技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

半導体配線材料・技術の最新動向

半導体配線材料・技術の最新動向

~Cu配線延命の最先端、代替配線技術動向 BPR・BSPDN・電源配線技術 / 最先端ノードの実際、今後の展望・課題 / 今後数年必要とされる材料、新規技術とその実現可能性~
オンライン 開催

概要

本セミナーでは、Cu配線延命の為、導入されてきた最近の技術、技術開発が進行中のCu配線延命技術、及び、代替配線技術の現状と課題について解説いたします。
また、線幅の太い電源ラインをシリコン基板の表側や裏側に埋設するブレークスルーの開発が進行中であるが、これらのメリットと技術課題についても解説いたします。

開催日

  • 2021年10月20日(水) 13時00分 16時30分

プログラム

 Cu配線が導入されてから20年以上が経過したが、近年、Cuデュアルダマシン配線は更なる微細化には限界が来ているとの見方から、研究機関を中心にRuやCoなどの代替金属材料に置き換える技術開発が進行中である。しかしながら、実際の最先端のノードにおいても、Cu配線は延命の為の工夫を加えることで、使い続けられているのが現状である。
 本セミナーでは、Cu配線延命の為、導入されてきた最近の技術、技術開発が進行中のCu配線延命技術、及び、代替配線技術の現状と課題について述べる。これらと同時に、線幅の太い電源ラインをシリコン基板の表側や裏側に埋設するブレークスルーの開発が進行中であるが、これらのメリットと技術課題についても解説する。

  1. Cuデュアルダマシン技術の微細化に伴う問題点
    1. Cuデュアルダマシン技術とは
    2. 微細化に伴う問題点
    3. 微細化が限界だとする悲観論の持つ定量的な曖昧さ
  2. 最近量産に導入されているCu配線延命を可能にしている新技術
    1. 改良型 ALD バリアメタル技術
    2. トレンチとビアの形状 (アスペクト比) の最適化
    3. RSB によるビア抵抗の低減
    4. Low-k (低誘電率絶縁膜) の PID 耐性向上
    5. シングルダマシンCu配線の導入
  3. Cu配線を更に延命させる為の開発中の技術
    1. レーザーアニールによるCu配線抵抗低減技術
    2. グラフェンキャップによるCu配線抵抗低減技術
    3. ハイブリッドCu配線技術による微細化促進
    4. 酸素を含まない低誘電率絶縁膜技術
    5. Mnによるアシストされた超薄型バリアメタル
    6. 揮発性材料を用いたエアーギャップ形成
  4. シリコン基板に電源線を埋め込む技術
    1. BPR
    2. BSPDN
  5. 代替配線技術
    1. Coデュアルダマシン技術
    2. Subtractive RIE Ru, Mo, W配線
    3. 金属間化合物配線
  6. まとめ
    • 質疑応答

講師

  • 野上 毅
    IBM Research
    Principal Research Staff Member

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 30,400円 (税別) / 33,440円 (税込)
複数名
: 20,000円 (税別) / 22,000円 (税込)

複数名受講割引

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 20,000円(税別) / 22,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 30,400円(税別) / 33,440円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 60,000円(税別) / 66,000円(税込)
  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
  • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

  • 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
  • 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
  • お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2024/5/30 半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術 オンライン
2024/5/30 半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法 オンライン
2024/5/30 次世代半導体パッケージング・実装技術動向と市場展望 オンライン
2024/5/31 車載半導体の最新技術と今後の動向 オンライン
2024/5/31 研磨プロセスの見える化と最適化およびアシスト加工 オンライン
2024/6/3 設計者CAE 構造解析編 (強度) オンライン
2024/6/7 半導体表面におけるウェットプロセスの基礎と最新動向 大阪府 会場
2024/6/10 SiCパワー半導体の最新動向とSiC単結晶ウェハ製造の技術動向 オンライン
2024/6/11 簡単な回路から始めるアナログ設計と実装の基礎 東京都 会場・オンライン
2024/6/11 ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用 オンライン
2024/6/11 半導体用レジストの基礎、材料設計、プロセス、評価方法 オンライン
2024/6/11 光電コパッケージ技術の概要・課題・最新動向・今後の展望まで オンライン
2024/6/12 半導体用レジストの材料設計とその評価 オンライン
2024/6/13 半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法 オンライン
2024/6/13 オフライン電源の設計 (2日間) オンライン
2024/6/13 オフライン電源の設計 (1) オンライン
2024/6/14 アナログ回路設計技術の基礎と応用 オンライン
2024/6/17 光電コパッケージ技術の概要・課題・最新動向・今後の展望まで オンライン
2024/6/18 半導体製造に向けた高純度ガスの精製、分析技術 オンライン
2024/6/19 ミリ波の基礎知識とミリ波材料の評価方法 オンライン