技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

半導体製造用薬液の不純物対策

半導体製造用薬液の不純物対策

～フィルター/イオン交換樹脂の使い方、微量金属分析 / 微量金属不純物、パーティクルの徹底的な除去～
オンライン 開催
関連するセミナー・出版物
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する 関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、半島帯プロセスにおける濾過を取り上げ、濾過のメカニズム、プロセス設計と運転条件、スケールアップと濾過装置の種類、特徴とその選定、連続化及び最新動向について詳解いたします。

開催日

  • 2026年4月15日(水) 10時00分 ～ 17時00分

修得知識

  • 薬液中における不純物除去の基礎
  • フィルタの種類と役割
  • イオン交換樹脂の種類、特徴
  • イオン交換樹脂の半導体向け超純水精製への応用
  • イオン交換樹脂による金属イオンの捕集
  • イオン交換樹脂の半導体製造プロセスへの応用
  • ICP-MSを用いた半導体製造で用いられる薬液中の金属不純物の形態および分析方法

プログラム

第1部 半導体製造プロセスにおける濾過、分離

(2026年4月15日 10:00〜11:10)

  1. 薬液中に存在する汚染物質
    1. 薬液中における汚染物質の種類
    2. 汚染物質の由来
    3. 汚染物質の及ぼす影響
  2. フィルタの基礎
    1. 濾過膜の定義と種類
    2. 薬液用フィルタの材質と適合性
    3. 薬液用フィルタの種類と役割
  3. シービングフィルタについて
    1. シービングフィルタとは?
    2. 粒子除去性能の評価方法
    3. 粒子除去の具体例
  4. ノンシービングフィルタについて
    1. ノンシービングフィルタとは?
    2. 吸着性能の評価方法
    3. 吸着効果の具体例
  5. 金属除去フィルタについて
    1. 金属除去フィルタとは?
    2. 薬液中におけるイオン性物質の挙動
    3. 金属除去フィルタの性能評価方法
    4. 金属除去の具体例
    • 質疑応答

第2部 中性分子高除去RO膜の開発と半導体向け超純水製造への応用

(2026年4月15日 11:20〜12:30)

　RO膜の基礎と半導体向け超純水製造における要求および高性能化に関して、分析技術・膜技術の観点から紹介する。

  1. 逆浸透 (RO) 膜とは
    1. 水処理膜の種類と分離対象
    2. 超純水製造におけるRO膜
  2. 超純水製造向けRO膜の開発
    1. ひだ構造制御
      1. RO膜構造と設計指針
      2. 表面・断面構造の解析手法
    2. 孔構造制御
      1. ポリアミド膜中の水の状態解析
      2. サブナノ孔構造の可視化と制御
    • 質疑応答

第3部 イオン交換樹脂の種類、特徴と半導体向け超純水精製への応用

(2026年4月15日 13:10〜14:20)

  1. イオン交換樹脂の種類と特徴
    1. イオン交換樹脂の基本構造
    2. イオン交換樹脂の種類と分類
  2. イオン交換樹脂による金属・イオン除去
    1. イオン交換樹脂による金属・イオン吸着のメカニズム
    2. イオン交換樹脂による金属・イオン除去
    • 質疑応答

第4部 イオン交換樹脂による半導体製造で用いる超純水製造、有機溶剤からの金属除去

(2026年4月15日 14:30〜15:40)

  1. はじめに
    1. イオン交換樹脂の解説
    2. イオン交換樹脂の用途
  2. イオン交換樹脂による金属吸着
    1. イオン交換樹脂・キレート樹脂の種類
    2. イオン交換樹脂の選択性
    3. キレート樹脂による金属吸着
    4. 金属除去の評価事例
  3. 半導体製造プロセスにおける超純水製造
    1. 半導体製造プロセスにおけるイオン交換樹脂の必要性
    2. 高純度イオン交換樹脂
    3. 金属除去の評価事例
    • 質疑応答

第5部 半導体製造ラインにおける薬液中の金属不純物分析

(2026年4月15日 15:50〜17:00)

  1. 半導体製造で使用される薬液の種類および金属不純物の形態
  2. ICP-MSの原理
    1. 分子イオン、同重体イオン干渉の除去技術
      1. シールドトーチおよびクールプラズマ
      2. コリジョン・リアクションセル
      3. MS/MS
    2. ICP-MSの試料導入系の選択
    3. 各薬液分析に必要なチューニング条件
    4. イオン性および粒子状不純物分析の違い
  3. 極微量分析試料の調製時の注意点
    1. ハンドリングによる汚染の避け方
    2. 容器・器具からの汚染の低減方法
    3. 検量線用標準溶液の液性による影響
  4. 分析の全自動化による汚染の低減
    1. オンライン自動標準液添加装置
    2. 自動希釈機能付きオートサンプラー
    3. オンライン薬液中金属不純物分析システム
  5. 各種薬液の分析例
    • 質疑応答
ページのトップヘ

講師

  • 三浦 こずえ 氏
    日本インテグリス合同会社 フォトアプリケーション開発部
    フォトアプリケーションエンジニア
  • 峰原 宏樹 氏
    東レ株式会社 地球環境研究所
    主任研究員
  • 清水 由貴 氏
    三菱ケミカル株式会社 ウェルネス技術部 分離材技術グループ
    主任研究員
  • 出水 丈志 氏
    室町ケミカル株式会社 化学品事業部 化学品1部
    担当部長
  • 川端 克彦 氏
    ローツェイアス株式会社
    代表取締役
ページのトップヘ

主催

株式会社 技術情報協会
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 60,000円 (税別) / 66,000円 (税込)
複数名
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 55,000円(税別) / 60,500円(税込) で受講いただけます。
  • 5名様以降は、1名あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 60,000円(税別) / 66,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 110,000円(税別) / 121,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 165,000円(税別) / 181,500円(税込)
    • 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 220,000円(税別) / 242,000円(税込)
    • 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 250,000円(税別) / 275,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 Zoomのシステム要件 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
  • 開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
    ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
    印刷物は後日お手元に届くことになります。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する
ページのトップヘ

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/6/2 ナノインプリントリソグラフィの材料・プロセス技術と半導体回路形成への応用 オンライン
2026/6/3 半導体パッケージングの基礎、各製造プロセス技術 オンライン
2026/6/5 遠心分離機 (ディスク型/デカンタ型) の選定方法、設計要件、プロセス適用事例 オンライン
2026/6/5 半導体製造工程における洗浄・クリーン化技術と汚染制御対策 オンライン
2026/6/8 分離膜の基礎、性能と膜分離プロセスの開発動向 オンライン
2026/6/8 半導体プラズマにおける診断・モニタリングと制御技術 オンライン
2026/6/8 AI半導体に求められる要求特性と国内外の開発状況 オンライン
2026/6/10 ガス分離膜の細孔径・ガス透過性評価手法とシリカ系多孔膜によるCO2分離技術 オンライン
2026/6/11 半導体 (IC) の製造工程と半導体用素部材の基本情報 オンライン
2026/6/11 世界半導体産業への羅針盤 オンライン
2026/6/12 半導体パッケージングの基礎、各製造プロセス技術 オンライン
2026/6/15 化学工場で働く技術者に伝えたい使える化学工学知識 オンライン
2026/6/17 分離膜の基礎、性能と膜分離プロセスの開発動向 オンライン
2026/6/17 半導体プラズマにおける診断・モニタリングと制御技術 オンライン
2026/6/17 AI半導体に求められる要求特性と国内外の開発状況 オンライン
2026/6/19 高分子膜のガス透過メカニズムと高分子CO2分離膜の技術動向 オンライン
2026/6/19 化学プラントの蒸留塔における運転安定化とトラブル対応 オンライン
2026/6/22 AI半導体デバイス・サーバーにおける熱対策と冷却技術の最新動向 オンライン
2026/6/22 化学プラントの蒸留塔における運転安定化とトラブル対応 オンライン
2026/6/23 半導体デバイス・プロセス開発の実際 (2日間) オンライン
ページのトップヘ

関連する出版物

発行年月
2020/7/17 2020年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2019/7/19 2019年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2018/3/20 レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決
2018/1/10 SiC/GaNパワーエレクトロニクス普及のポイント
2014/10/31 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書
2014/10/31 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2014/9/15 活性汚泥処理 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2014/9/15 活性汚泥処理 技術開発実態分析調査報告書
2013/12/15 パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2013/12/15 パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書
2013/2/10 酸化物半導体 技術開発実態分析調査報告書
2013/2/10 酸化物半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/15 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/15 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書
2012/4/15 Intel 【米国特許版】 技術開発実態分析調査報告書
2011/11/15 半導体露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2010/11/29 無機イオン交換体
2010/6/5 半導体技術10社 技術開発実態分析調査報告書
2008/9/1 半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書
2008/9/1 半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
ページのトップヘ