技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。
(2021年8月3日 10:00〜12:00)
EUVリソグラフィー (EUVL) 技術は2020年よりスマートフォン、タブレット等のロジックデバイスの量産技術として本格的な量産技術として採用されています。次世代の半導体の量産に向けて、多くのEUVL技術課題があり、黎明期での開発の内容を知って上で、これらの課題可決に取り組む必要があります。一方で、我が国の経済活性化には半導体技術の進展が必須であり、国の安全保障と密接に絡む技術であります。この意味においても、まだまだ半導体微細加工技術が果たす役割が強い状況です。以上の内容を鑑みた講演内容になっていますので、ご視聴を頂けると幸いです。
(2021年8月3日 13:00〜14:40)
フォトレジスト材料は、露光システムの性能を発揮すべく、様々な構造を基盤としたポリマーや低分子化合物の合成が検討されてきた。レーザーに対する透明性、感度、ラフネス、耐エッチング性、および薄膜の安定性などである。それらのレジスト特性は、ポリマーや低分子の基本的な物理的特性や、光反応性のデータを集めることで、かなりの深部まで予想することが可能であり、特別なレジスト関連機器がなくても、レジスト材料の分子設計は可能であることを解説する。さらに、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について解説し、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説する。
(2021年8月3日 14:50〜16:30)
EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法について、解説します。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
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