技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

光電融合パッケージングと光導波路の技術展望

光電融合パッケージングと光導波路の技術展望

オンライン 開催

開催日

  • 2026年7月2日(木) 10時30分16時10分

プログラム

第1部 光電融合半導体パッケージング基板技術の最新動向

(10:30〜12:00)

 生成AIの登場によってデータセンタの巨大化と高性能化が進んでいます。計算量の増加に従ってデータ通信に要する消費電力も爆発的に増加しています。喫緊の課題である演算と消費電力の両立を実現しうる技術として、半導体素子と光素子を同一パッケージ上に集積した光電融合パッケージ技術が世界中で注目を集めています。
 本講演では、光電融合半導体パッケージ技術の最新動向と産総研の取り組みに関して講演する。

  1. 光電融合半導体パッケージの背景
    1. 生成AIで拡大するデータセンタ
    2. 光電融合技術への期待
    3. 光電融合パッケージ技術の種類とロードマップ
    4. 光電融合パッケージ技術の世界的な最新研究開発動向
  2. 我々が提案する「アクティブオプティカルパッケージ」に関して
    1. 産総研光電融合研究センターの紹介
    2. アクティブオプティカルパッケージの概要と特長
    3. 要素技術1 : ポリマー光導波路
    4. 要素技術2 : ポリマーマイクロミラー
    5. 要素技術3 : 光コネクタ
    6. 要素技術4 : 外部光源 (ELS) を用いた動作実証
    7. アクティブオプティカルパッケージの最新成果
    8. 社会実装に向けた取り組み
      • 次世代GDC協議会光電コパッケージ検討部会、IOWN-GF

第2部 光電融合に向けたポリマー光導波路の材料と形成技術

(13:00〜14:30)

昨今のAI技術の急速な進展を受けて、GPU間ネットワークなどの短距離通信ネットワークに対しての高速化要求が高まっており、光通信技術の導入が検討されています。特に、光電融合という技術ワードがトレンドとなり、CPU・GPUなどの半導体チップ周りのデータ伝送への光伝送導入にむけてCo-packaged Optics技術が期待されています。光集積回路チップをLSIと同一の基板に実装する、このCo-Package技術は、電子回路基板・材料・デバイス・実装技術を大きく変えうる技術として、この数年、様々な革新がもたらされています。 本講演では、昨今高い注目を集めている光電融合、Co-Packaged Optics技術のキーデバイスとして期待されるポリマー光導波路について、これまでの開発の歴史から、現状の最先端の開発動向に至るまでを紹介いたします。特に1) ポリマー光導波路構成材料に対する要求仕様、2) シングルモード、マルチモード導波路とは何か?どう違うのか?、3) ポリマー光導波路の様々な作製方法とその特徴、4) 光導波路の特性評価例、などに関する技術的な話題さらには、今後の技術動向、サプライチェーン動向について解説致します。
  1. 技術背景
  2. ポリマー光導波路の構造からみた分類
  3. ポリマー光導波路の作製方法
  4. ポリマー光導波路のための材料と求められる特性
  5. ポリマー光導波路の特性表評価方法と特性例の紹介
  6. ポリマー光導波路の応用
    1. マルチモードポリマー光導波路の応用
    2. シングルモードポリマー光導波路の応用
    3. 三次元光導波路の可能性と期待

第3部 光電融合におけるシリコン系光導波路技術

(14:40〜16:10)

 光電融合においては、半導体チップ間での大容量光信号伝送が重要であり、シリコン系光集積回路 (シリコンフォトニクス) はその中核技術の一つである。
 本セミナーでは、各種シリコンフォトニクスデバイスの動作原理から、光電融合に向けた最新の技術動向までを解説する。

  1. 光導波路の基礎
    1. 伝搬モードと偏波
    2. 導波路構造の分類
  2. シリコンフォトニクスデバイスの基礎 (パッシブ素子)
    1. 光入出力素子 (エッジカプラ・グレーティングカプラ)
    2. 分岐・結合素子
    3. 波長フィルタ
  3. シリコンフォトニクスデバイスの基礎 (アクティブ素子)
    1. 光変調器
    2. 光パススイッチ
  4. 異種材料集積シリコンフォトニクスデバイス
    1. III-V光源集積
    2. Ge受光器集積
    3. 無機材料/EOポリマー集積光変調器
  5. 光電融合に向けた最新の技術動向

講師

  • 天野 建
    国立研究開発法人 産業技術総合研究所 光電融合研究センター
    研究センター長
  • 石榑 崇明
    慶応義塾大学 理工学部 物理情報工学科
    教授
  • 渥美 裕樹
    国立研究開発法人 産業技術総合研究所 光電融合研究センター 先端フォトニクス標準評価研究チーム
    主任研究員

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 25,000円 (税別) / 27,500円 (税込)

案内割引・複数名同時申込割引について

S&T出版からの案内をご希望の方は、割引特典を受けられます。
また、4名様以上同時申込で全員案内登録をしていただいた場合、1名様あたり 22,000円(税込)でご受講いただけます。

  • Eメール案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,000円(税別) / 73,700円(税込)
    • 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 80,000円(税別) / 88,000円(税込)
    • 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
  • Eメール案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
    • 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 200,000円(税別) / 220,000円(税込)
    • 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 250,000円(税別) / 275,000円(税込)

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 Zoomのシステム要件テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/7/7 銀焼結接合によるパワーデバイス実装の界面制御と信頼性設計 オンライン
2026/7/7 先端半導体デバイスにおける多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化技術 (2日間) オンライン
2026/7/7 先端メモリ・ロジックデバイスのためのCu及びPost-Cu多層配線技術の基礎から最新動向 オンライン
2026/7/9 電子部品の特性とノウハウ (2日間) オンライン
2026/7/9 電子部品の特性とノウハウ (1) オンライン
2026/7/10 CMPの基礎と最適なプロセスを実現する実践的総合知識 オンライン
2026/7/10 半導体パッケージの作製プロセスとその課題および最新技術動向 オンライン
2026/7/14 半導体パッケージの作製プロセスとその課題および最新技術動向 オンライン
2026/7/14 半導体ドライエッチングの基礎とプロセス制御技術 オンライン
2026/7/15 半導体・パワーデバイスの高発熱化に対応する沸騰冷却技術の基礎と設計・適用のポイント オンライン
2026/7/16 銀焼結接合によるパワーデバイス実装の界面制御と信頼性設計 オンライン
2026/7/16 半導体配線・パッケージング向け銅めっき技術の理解と制御ポイント オンライン
2026/7/16 シリコン/パワー半導体へのCMP技術の適用 オンライン
2026/7/16 半導体・パワーデバイスの高発熱化に対応する沸騰冷却技術の基礎と設計・適用のポイント オンライン
2026/7/16 ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向 オンライン
2026/7/17 感光性レジスト材料の設計、評価技術と先端半導体後工程の最新動向 オンライン
2026/7/17 半導体配線・パッケージング向け銅めっき技術の理解と制御ポイント オンライン
2026/7/21 パワーデバイスに向けた銅接合材の開発と特性評価 オンライン
2026/7/22 開閉接点・摺動接点・接続接点の接触理論と故障モード・メカニズムならびにその対策 東京都 会場・オンライン
2026/7/22 AIデータセンタにおいて広帯域、低消費電力を実現する光インターコネクト技術の動向 オンライン

関連する出版物

発行年月
2024/12/27 次世代高速・高周波伝送部材の開発動向
2024/11/13 世界のチップレット・先端パッケージ 最新業界レポート
2024/9/13 世界のAIデータセンターを支える材料・デバイス 最新業界レポート
2024/6/19 半導体・磁性体・電池の固/固界面制御と接合・積層技術
2024/4/30 次世代半導体用の難加工結晶材料のための超精密加工技術
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2023/9/29 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2023/4/28 次世代半導体パッケージの最新動向とその材料、プロセスの開発
2022/11/29 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術
2022/10/31 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術
2022/6/29 高周波対応基板の材料・要素技術の開発動向
2022/6/17 2022年版 電子部品市場・技術の実態と将来展望
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕 (CD-ROM版)
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕
2021/11/12 レジスト材料の基礎とプロセス最適化
2021/6/18 2021年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2020/7/17 2020年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2019/7/19 2019年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2018/3/20 レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決