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渡邊 健夫

所属

兵庫県立大学
高度産業科学技術研究所

役職

所長 / 教授

学位

理学博士

専門

  • 半導体微細加工
  • 極端紫外線リソグラフィー
  • 放射光科学

経歴

  • 1986年 関西医科大学 教養部 物理学教室 非常勤講師
  • 1990年 大阪市立大学 大学院 理学研究科 後期博士課程修了 理学博士
  • 1990年 シャープ株式会社 中央研究所 DRAMの研究開発に従事
    • 光リソグラフィー、電子線リソグラフィー、X線等倍露光、極端紫外線リソグラフィーの半導体微細加工の研究開発に従事
  • 1996年 旧姫路工業大学 高度産業科学技術研究所 助手
    • 極端紫外線リソグラフィーの研究開発に従事
  • 2004年 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 助教
    • 極端紫外線リソグラフィーの研究開発に従事
  • 2008年 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 准教授
  • 2015年 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 教授
    • 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 極端紫外線リソグラフィー研究開発センター センター長
  • 2016年 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長・教授
  • 2022年
    • 兵庫県立大学 学長特別補佐 (先端科学技術研究担当)
    • 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長
    • 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 極端紫外線リソグラフィー研究開発センター長、教授

学協会

  • SPIE
  • IEEE
  • 応用物理学会
  • 高分子学会
  • 日本放射光学会
  • フォトポリマー国際会議 (International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST) .) 、理事、国際局長、EUVL国際シンポジウム議長
  • フォトマスクジャパン (International Conference on Photomask Japan) 組織委員会 委員長
  • International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN) プログラム委員
  • International Roadmap for Device and System (IRDS) , Lithography Committee member

受賞

  • 2002年 第7回日本物理学会 論文賞
  • 2008年 Best Poster Award 1st Place, Takeo Watanabe, 2008 International Workshop on EUV Lithography
  • 2013年 Best Paper Award, Takeo Watanabe, 2013 International Workshop on EUV Lithography
  • 2016年 大阪ニュークリアサイエンス協会賞