技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、スパッタリングの基礎から解説し、膜の密着性や膜質に影響する様々なパラメータ、希望の膜を得るための方法、日常の運用においてチェックしておくべき事項、トラブルが生じた際の対処方法を解説いたします。
スパッタリング装置は真空成膜装置のなかでも最も工業用に広く普及している装置です。これは、危険性の高いガスを用いるCVDのように除害設備が必要なく、比較的安価であることと、蒸着装置よりも品質の高い膜が成膜できる事に起因しています。しかしながら、真空およびスパッタリング装置に対する知識が不足していると、膜質の悪化や成膜トラブルに対して正しい対応ができません。
本セミナーでは、まず真空の基礎から成膜装置における重要な要素を解説していきます。続いて、膜の密着性や膜質に影響する様々なパラメータを解説し、希望の膜を得るための方法について解説します。最後に、トラブルを防ぐために日常の運用においてチェックしておくべき事項を解説し、トラブルが生じた際の対処方法についても解説します。
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開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2024/12/10 | 半導体機能素子製造向けドライプロセス入門 | オンライン | |
2024/12/13 | 生体温度域でのスパッタリング成膜技術の基礎と応用 | オンライン | |
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2024/12/18 | 大気圧プラズマを用いたSi系機能薄膜の低温・高能率形成技術 | オンライン | |
2024/12/19 | プラズマエッチングにおけるパーティクル・プロセス異常の検出技術とプラズマ耐性部材 | オンライン | |
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2024/12/25 | 断熱材・真空断熱材の基礎・入門とナノ多孔質粒子による超寿命化・評価 | オンライン | |
2025/1/8 | 基材への塗布層の形成、コーティング液の塗布技術 | オンライン | |
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2025/1/21 | 真空プロセスで取り扱う化学物質の危険性と安全対策 | オンライン | |
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2025/2/4 | 薄膜作製の基礎とトラブル対策 | オンライン | |
2025/2/5 | 先端半導体デバイスの多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化 | オンライン | |
2025/2/28 | ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向 | 東京都 | 会場 |
2025/3/14 | スパッタリング法の総合知識と薄膜の特性制御・改善、品質トラブルへの対策 | オンライン | |
2025/3/28 | スパッタリング法の総合知識と薄膜の特性制御・改善、品質トラブルへの対策 | オンライン |
発行年月 | |
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2021/3/8 | プラズマ技術 |
2021/3/8 | プラズマ技術 (CD-ROM版) |
2018/9/27 | プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 |
2015/9/1 | マンガと写真でわかる初歩のシート成形 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
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2012/3/5 | 大気圧プラズマの生成制御と応用技術 改訂版 |
2012/1/30 | 水処理膜の製膜技術と材料評価 |
1991/8/1 | 液晶パネル製造プロセス技術 |
1991/3/1 | 光学薄膜技術 |
1990/12/25 | 磁性薄膜の測定法 |
1986/4/1 | 最新薄膜作製・加工・評価技術 |