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EUVリソグラフィの最新動向とレジスト材料の設計、評価技術

EUVリソグラフィの最新動向とレジスト材料の設計、評価技術

~本格的な量産へ向けた課題とその克服へ向けた技術開発の動向をチェック / 次世代のEUVレジストとして期待される「メタルレジスト」の特徴、評価方法も解説~
オンライン 開催

概要

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。

開催日

  • 2021年8月3日(火) 10時00分 16時30分

受講対象者

  • 紫外線硬化樹脂に関連する技術者、開発者、研究者
    • ナノインプリント
    • 電子部品・光学部品などの接着・乾燥
    • 印刷インキの乾燥
    • 塗料・塗装コーティング剤の乾燥・硬化
    • 光ファイバ等の保護コーティング
    • 光造形
    • 3Dプリンター
    • ジェルネイル等の装飾品 など
  • 紫外線硬化樹脂の初心者、これからUV硬化性樹脂の開発に携わる方
  • 紫外線硬化処理で課題を抱えている方

プログラム

第1部 EUVリソグラフィの最新動向と課題解決への技術開発

(2021年8月3日 10:00〜12:00)

 EUVリソグラフィー (EUVL) 技術は2020年よりスマートフォン、タブレット等のロジックデバイスの量産技術として本格的な量産技術として採用されています。次世代の半導体の量産に向けて、多くのEUVL技術課題があり、黎明期での開発の内容を知って上で、これらの課題可決に取り組む必要があります。一方で、我が国の経済活性化には半導体技術の進展が必須であり、国の安全保障と密接に絡む技術であります。この意味においても、まだまだ半導体微細加工技術が果たす役割が強い状況です。以上の内容を鑑みた講演内容になっていますので、ご視聴を頂けると幸いです。

  1. 半導体国際ロードマップの紹介
  2. 微細加工技術の必要性とその効果
  3. なぜEUVリソグラフィーが必要か?
  4. EUVリソグラフィーとは?
  5. EUVリソグラフィーの黎明期について
  6. EUVレジスト、マスク、ペリクル技術の現状とそれらの技術課題
  7. EUVリソグラフィー課題克服に向けた取り組み
  8. Beyond EUVリソグラフィー技術開発に向けた取り組みの紹介
  9. 世界に於ける日本の半導体技術覇権に向けての問題点・課題
  10. まとめ
    • 質疑応答

第2部 EUVリソグラフィ用レジスト材料の要求特性と分子設計

(2021年8月3日 13:00〜14:40)

 フォトレジスト材料は、露光システムの性能を発揮すべく、様々な構造を基盤としたポリマーや低分子化合物の合成が検討されてきた。レーザーに対する透明性、感度、ラフネス、耐エッチング性、および薄膜の安定性などである。それらのレジスト特性は、ポリマーや低分子の基本的な物理的特性や、光反応性のデータを集めることで、かなりの深部まで予想することが可能であり、特別なレジスト関連機器がなくても、レジスト材料の分子設計は可能であることを解説する。さらに、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について解説し、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説する。

  1. レジスト材料
    1. 原理
    2. 合成
    3. 化学増幅型
  2. ポジ型レジスト材料
  3. ネガ型レジスト材料
  4. 高分子レジスト材料と低分子レジスト
  5. レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
  6. 最新型レジスト材料
    • メタルレジスト材料
    • EB用レジスト材料
    • EUV用レジスト材料
    • 質疑応答

第3部 EUVレジストの評価技術

(2021年8月3日 14:50〜16:30)

 EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法について、解説します。

  1. EUVLの概要
    1. EUVLの概要
    2. EUVL用レジスト
  2. アウトガス評価技術
    1. EUVLレジストのアウトガス評価方法
    2. EUVLレジストのアウトガス評価装置
  3. EUVレジストの評価技術
    1. EUV透過率測定
    2. ナノパーティクル添加レジストの高感度化
  4. EUVメタルレジストの評価技術
    1. メタルレジストの概要
    2. EUVメタルレジストのアウトガス分析
    3. EUVメタルレジストの問題点
  5. EUVフォトレジストと電子線レジストの感度
    • 質疑応答

講師

  • 渡邊 健夫
    兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
    所長 / 教授
  • 工藤 宏人
    関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科
    教授
  • 関口 淳
    リソテックジャパン 株式会社
    取締役執行役員 / ナノサイエンス・グループ長

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
  • 開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
    ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
    印刷物は後日お手元に届くことになります。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

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