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造粒・打錠プロセスの基礎とトラブル対策

造粒・打錠プロセスの基礎とトラブル対策

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、粉体の圧縮メカニズム、それぞれの打錠障害を起す原因とその改善法、打錠用顆粒の適正なつくり方、さらに製剤化のスケールアップについても解説いたします。

開催日

  • 2016年12月8日(木) 10時30分16時30分

受講対象者

  • 打錠に関連する技術者
    • 医薬品
    • 食品
    • 化粧品 など

修得知識

  • 造粒プロセスの基礎とトラブル対策
  • 造粒の基礎
  • 打錠用顆粒としての最適な造粒法
  • 攪拌造粒・流動層造粒における留意点
  • 造粒における含量均一性を確保するための操作技術
  • 打錠プロセスの基礎とトラブル対策
  • 打錠の基礎
  • 打錠障害のメカニズムと評価法と改善
  • 錠剤化で問題となる錠剤の重量変動と薬物の含量均一性の改善
  • 打錠工程におけるトラブルの改善事例

プログラム

 錠剤化において、重要な製剤技術は造粒、粉体の圧縮等である。
 本講演では、造粒および打錠、それぞれのプロセスに分けて、各工程における製剤化技術の基礎とトラブル対応に関して解説する。造粒工程で、原薬物性に適した造粒法、原薬物性の改質、攪拌造粒、流動層造粒、押出し造粒および乾式造粒法に関して事例をもって説明する。打錠工程では、粉体の圧縮メカニズム、キャッピングおよびスティッキング機構、それぞれの評価法とその改善法。また、直接打錠における薬物の均一分散性を高める方法。造粒および打錠プロセスのスケールアップとその問題点とその対策、さらに、効率的なスケールアップの進め方についても解説する。
 最後に、圧縮成型時にフィルム形成とスティッキングが発生したトラブル事例について、その改善方法。さらに、激しい打錠障害が発生する原薬の対処法などについても触れたい。また、本セミナーでは、造粒装置における最近の動向として連続造粒の事例について紹介する。

  1. 造粒プロセスの基礎とトラブル対策
    1. 造粒の定義
    2. 造粒の方法
    3. 原薬物性に適した造粒法
    4. 原薬物性の改質
    5. 打錠用顆粒として適正な造粒法
    6. PL値 (可塑限界) とは?
    7. PL値の簡易測定法
    8. 撹拌造粒のメカニズムと撹拌造粒の事例
    9. 撹拌造粒で製した顆粒の粒度毎含量分布
    10. 流動層造粒のメカニズムと流動層造粒の事例
    11. 流動層造粒で製した打錠用顆粒の粒度別の主薬含量と錠剤の含量均一性
    12. 攪拌転動流動造粒とパルス流動層造粒乾燥装置
    13. 撹拌造粒および流動層造粒における結合剤の添加方法
    14. 押出し造粒の事例と添加水の影響
    15. 錠剤を押出し造粒で製した場合の含量均一性
    16. 乾式造粒の概要と乾式造粒の事例
    17. 造粒のスケールアップでの問題点と効率的な進め方
    18. 最近の造粒装置の動向と連続造粒の事例
  2. 打錠プロセスの基礎とトラブル対策
    1. 原薬 (粉体) の圧縮メカニズム
    2. 走査型電子顕微鏡でみる粉体の圧縮
    3. 原薬 (粉体) の圧縮性評価
    4. 打錠で要求される要素と要因
    5. 粉体の流動性の評価
    6. 結晶セルロースの動的流動性
    7. 錠剤の含有水分と成形性
    8. キャッピングの機構と評価法およびその改善方法
    9. スティッキングの機構と評価法およびその改善方法
    10. 錠剤の重量変動に対する変動要因
    11. 湿式打錠および直接打錠における錠剤の重量変動を抑制する方法
    12. 直接打錠における主薬の均一分散性を高める方法
    13. 撹拌造粒の打錠障害に関係する留意点と対応策
    14. 流動層造粒の打錠障害に関係する留意点と対応策
    15. 滑沢剤の混合時間と展延状態
    16. 外部滑沢打錠機の概要および内部滑沢と外部滑沢打錠法の比較
    17. 総圧縮時間によるスケールアップ時の打錠速度の設定
    18. 打錠工程におけるトラブル改善事例紹介
    • 質疑応答

会場

江東区産業会館

第2会議室

東京都 江東区 東陽4丁目5-18
江東区産業会館の地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)

割引特典について

  • R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
    • 1名でお申込みいただいた場合、1名につき 43,750円 (税別) / 47,250円 (税込)
    • 複数名で同時にお申し込みいただいた場合、1名につき 23,139円 (税別) / 24,990円 (税込)
    • 案内登録をされない方は、1名につき 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)
本セミナーは終了いたしました。

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