陽電池
    • 光学分野
      • 増透膜
      • 反射防止膜
      • 偏光膜
      • 保護膜
      • 赤外透過膜
      • 赤外線フィルター
      • 紫外線フィルター
    • ディスプレイ
      • 絶縁膜
      • 透明電極
      • 発光膜
    • 表面処理
      • 表面硬化膜
      • 固体潤滑膜 など
  • スパッタリング・成膜で課題を抱えている方

修得知識

  • スパッタリングの基礎
  • スパッタリングの原理
  • スパッタリング薄膜の特性を制御する方法
  • スパッタリング薄膜の実務のトラブル解決へのヒント

プログラム

 スパッタリングは、エレクトロニクスをはじめとした様々なシーンで用いられる重要な技術で、近年はさらに用途が拡大しています。しかし、量産技術をどのように確立し、品質をどのように改善するのかについてのノウハウはあまり知られていません。
 本講座では、スパッタリング薄膜の原理・メカニズムを解説し、品質向上や密着性改善などの実務課題への対応方法を具体的に解説します。実務上の問題についてのご質問もその場で回答します。スパッタリングの基礎を学びたい方はもちろん、実務エキスパートとして活躍されている方にも大変お勧めです。

  1. スパッタリング法の基礎 (基礎編)
    1. 薄膜技術の基本を知る
    2. スパッタリング法の特徴とその用途
    3. スパッタリング装置の構成
    4. スパッタリング工程の運用と管理方法
  2. スパッタリング法の物理現象
    1. 物理現象を把握することの重要性について
    2. スパッタリングの物理現象1 (プラズマ放電)
    3. スパッタリングの物理現象2 (スパッタリング)
    4. スパッタリングの物理現象3 (組織形成)
    5. スパッタリングの現象と制御パラメータの関係
  3. スパッタリング薄膜の評価・分析技術
    1. スパッタリング薄膜に求められる性能とは
    2. あらゆる機能の基礎となる、膜厚・形状の測定
    3. 薄膜の性能を知るための、各種特性の測定・評価
    4. 特性の発現機構を明らかにする、結晶構造評価
    5. 不具合現象開明のための元素・状態分析
    6. 信頼性評価のための機械的性質・密着性評価
  4. スパッタリング薄膜の特性安定化 (応用編)
    1. 特性実現と特性安定化という2つの課題
    2. 特性とパラメータの間にあるものを理解する
    3. プロセスのばらつき・変動要因を理解する
    4. プロセスのリアルタイム分析方法、データ解析事例
    5. スパッタリング薄膜の特性安定化の重要ポイント
  5. スパッタリング薄膜の密着性・信頼性改善
    1. 薄膜の密着と剥離のメカニズム
    2. 解析〜原因追究の手順
    3. 密着性改善・安定化のための具体的な手法
    4. 薄膜の信頼性の問題と対策
  6. スパッタリング薄膜の微小欠陥・外観異常対策
    1. スパッタリング薄膜の欠陥モード
    2. スパッタリング薄膜の外観検査とモニタリング
    3. ピンホール・付着異物の原因究明と対策
    4. 変色・しわ・しみの原因究明と対策

講師

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 25,000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。

  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

アーカイブ配信セミナー

  • 当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
  • 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
  • 視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
  • 視聴期間は2024年7月1日〜5日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。

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