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プラスチックフィルムの表面改質と機能性薄膜の密着性向上・デバイスへの応用

スパッタリングにおける薄膜成形を中心とした

プラスチックフィルムの表面改質と機能性薄膜の密着性向上・デバイスへの応用

東京都 開催 会場 開催
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概要

本セミナーでは、薄膜形成技術の基礎から解説し、金属薄膜、無機薄膜、有機薄膜の形成と機能付与・特性向上について詳解いたします。

開催日

  • 2012年7月19日(木) 12時30分 ～ 16時30分

受講対象者

  • スパッタリング・プラスチック成膜に関心のある技術者・研究者・担当部門・初心者
    • 断熱フィルム
    • 遮熱フィルム
    • 光学フィルム
    • 反射防止膜 など

修得知識

  • 薄膜形成技術の基礎
  • プラスチックフィルムの表面改質
  • 微細加工技術
  • 薄膜のセンサーへの応用

プログラム

　プラスチックフィルム上にスパッタリングなどの物理気相蒸着 (PVD) 法により形成した薄膜は、ベースとなるプラスチックフィルムの特性を大きく向上させます。
　プラスチックフィルム上に金属薄膜、無機薄膜、有機薄膜を形成し、種々の機能・特性を向上させる技術について基礎から応用までわかりやすく紹介します。
　特に金属薄膜では薄膜の接着性や展延性に優れた金属蒸着フィルム、無機薄膜では透明電極やガスバリアー膜の形成、有機薄膜では反射防止膜などへの応用など、これら薄膜の機能発現メカニズム、さらにはプラスチックフィルムの表面改質や、低温成膜技術を中心に成膜速度や膜厚の面内均一性などの応用まで含めた技術の紹介を致します。

  1. 薄膜形成技術の基礎
    1. 薄膜形成法の種類とその特徴
    2. 化学気相蒸着 (CVD) と物理気相蒸着 (PVD)
    3. PVDの種類とその特徴
    4. スパッタリングの種類とその特徴
  2. プラスチックフィルム上に形成した金属薄膜
    1. スパッタリングによりポリイミドフィルム上に形成した金属薄膜
      1. スパッタリングによりポリイミドフィルム上に形成した銅薄膜の接着性
      2. 加熱による銅薄膜の接着力の安定性と接着強度低下防止
    2. 真空蒸着法によりポリエステル (PET) フィルム基板上に形成した金属薄膜
      1. 金属薄膜の引張特性と接着性
      2. ポリエステルフィルム上に2源真空蒸着により形成した合金薄膜の成形性
  3. プラスチックフィルム上に形成した無機薄膜
    1. スパッタリングにより形成した透明導電性薄膜 (ITO薄膜)
    2. 反応性スパッタリングにより形成したシリコン酸化物系薄膜のガスバリアー性
  4. プラスチックフィルム上に形成した有機薄膜
    1. 高周波スパッタリングにより形成したフッ素系有機薄膜の特性
    2. 磁場を利用した高速成膜と膜厚の面内均一性
    3. 反射防止膜への応用
  5. プラスチックフィルムの表面改質と微細加工技術
    1. プラスチックフィルムの表面改質法の種類とその特徴
    2. プラズマを利用した表面改質と微細加工への応用
  6. スパッタリングにより形成した薄膜のセンサーへの応用
    1. 高周波スパッタリングにより形成した有機薄膜の揮発性有機溶剤 (VOC) センサー
    2. 高周波スパッタリングにより形成した有機薄膜の活性酸素センサーへの応用
    • 質疑応答・名刺交換
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会場

タイム24ビル

4F セミナールーム

東京都 江東区 青海2丁目4-32
タイム24ビルの地図
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主催

株式会社 R&D支援センター
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 47,600円 (税別) / 49,980円 (税込)

割引特典について

  • R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
    • 1名でお申込みいただいた場合、1名につき47,250円 (税込)
    • 2名同時にお申し込みいただいた場合、2名で49,980円 (税込)
    • 案内登録をされない方は、1名につき49,980円 (税込)
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