技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、半導体産業について取り上げ、フォトレジスト材料の基礎から、現役フォトレジストサプライヤー目線の最新のEUVレジストの課題と開発状況について解説いたします。
昨今、私たちは新たなデジタル社会に直面、半導体の重要性が以前にも増して重要となっており、毎日のように半導体という言葉を耳にする。IOT、AI、Society5.0等の発展のため、デバイスの高速化、大容量化、省電力化が不可欠で、そのための配線微細化は必須である。それを支えるリソグラフィ微細化には、フォトレジスト材料が鍵技術であり、究極の微細化として期待されたEUVリソグラフィは、35年の時を経てついに2019年に実用化された。
地政学的観点からも半導体は日本にとって重要なピースとなり政府の半導体への取り組みも前のめりである。簡単に日本の半導体産業への取り組み (RapidusやLSTC等) について解説したのち、レジストの基礎から現在に至る課題まで時間の許す限り解説する。
フォトレジスト開発に関わる若手技術者から入門者、さらには材料に詳しくない方々に向けて分かりやすく解説する。
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開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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発行年月 | |
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2013/2/10 | 酸化物半導体 技術開発実態分析調査報告書 |
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2012/6/15 | 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
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2012/2/25 | フォトレジスト 技術開発実態分析調査報告書 |
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1985/12/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅰ) |
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