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ディスプレイの防眩・反射防止とギラツキの抑制

ディスプレイの防眩・反射防止とギラツキの抑制

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、ギラツキが発生するメカニズムと対策について解説いたします。
また「ギラツキ」を定量化するための測定方法を詳解いたします。

開催日

  • 2019年4月3日(水) 10時30分 16時30分

プログラム

第1部 高規則性ポーラスアルミナを用いたモスアイ型反射防止構造の形成技術

(2019年4月3日 10:30〜12:10)

 陽極酸化ポーラスアルミナは、アルミニウムを酸性電解液中で陽極酸化することにより得られるナノポーラス材料ですが、その特異な幾何学構造から、近年、様々な機能性デバイスを構築するための基盤材料として期待されています。本発表では、陽極酸化の基礎から、ナノインプリントに利用するためのノウハウに加え、反射防止表面への応用結果について紹介します。

  1. 陽極酸化の基礎
    1. 陽極酸化ポーラスアルミナの形成
    2. 高規則性ポーラスアルミナの形成方法
    3. 高規則性ポーラスアルミナの構造制御
    4. 高規則性ポーラスアルミナを用いた機能的応用例の紹介
  2. 高規則性ポーラスアルミナを用いたナノインプリントプロセス
    1. ポーラスアルミナモールドの形成
    2. ナノインプリントによる規則パターン形成
    3. ロール状モールドを用いた連続インプリント
  3. ナノインプリントプロセスによるモスアイ構造の形成
    1. モスアイ構造形成用ポーラスアルミナモールドの形成
    2. ナノインプリントによるモスアイ構造の形成
    3. 突起形状制御による特性最適化
    4. 射出成型によるモスアイ構造の形成
    • 質疑応答

第2部 ディスプレイのギラツキにおける測定手法と最新動向

(2019年4月3日 13:00〜14:40)

 ディスプレイの画質品位は人が見る明るさ環境に大きく左右する。そのためディスプレイ表面の光反射を制御することは、重要な技術の一つである。ディスプレイは年々高解像度化が進み、今後もテレビは8Kなど更に高解像度が進むであろう。しかしながらこの高解像度化により、ディスプレイ表面の反射防止 (アンチグレア) において、ぎらつき (スパークル) が大きな課題となっている。ぎらつきフリーにするためのデバイス・部材開発と品質管理が求められており、ぎらつきの定量評価が不可欠である。
 本セミナーではぎらつきの発生メカニズムと要因とぎらつき測定に関して紹介する。

  1. ディスプレイのぎらつきとは何か
    1. ディスプレイの画質品位
    2. ディスプレイのぎらつきの見え方
    3. ぎらつきの発生要因と影響
  2. なぜ今ディスプレイのぎらつき評価が必要なのか
    1. ディスプレイの過去から現在
    2. 最新ディスプレイと今後のトレンド
    3. ぎらつきの発生メカニズム
  3. ぎらつきはどのように評価するのか
    1. 定量化の概要
    2. 測定方法
    3. 測定システム
    4. 測定データ
    5. 応用例
  4. ぎらつき評価の有効性と今後のディスプレイのぎらつき
    1. 官能評価から科学アプローチへ
    2. 今後のディスプレイの展開
    • 質疑応答

第3部 低ギラツキ防眩フィルムの特徴と適用事例

(2019年4月3日 14:50〜16:30)

 高精細パネルと防眩フィルムの組み合わせで発生するギラツキ現象を防止するための表面微細凹凸設計の考え方・手法について、具体的な応用例を挙げながら解説する。また、ギラツキを定量化する方法とそのフィルム開発への活用手段についても紹介を行う。

  1. 防眩フィルムとギラツキ
    1. 防眩フィルムの特徴
    2. ギラツキとは
    3. ギラツキ発生のメカニズム
  2. 表示デバイスの高精細化
    1. 表示体の画面解像度の変遷
    2. 防眩フィルムと液晶/有機EL表示体
  3. 防眩フィルムの設計
    1. 微細表面凹凸の設計と具体例 … 微粒子分散法
    2. 微細表面凹凸の設計と具体例 … 相分離法
    3. ギラツキの抑制手法
  4. ギラツキの定量化
    1. 目視による官能評価
    2. 装置による定量化
      1. 特許の紹介
      2. 市販の装置の紹介
    3. ギラツキ評価と防眩フィルム設計への活用
  5. 防眩フィルムの高性能化と今後の展開
    • 質疑応答

講師

  • 柳下 崇
    首都大学東京 大学院 都市環境科学研究科 分子応用化学域
    准教授
  • 嶋 秀一
    アフロディ 株式会社
    代表取締役CEO
  • 林 正樹
    株式会社 ダイセル 研究開発本部 コーポレート研究センター
    主任研究員

会場

株式会社 技術情報協会
東京都 品川区 西五反田2-29-5 日幸五反田ビル8F
株式会社 技術情報協会の地図

主催

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受講料

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: 55,000円 (税別) / 59,400円 (税込)
複数名
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  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。
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