技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、スパッタリングの基礎から解説し、膜の密着性や膜質に影響する様々なパラメータ、希望の膜を得るための方法、日常の運用においてチェックしておくべき事項、トラブルが生じた際の対処方法を解説いたします。
スパッタリング装置は真空成膜装置のなかでも最も工業用に広く普及している装置です。これは、危険性の高いガスを用いるCVDのように除害設備が必要なく、比較的安価であることと、蒸着装置よりも品質の高い膜が成膜できる事に起因しています。しかしながら、真空およびスパッタリング装置に対する知識が不足していると、膜質の悪化や成膜トラブルに対して正しい対応ができません。
本セミナーでは、まず真空の基礎から成膜装置における重要な要素を解説していきます。続いて、膜の密着性や膜質に影響する様々なパラメータを解説し、希望の膜を得るための方法について解説します。最後に、トラブルを防ぐために日常の運用においてチェックしておくべき事項を解説し、トラブルが生じた際の対処方法についても解説します。
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開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2024/7/30 | プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ | オンライン | |
2024/7/31 | 半導体ドライエッチングの基礎と最新技術 | オンライン | |
2024/8/2 | ゴムローラ搬送における摩擦機構と最適設計、評価技術 | オンライン | |
2024/8/5 | 大気圧プラズマを用いた材料の表面改質、ぬれ性の改善 | オンライン | |
2024/8/5 | CVD/ALDプロセスの反応解析、メカニズムとプロセス最適化 | オンライン | |
2024/8/7 | スパッタ・真空蒸着による成膜技術と膜質改善技術の徹底解説 | オンライン | |
2024/8/20 | フィルム製膜における延伸・配向技術とその解析 | オンライン | |
2024/8/23 | 薄膜応力の発生メカニズムと実践的な膜応力の評価、制御技術 | オンライン | |
2024/8/26 | 大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用 | オンライン | |
2024/8/28 | プラズマの基礎および半導体ドライエッチング入門 | オンライン | |
2024/9/4 | 大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用 | オンライン | |
2024/9/9 | プラズマの基礎および半導体ドライエッチング入門 | オンライン | |
2024/9/27 | ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向 | 東京都 | 会場 |
2024/10/25 | 薄膜の剥離メカニズムと密着性の評価と改善手法 | オンライン | |
2024/11/12 | 電子デバイス製造における真空および薄膜形成技術の基礎と応用 | 東京都 | 会場・オンライン |
発行年月 | |
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2021/3/8 | プラズマ技術 (CD-ROM版) |
2021/3/8 | プラズマ技術 |
2018/9/27 | プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 |
2015/9/1 | マンガと写真でわかる初歩のシート成形 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 |
2012/3/5 | 大気圧プラズマの生成制御と応用技術 改訂版 |
2012/1/30 | 水処理膜の製膜技術と材料評価 |
1991/8/1 | 液晶パネル製造プロセス技術 |
1991/3/1 | 光学薄膜技術 |
1990/12/25 | 磁性薄膜の測定法 |
1986/4/1 | 最新薄膜作製・加工・評価技術 |