技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

薄膜形成におけるスパッタリングの基礎とトラブル対策

真空の基礎からスパッタリング装置における重要な要素を学ぶ

薄膜形成におけるスパッタリングの基礎とトラブル対策

オンライン 開催

概要

本セミナーでは、スパッタリングの基礎から解説し、膜の密着性や膜質に影響する様々なパラメータ、希望の膜を得るための方法、日常の運用においてチェックしておくべき事項、トラブルが生じた際の対処方法を解説いたします。

開催日

  • 2023年9月11日(月) 13時00分 17時00分

修得知識

  • 真空装置に関する基礎知識
  • スパッタリング装置の基本知識
  • スパッタリング装置の具体的な運用

プログラム

 スパッタリング装置は真空成膜装置のなかでも最も工業用に広く普及している装置です。これは、危険性の高いガスを用いるCVDのように除害設備が必要なく、比較的安価であることと、蒸着装置よりも品質の高い膜が成膜できる事に起因しています。しかしながら、真空およびスパッタリング装置に対する知識が不足していると、膜質の悪化や成膜トラブルに対して正しい対応ができません。
 本セミナーでは、まず真空の基礎から成膜装置における重要な要素を解説していきます。続いて、膜の密着性や膜質に影響する様々なパラメータを解説し、希望の膜を得るための方法について解説します。最後に、トラブルを防ぐために日常の運用においてチェックしておくべき事項を解説し、トラブルが生じた際の対処方法についても解説します。

  1. スパッタリング技術者のための真空の基礎
    1. 気体分子運動論
    2. 真空と表面
  2. 真空装置の基礎
    1. 真空の作り方
    2. 真空の測り方
    3. 成膜装置の基本構成
  3. プラズマの基礎
    1. プラズマとは何か
    2. プラズマの作り方
  4. 真空成膜装置
    1. 真空成膜装置の種類
    2. スパッタリング装置の構成・仕組み
      1. なぜマグネトロンスパッタか?
      2. スパッタリング装置のメリット・デメリット
  5. スパッタリング装置における成膜条件だしのポイント
    1. 膜質向上のための取り組み
      1. 膜質と生産性のトレードオフ
      2. 基板加熱とイオンアシスト
    2. 密着性向上のための取り組み
      1. 密着性は何で決まるか?
      2. 密着性改善の方法1:前処理条件から
      3. 密着性改善の方法2:成膜条件から
      4. 密着性改善の方法3:膜構成から
  6. 現場のトラブルシューティング
    1. 日々の管理項目
    2. リークトラブルの原因と対応策
    3. 放電トラブルの原因と対応策
    4. 何が壊れやすいか?:必要なバックアップ
    • 質疑応答

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 42,000円(税別) / 46,200円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。

  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2024/12/10 半導体機能素子製造向けドライプロセス入門 オンライン
2024/12/13 生体温度域でのスパッタリング成膜技術の基礎と応用 オンライン
2024/12/18 大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用 オンライン
2024/12/18 大気圧プラズマを用いたSi系機能薄膜の低温・高能率形成技術 オンライン
2024/12/19 プラズマエッチングにおけるパーティクル・プロセス異常の検出技術とプラズマ耐性部材 オンライン
2024/12/19 基材への塗布層の形成、コーティング液の塗布技術 オンライン
2024/12/25 断熱材・真空断熱材の基礎・入門とナノ多孔質粒子による超寿命化・評価 オンライン
2025/1/8 基材への塗布層の形成、コーティング液の塗布技術 オンライン
2025/1/20 大気圧プラズマの基礎と最新応用技術 オンライン
2025/1/20 ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向 オンライン
2025/1/21 真空プロセスで取り扱う化学物質の危険性と安全対策 オンライン
2025/1/22 CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開 オンライン
2025/1/28 CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開 オンライン
2025/1/29 薄膜作製の基礎とトラブル対策 オンライン
2025/2/4 薄膜作製の基礎とトラブル対策 オンライン
2025/2/5 先端半導体デバイスの多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化 オンライン
2025/2/28 ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向 東京都 会場
2025/3/14 スパッタリング法の総合知識と薄膜の特性制御・改善、品質トラブルへの対策 オンライン
2025/3/28 スパッタリング法の総合知識と薄膜の特性制御・改善、品質トラブルへの対策 オンライン