技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

フォトレジストの材料設計

フォトレジストの材料設計

～高解像度、低ラフネス化、高感度化技術～
東京都 開催 会場 開催
関連するセミナー・出版物
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する 関連するセミナー・出版物を探す

開催日

  • 2019年7月12日(金) 10時00分 ～ 17時00分

受講対象者

  • フォトレジストに関連する技術者、開発者、研究者
  • フォトレジストで課題を抱えている方
  • これからフォトレジストに携わる方

プログラム

第1部 フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの基礎と高感度化の手法

(2019年7月12日 10:00〜12:00)

　光酸発生剤および光塩基発生剤を用いた感光性樹脂 (レジスト、UV硬化) の基礎について述べる。さらに、様々な分子増幅を駆使した感光性ポリマーの高感度化・高解像度化、硬化不良対策について演者らの研究を中心に述べる。

  1. 背景
    • 酸・塩基触媒を使用した光反応性材料
  2. 光酸発生剤
    1. 光酸発生剤の構造と特性
    2. 光反応性材料への応用
  3. 酸増殖剤の特性と応用
    1. 酸増殖剤の構造と特性
    2. UV硬化の高効率化・硬化不良対策
    3. 化学増幅レジストの高感度化
  4. 光塩基発生剤の特性と応用
    1. 非イオン性光塩基発生剤の系
    2. イオン性光塩基発生剤系の系
  5. 塩基増殖剤の特性と応用
    1. 塩基増殖剤の構造と特性
    2. UV硬化の高効率化・硬化不良対策
    3. 光パターニング材料への応用
  6. まとめ
    • 質疑応答

第2部 光開始剤の種類、特徴とフォトレジストへの応用事例

(2019年7月12日 12:45〜14:45)

　フォトレジストはフォトリソグラフィーによるパターニングを行う際に利用されている材料である。光 (UV) を用いて精細なパターンを形成できることから、現状ではあらゆる電子情報機器の製造プロセスの基盤技術となっている。このフォトレジストの性能を支配する材料が光開始剤であり、フォトレジストの利用範囲の拡大やパターン精細度の向上を支えるためにこの材料の技術も様々な工夫がなされ日々改良が進んでいる。本講演では光開始剤や添加剤を適切に用いることでフォトレジストの性能をいかに引き出せるか、実際の製品を例に取りながら紹介する。また、フォトレジスト以外の用途展開についても提案していく。

  1. 光開始剤について
    1. 光硬化技術について
    2. 光開始剤の種類と特徴
  2. 光開始剤の設計と評価
    1. 光開始剤に求められる特性
    2. 光開始剤の設計と合成
    3. 光開始剤の評価
  3. ディスプレイ向けフォトレジスト用光開始剤
    1. 概要
    2. フォトレジストの感度と光開始剤
    3. フォトレジストのパターニング特性と光開始剤
  4. UV-LED用光開始剤
    1. 各UV-LEDに対応した光開始剤
    2. UV-LEDの硬化性評価
  5. フォトレジスト用添加剤
    1. 光硬化に適した酸化防止剤について
    2. 光硬化に適したUV吸収剤について
  6. まとめ
    • 質疑応答

第3部 EUVレジスト材料の超高感度、超高解像度に向けた分子設計

(2019年7月12日 15:00〜17:00)

　極端紫外線 (EUV) レジスト材料は、EUVフォトレジストシステムを実用化するためには必要不可欠な研究課題である。しかしながら、未だに分子設計指針を模索中である。その中で、高解像性レジスト材料を達成させるために試行錯誤してきた方法、および今後の可能性についてまとめた。

  1. EUVレジストの課題
    1. 化学増幅型レジストシステムを応用したEUVレジストシステム
    2. 解像度、ラフネス、感度の関係
  2. レジストの分子サイズとレジストパタンの関係
  3. 分子レジスト材料の例
    1. カリックスアレーンタイプ
    2. フェノール樹脂タイプ
    3. 特殊骨格タイプ
    4. 光酸発生剤 (PAG) 含有タイプ
    5. 金属含有ナノパーテイクルを用いた高感度化レジスト材料の開発
  4. 主鎖分解型ハイパーブランチポリアセター
    • 質疑応答
ページのトップヘ

講師

  • 有光 晃二 氏
    東京理科大学 創域理工学部 先端化学科
    教授
  • 中屋敷 哲千 氏
    株式会社ADEKA 情報化学品開発研究所 光材料研究室
    テーマーリーダー
  • 工藤 宏人 氏
    関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科
    教授
ページのトップヘ

会場

株式会社 技術情報協会
東京都 品川区 西五反田2-29-5 日幸五反田ビル8F
株式会社 技術情報協会の地図
ページのトップヘ

主催

株式会社 技術情報協会
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 55,000円 (税別) / 59,400円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 54,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 50,000円(税別) / 54,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 59,400円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 108,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 162,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する
ページのトップヘ

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/9/14 高分子材料のアニール処理を正しく理解する オンライン
2026/9/14 高分子接着の基礎と接着性制御に向けた界面構造・残留応力の評価および表面処理 オンライン
2026/9/14 高分子複合材料の強度と耐衝撃性 オンライン
2026/9/15 高分子分散剤の種類、作用機構、取捨選択と効果的に活用するための必須知識 オンライン
2026/9/15 高分子結晶及び結晶化プロセスの基礎、制御と結晶構造の解析手法 オンライン
2026/9/15 ポリマーアロイ・ブレンドの基礎とモルフォロジー・物性の制御 オンライン
2026/9/16 高分子分散剤の種類、作用機構、取捨選択と効果的に活用するための必須知識 オンライン
2026/9/17 ゴム・プラスチック材料のトラブル解決 2コースセット 東京都 会場
2026/9/17 高分子材料の劣化メカニズムと解析、寿命評価と対策事例 東京都 会場
2026/9/17 マテリアルズインフォマティクスによる溶媒探索、相溶性予測 オンライン
2026/9/17 高分子の構造と物性との関係・その制御 オンライン
2026/9/18 プラスチック添加剤の正しい選択と配合設計による高性能化 オンライン
2026/9/18 大規模言語モデルを活用した材料開発の効率化とその事例 オンライン
2026/9/18 ポリマー材料の難燃化技術の基礎と配合設計・配合事例、難燃剤の規制等の動向 オンライン
2026/9/24 エポキシ樹脂の配合設計と硬化剤の選び方、使い方 オンライン
2026/9/24 ポリオレフィン系エラストマーとポリプロピレンのブレンド・改質技術 オンライン
2026/9/24 シランカップリング剤の反応、処理層、表面被覆状態、効果の解析 オンライン
2026/9/28 プラスチック成形品の残留応力の発生メカニズムと解放メカニズム オンライン
2026/9/28 超分子架橋による機能高分子材料 オンライン
2026/9/28 高分子材料のアニール処理を正しく理解する オンライン
ページのトップヘ