技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

メタルレジストの特徴とEUV露光による反応メカニズム

メタルレジストの特徴とEUV露光による反応メカニズム

～メタルレジストの構造、EUV露光における反応、半導体微細化の最新動向～
オンライン 開催
関連するセミナー・出版物
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する 関連するセミナー・出版物を探す

このセミナーは2025年4月に開催したセミナーのオンラインセミナー:オンデマンド配信です。
視聴方法のご案内メールの到着日より10営業日の間、動画をご視聴いただけます。
お申込は、2025年8月28日まで受け付けいたします。
(収録日:2025年4月17日 ※映像時間:約2時間9分)

概要

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

申込期間

  • 2025年7月1日(火) 13時00分 ～ 2025年8月29日(金) 15時30分

受講対象者

  • 紫外線硬化樹脂に関連する技術者、開発者、研究者
    • ナノインプリント
    • 電子部品・光学部品などの接着・乾燥
    • 印刷インキの乾燥
    • 塗料・塗装コーティング剤の乾燥・硬化
    • 光ファイバ等の保護コーティング
    • 光造形
    • 3Dプリンター
    • ジェルネイル等の装飾品 など
  • 紫外線硬化樹脂の初心者、これからUV硬化性樹脂の開発に携わる方
  • 紫外線硬化処理で課題を抱えている方

修得知識

  • メタルレジストの構造
  • EUV露光における反応
  • 半導体微細化の最新動向

プログラム

　近年2nmスケールの半導体が非常に注目を集めている。その中の核技術の1つとしてレジストがあげられる。本講演では1) メタルレジストがなぜ重要か、2) 各社が開発したメタルレジスト、3) EUV光利用におけるメタルレジストの必要性、4) メタルレジストのEUV露光による反応機構を中心に講演を行っていく。必要に応じて、2nmスケール半導体作製における核技術、世界動向についても講演を行う。

  1. レジスト
    1. 半導体構造
      1. ムアーの法則
      2. スケーリング則
      3. 平面構造FET構造の限界
      4. 平面構造FET構造以降のデバイス構造
      5. RapidusのGAA構造
      6. GAAフォークシート構造
      7. CFET構造
      8. ムアーの法則と半導体構造
      9. デバイス構造の推移予想
      10. 半導体の製造を行う会社数推移
    2. レジストとリソグラフィ
      1. レジスト露光光源の推移
      2. レジスト露光とcritical dimension
      3. リソグラフィのスケーリング則
      4. 現在のリソグラフィ
      5. LELE (Litho-etch Litho-etch)
      6. SADP (Self Aligned Double Patterning)
      7. 次世代リソグラフィ技術
      8. デバイスの微少化に必要なこと
    3. EUVとメタルレジスト
      1. 回路パターンに必要なこと
      2. レイリーの式
      3. EUV光源の周辺技術
      4. EUV露光のミラー
      5. 何故Mo/Si多層膜がEUV露光のミラーに適しているのか
      6. ASML社製のEUV露光装置
      7. Rapidusが納品したASML社製のNA0.33EUV露光装置
      8. ASML社製のNA0.55EUV露光装置
      9. high NA EUVで生じる偏光問題をどのように解決するか
      10. high NA EUVで用いられているミラー
      11. high NA EUV露光過程の動画 (ASML社 TWINACAN EXE:5000)
      12. high NA EUVロードマップ
      13. EUVレジスト側で必要なこと
      14. EUV光吸収率の元素依存性
      15. EUV露光用新規レジストの必要性
      16. 高感度EUVレジスト材料に求められるもの
      17. メタルレジスト
      18. 化学増幅型有機レジストとメタルレジスト
      19. メタルレジストのEUV露光に対する優位性
      20. メタルレジストの開発の歴史
    4. 余談
      1. チップレットとは
      2. ファンダリーとは
      3. NAとは
      4. レジストにおけるトレードオフ
  2. メタルレジスト
    1. メタルレジストの基礎物性
      1. 無機レジスト材料
      2. 元素の光学濃度値
      3. 材料設計を考慮する際に重要なEUV光による吸収率の元素依存性
      4. EUV光によって吸収される元素の軌道
    2. 各社が開発したメタルレジスト
      1. Inpriaのメタルレジスト作製の歴史
      2. Inpriaのメタルレジストの種類
      3. コーネル大学のメタルレジスト作製の歴史
      4. コーネル大学のメタルレジストの種類
      5. EIDECのメタルレジスト作製の歴史
      6. EIDECのメタルレジストの種類
      7. SUNY Polytechnic Instituteの歴史及び種類
      8. ドライメタルレジスト (Lam research)
      9. ドライメタルレジストの利点
  3. メタルレジストのEUV露光による反応機構の解析、および大気安定性
    小生の研究を元に
    1. メタルレジストのEUV露光による反応機構
      1. XRDによるEUV露光による構造変化解明
      2. 光電子分光によるEUV露光による反応元素解明
      3. X線吸収分光法によるEUV露光による反応化学結合解明
    2. メタルレジストの大気安定生
      1. 光電子分光によるメタルレジストの大気暴露下での化学状態
      2. X線吸収分光法によるによるメタルレジストの大気暴露下での反応結合種解明
      3. 光電子分光によるEUV露光したメタルレジストの大気暴露下での化学状態
      4. X線吸収分光法によるによるメタルレジストの大気暴露下での反応結合種解明
  4. 質疑応答
ページのトップヘ

講師

  • 山下 良之 氏
    国立研究開発法人 物質・材料研究機構 電子・光機能材料研究センター
    主幹研究員
ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー 株式会社
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 25,600円 (税別) / 28,160円 (税込)
複数名
: 19,000円 (税別) / 20,900円 (税込)

複数名受講割引

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 19,000円(税別) / 20,900円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 25,600円(税別) / 28,160円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 38,000円(税別) / 41,800円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 57,000円(税別) / 62,700円(税込)
  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
  • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

  • 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
  • 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
  • お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

オンデマンドセミナーの留意点

  • 申込み後、セミナーのキャンセルは承りかねます。 予めご了承ください。
  • 録画セミナーの動画をお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
  • お申し込み前に、 視聴環境 をご確認いただき、 視聴テスト にて動作確認をお願いいたします。
  • お申し込み日から3営業日後までに、視聴方法のご案内メールをお送りいたします。
  • 視聴期間は、視聴方法のご案内メールの送信日より10営業日の間です。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • 動画視聴・インターネット環境をご確認ください
    • セキュリティの設定や、動作環境によってはご視聴いただけない場合がございます。
    • サンプル動画が閲覧できるかを事前にご確認いただいたうえで、お申し込みください。
  • 本セミナーの録音・撮影、複製は固くお断りいたします。
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する
ページのトップヘ

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2025/12/11 ヒートシールの基礎、接合のメカニズムと品質管理・不具合対策 オンライン
2025/12/11 ポリマーアロイにおける相溶性の基礎と物性制御ノウハウ オンライン
2025/12/11 レジストリソグラフィー技術の基礎と実務およびトラブル対策 オンライン
2025/12/11 高速通信用低誘電損失 (低誘電率・低誘電正接) ポリイミド開発に向けた分子設計と特性制御 オンライン
2025/12/12 動的粘弾性測定 オンライン実習講座 オンライン
2025/12/12 フィラーの分散・充填技術およびナノコンポジットの研究開発動向 オンライン
2025/12/12 シランカップリング剤の基礎、反応メカニズム、各種応用、その評価 オンライン
2025/12/12 高分子技術者のためのレオロジー (入門と活用) オンライン
2025/12/12 塗装・コーティング・フィルム製造現場のゴミ・異物対策セミナー 東京都 会場・オンライン
2025/12/15 半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望 (2025年冬版) オンライン
2025/12/15 プラスチック用添加剤の作用機構と使い方 オンライン
2025/12/15 ケミカルリサイクル技術の基本、手法の適用・選択と技術開発動向 オンライン
2025/12/15 溶解度パラメータの基礎・求め方から実務事例・最新研究事例 オンライン
2025/12/16 溶解度パラメータの基礎・求め方から実務事例・最新研究事例 オンライン
2025/12/17 生体親和性材料の界面設計・評価・スクリーニング オンライン
2025/12/17 エポキシ樹脂の基礎と用途別の要求特性および設計手法 オンライン
2025/12/18 EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望 オンライン
2025/12/18 UV硬化とEB硬化の基礎と技術比較および応用技術 オンライン
2025/12/18 プラスチック射出成形の基礎知識とトラブルシューティング オンライン
2025/12/18 架橋剤を使うための実際的知識 オンライン
ページのトップヘ

関連する出版物

発行年月
2024/7/31 ポリウレタンの材料設計、環境負荷低減と応用事例
2024/7/29 サステナブルなプラスチックの技術と展望
2024/7/22 世界のレトルトフィルム・レトルトパウチの実態と将来展望 2024-2026
2024/7/22 世界のレトルトフィルム・レトルトパウチの実態と将来展望 2024-2026 (書籍版 + CD版)
2024/7/17 世界のリサイクルPET 最新業界レポート
2024/6/28 ハイドロゲルの特性と作製および医療材料への応用
2024/5/30 PETボトルの最新リサイクル技術動向
2024/2/29 プラスチックのリサイクルと再生材の改質技術
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2023/10/31 エポキシ樹脂の配合設計と高機能化
2023/9/29 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2023/7/31 熱可塑性エラストマーの特性と選定技術
2023/7/14 リサイクル材・バイオマス複合プラスチックの技術と仕組
2023/3/31 バイオマス材料の開発と応用
2023/1/31 液晶ポリマー (LCP) の物性と成形技術および高性能化
2023/1/6 バイオプラスチックの高機能化
2022/10/5 世界のプラスチックリサイクル 最新業界レポート
2022/8/31 ポリイミドの高機能設計と応用技術
2022/5/31 樹脂/フィラー複合材料の界面制御と評価
ページのトップヘ