特許情報分析(パテントマップ)から見た

画像診断機器(放射線) 技術開発実態分析調査報告書

～注目技術別動向予測シリーズ～

概要

本調査報告書は、「画像診断機器(放射線)」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
画像診断機器(放射線) 技術開発実態分析調査報告書のCD-ROM版もご用意しております。

ご案内

1. 調査目的

「画像診断機器(放射線)」に関する公開件数、出願人(共同出願人)、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、

(1). どの画像診断機器(放射線)関連企業にどのような技術の公開があるか、
(2). 各企業の技術開発動向はどのように推移しているか、
(3). 最近10年間における関連技術の消長はどのようになっているか、
(4). 各企業間の連携状況はどのようになっているか、
(5). 直近2年間における企業及び技術の注目すべき動向は何か、
(6). 各企業がどの弁理士(特許事務所)を利用しているか、
等を明確にして、知財の現状に付き具体的データを提供し、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2. 特許情報の収集方法

本調査報告書は、「画像診断機器(放射線)」に関する最近10年余(国内公開日:2003年1月1日～2013年3月31日)に及ぶ公開特許について、特許検索ASPサービスSRPARTNER」((株)日立システムズ製)を使用し、検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。特許情報公報の総数は 13,336 件である。

3. 報告書の構成

本報告書は、以下の3つの部分から構成されている。

1. パテントマップ編
- A. 全般分析
- B. 上位20出願人比較分析
- C. 上位5出願人個別分析
- D. 特定2社比較分析(1位東芝G、2位富士フイルムG)
- E. 上位20特許分類分析
- F. 特定特許分類分析
- G. キーワード分析 ※キーワード(発明の名称、要約、請求の範囲から抽出)においては、下記 1グループの観点から分析を行った。
  - (1). 手段・装置系キーワード(撮影手段・装置、制御手段・装置など18個)
- H. 直近2年間の動向分析(2011年3月～2013年2月)
- I. 弁理士(特許事務所)の動向分析
2. パテントチャート編
3. 総括コメント

4. 本報告書の特徴

「画像診断機器(放射線)」に関する最近10年余、さらには直近2年間(最新月まで)の技術動向が分かりやすく把握できる
本技術分野に関係する弁理士(特許事務所)の動静が読み取れる
パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい

パテントマップ実例、および本文中の実際のページ例

A. 全般分析
- A-1. 全体の技術開発ライフサイクル
- A-2. 公開件数の推移(年次と累計)
- A-3. 出願人数の推移(年次と累計)
- A-4. 新規発明者数の推移(年次と累計)
- A-5. 新規FIメイングループ分類数の推移(年次と累計)
- A-6. 新規FIサブグループ分類数の推移(年次と累計)
- A-7. 新規Fターム分類数の推移(年次と累計)
- A-8. 出願人別公開件数ランキング(上位100)
- A-9. 発明者別公開件数ランキング(上位50)
- A-10. FIメイングループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- A-11. FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位100)
- A-12. Fタームテーマコード分類別公開件数ランキング(上位50)
- A-13. Fターム分類別公開件数ランキング(上位100)
- A-14. 1位Fタームテーマコード4C093の技術分類別件数(観点×数字)
- A-15. 2位Fタームテーマコード2G088の技術分類別件数(観点×数字)
- A-16. 出願人別参入・撤退状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-17. FIメイングループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-18. FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-19. Fターム分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-20. 出願人別公開件数伸長率(件数差8件以上)
- A-21. 発明者別公開件数伸長率(上位50、件数差25件以上)
- A-22. FIメイングループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差5件以上)
- A-23. FIサブグループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差5件以上)
- A-24. Fターム分類別公開件数伸長率(上位50、件数差10件以上)
- A-25. FIメイングループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差10名以上)
- A-26. FIサブグループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差15名以上)
- A-27. Fターム分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差20名以上)
B. 上位20出願人比較分析
- B-1. 公開件数比較(2003年～2007年 VS 2008年～2012年)
- B-2. 公開件数の推移(累計)
- B-3. 共同出願人数の推移(累計)
- B-4. 新規発明者数の推移(累計)
- B-5. 新規FIメイングループ分類数の推移(累計)
- B-6. 新規FIサブグループ分類数の推移(累計)
- B-7. 新規Fターム分類数の推移(累計)
- B-8. 新規キーワード数の推移(累計)
- B-9. 上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
- B-10. 上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
- B-11. 上位20Fターム分類との公開件数相関
- B-12. 上位2Fタームテーマコード分類における公開件数比較
- B-13. 手段・装置系キーワードとの公開件数相関
- B-14. 手段・装置系キーワードとの発明者数相関
- B-15. 公開件数占有率
- B-16. 審査・権利状況
- B-17. 公開件数の伸びと1位Fターム分類4C093AA22に関する構成率比較
- B-18. 発明者数*FIサブグループ分類数の比較
C. 上位5出願人個別分析
- C-1-1. 【東芝G】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-2. 【富士フイルムG】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-3. 【日立G】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-4. 【コニカミノルタ】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-5. 【キヤノン】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-1. 【東芝G】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-2. 【富士フイルムG】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-3. 【日立G】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-4. 【コニカミノルタ】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-5. 【キヤノン】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-3-1. 【東芝G】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-2. 【富士フイルムG】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-3. 【日立G】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-4. 【コニカミノルタ】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-5. 【キヤノン】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-1. 【東芝G】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-2. 【富士フイルムG】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-3. 【日立G】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-4. 【コニカミノルタ】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-5. 【キヤノン】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-5-1. 【東芝G】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-2. 【富士フイルムG】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-3. 【日立G】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-4. 【コニカミノルタ】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-5. 【キヤノン】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-6-1. 【東芝G】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-2. 【富士フイルムG】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-3. 【日立G】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-4. 【コニカミノルタ】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-5. 【キヤノン】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-7-1. 【東芝G】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-2. 【富士フイルムG】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-3. 【日立G】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-4. 【コニカミノルタ】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-7-5. 【キヤノン】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-8-1. 【東芝G】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-2. 【富士フイルムG】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-3. 【日立G】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-4. 【コニカミノルタ】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-5. 【キヤノン】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-9-1. 【東芝G】共同出願人との連携
- C-9-2. 【富士フイルムG】共同出願人との連携
- C-9-3. 【日立G】共同出願人との連携
- C-9-4. 【コニカミノルタ】共同出願人との連携
- C-9-5. 【キヤノン】共同出願人との連携
D. 特定2社比較分析(1位東芝G、2位富士フイルムG)
- D-1. 2社の上位10FIサブグループ分類別公開件数の推移(年次)
- D-2. 2社の東芝G上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-3. 2社の富士フイルムG上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-4. 2社の4C093AA(放射線診断機器>撮影システムの種別)のFターム分類別公開件数比較
- D-5. 2社の4C093CA(放射線診断機器>目的)のFターム分類別公開件数比較
- D-6. 2社のFIサブグループ分類別出現・消失状況(公開件数上位20)
- D-7. 2社のFターム分類別出現・消失状況(公開件数上位20)
- D-8. 東芝Gの公開件数伸び変遷
- D-9. 富士フイルムGの公開件数伸び変遷
- D-10. 2社とFターム分類(上位20)との公開件数相関
- D-11. Fターム分類別公開件数グロスランキング(上位10)
E. 上位20特許分類分析
- E-1. FIメイングループ分類別公開件数比較(上位20)(2003年～2007年VS 2008年～2012年)
- E-2. FIサブグループ分類別公開件数比較(上位20)(2003年～2007年VS 2008年～2012年)
- E-3. Fターム分類別公開件数比較(上位20)(2003年～2007年VS 2008年～2012年)
- E-4. FIメイングループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-5. FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-6. Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-7. FIメイングループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-8. FIサブグループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-9. Fターム分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-10. FIメイングループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-11. FIサブグループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-12. Fターム分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-13. FIメイングループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
- E-14. FIサブグループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
- E-15. Fターム分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
F. 特定特許分類分析
- F-1. 特定特許分類分析(1)
  - F-1-1. 特定FIサブグループ分類の公開件数の推移(年次)
  - F-1-2. 特定FIサブグループ分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
  - F-1-3. 特定Fターム分類の公開件数の推移(年次)
  - F-1-4. 特定Fターム分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
  - F-1-5. 特定FIサブグループ分類の新規出願人数の推移(年次)
  - F-1-6. 特定Fターム分類の新規出願人数の推移(年次)
  - F-1-7. 特定FIサブグループ分類の新規発明者数の推移(累計)
  - F-1-8. 特定Fターム分類の新規発明者数の推移(累計)
  - F-1-9. 特定FIサブグループ分類A61B6/00の公開件数伸長率変遷
  - F-1-10. 特定FIサブグループ分類A61B6/03の公開件数伸長率変遷
  - F-1-11. 特定Fターム分類4C093AA22の公開件数伸長率変遷
  - F-1-12. 特定Fターム分類4C093CA18の公開件数伸長率変遷
  - F-1-13. 特定FIサブグループ分類A61B6/00の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-14. 特定FIサブグループ分類A61B6/03の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-15. 特定Fターム分類4C093AA22の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-16. 特定Fターム分類4C093CA18の出願人別公開件数ランキング(上位50)
- F-2. 特定特許分類分析(2)
  - F-2-1. 特定Fターム分類4C093AA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-2. 特定Fターム分類4C093BA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-3. 特定Fターム分類4C093CA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-4. 特定Fターム分類4C093DA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-5. 特定Fターム分類4C093AA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-6. 特定Fターム分類4C093BA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-7. 特定Fターム分類4C093CA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-8. 特定Fターム分類4C093DA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-9. 特定Fターム分類4C093AA関連と4C093BA関連との公開件数相関
  - F-2-10. 特定Fターム分類4C093AA関連と4C09CA関連との公開件数相関
  - F-2-11. 特定Fターム分類4C093AA関連と4C093DA関連との公開件数相関
  - F-2-12. 特定Fターム分類4C093BA関連と4C093CA関連との公開件数相関
  - F-2-13. 特定Fターム分類4C093BA関連と4C093DA関連との公開件数相関
  - F-2-14. 特定Fターム分類4C093CA関連と4C093DA関連との公開件数相関
  - F-2-15. 特定Fターム分類4C093AA関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-16. 特定Fターム分類4C093BA関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-17. 特定Fターム分類4C093CA関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-18. 特定Fターム分類4C093DA関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-19. 特定Fターム分類4C093AA関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-20. 特定Fターム分類4C093BA関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-21. 特定Fターム分類4C093CA関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-22. 特定Fターム分類4C093DA関連の公開件数伸長率変遷
G. キーワード分析
- G-1. キーワード別公開件数ランキング(上位100)
- G-2. キーワード別出現・消失状況(最近80、公開件数10件以上)
- G-3. キーワード別公開件数の伸長率(上位50、件数差25件以上)
- G-4. 手段・装置系キーワードの公開件数の推移(年次)と比率
- G-5. 手段・装置系キーワードの出願人数の推移(累計)
- G-6. 手段・装置系キーワードの新規発明者数の推移(累計)
- G-7. 手段・装置系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
H. 直近2年間の動向分析(2011年4月～2013年3月)
- H-1. 出願人別公開件数ランキング(上位20)
- H-2. 出願人別公開件数占有率(上位20)
- H-3. FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位20)
- H-4. FIサブグループ分類1位A61B6/00と他分類との相関(上位20)
- H-5. Fターム分類別公開件数ランキング(上位20)
- H-6. Fターム分類1位4C093EB17と他分類との相関(上位20)
- H-7. 上位20出願人と上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
- H-8. 上位20出願人と上位20Fターム分類との公開件数相関
I. 弁理士(特許事務所)の動向分析
- I-1. 弁理士(特許事務所)別公開件数ランキング(上位40)
- I-2. 弁理士(特許事務所)別公開件数の推移(上位40、年次)
- I-3. 上位40弁理士(特許事務所)と上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
- I-4. 上位40弁理士(特許事務所)と上位40出願人との公開件数相関

2. パテントチャート編

(1). 浜松ホトニクスの時系列チャート分析(2007年～2013年3月)
(2). 朝日レントゲン工業の時系列チャート分析(2007年～2013年3月)
(3). 浜松ホトニクスの上位2FIサブグループ分類と上位2発明者のマトリクスチャート分析(2007年～2013年3月)
(4). 朝日レントゲン工業の上位2FIサブグループ分類と上位2発明者のマトリクスチャート分析(2007年～2013年3月)

3. 総括コメント

参考資料

資料1 : 出願人統合リスト
資料2 : 出願人グループ化リスト
資料3 : 日立Gの2003年～2013年3月における全公報133件の審査権利状況リスト
資料4 : パテントマップ・パテントチャートの種別と見方

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出版社

株式会社パテントテック社

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お問い合わせ

本出版物に関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(出版社への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

体裁・ページ数

A4判簡易製本 (Viewerソフトウェア、パテントマップ・チャート添付) 237ページ

ISBNコード

ISBN978-4-86483-230-4

発行年月

2013年6月

販売元

tech-seminar.jp

価格

51,545円 (税別) / 56,700円 (税込)

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2025/1/14	GMP省令対応:医薬製造所における製品品質照査と品質システムの構築 (PQS)		オンライン
2025/1/15	ファージセラピーの最新開発動向と次世代耐性菌対策への展望		オンライン
2025/1/15	QMSRポイント解説		オンライン
2025/1/15	体外診断用医薬品における承認申請書作成ノウハウおよびPMDA相談のポイント		オンライン
2025/1/17	遺伝子治療薬の開発・薬事戦略と承認取得		オンライン
2025/1/17	洗浄バリデーションでの洗浄方法選択、残留限度値とホールドタイム設定		オンライン
2025/1/17	グローバル開発における承認申請のための医薬英語/英文ライティング入門		オンライン
2025/1/21	不具合発生の可能性を予測し、未然に原因を排除するための変更管理・逸脱管理 (リスクのクラス分類と運用の留意点)	東京都	オンライン
2025/1/21	原薬GMP基礎講座		オンライン
2025/1/22	洗浄バリデーションの基礎と残留許容値、回収率設定の科学的根拠の示し方		オンライン
2025/1/24	GMP対応工場「設計/施工」「維持管理/保守点検」コース (2日間)		オンライン
2025/1/24	GMP対応工場 (増築・新規構築) における設計/施工時の注意点とURSの具体的記載例		オンライン
2025/1/24	GMP省令が要求するQAの逸脱の防止対策とCAPA/変更管理		オンライン
2025/1/24	CMC試験におけるOOS・OOT 判断/発生時の対応	東京都	会場・オンライン
2025/1/27	洗浄バリデーションでの洗浄方法選択、残留限度値とホールドタイム設定		オンライン
2025/1/28	遺伝子治療薬の開発・薬事戦略と承認取得		オンライン
2025/1/28	医療機器開発における生物学的安全性評価の進め方		オンライン
2025/1/28	QA担当者が抑えるべきGMP適合性調査対応と査察当局による指摘事例と対策		オンライン

発行年月
2021/8/31	創薬研究者・アカデミア研究者が知っておくべき最新の免疫学とその応用技術
2021/8/26	薬事規制・承認審査の3極比較と試験立案・臨床データパッケージ/CMCグローバル申請 (製本版＋ebook版)
2021/8/26	薬事規制・承認審査の3極比較と試験立案・臨床データパッケージ/CMCグローバル申請
2021/5/27	[Global] 治験/市販後での安全性情報の収集・評価・報告要否とPVベンダーコントロール (書籍 + ebook版)
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2021/4/28	医療機器の保険適用戦略 (製本版 + ebook版)
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2021/3/30	経験/査察指摘/根拠文献・規制から導く洗浄・洗浄バリデーション:判断基準と実務ノウハウ
2021/3/30	経験/査察指摘/根拠文献・規制から導く洗浄・洗浄バリデーション:判断基準と実務ノウハウ (製本版＋ebook版)
2021/3/15	体温計 (CD-ROM版)
2021/3/15	体温計
2020/10/28	QMS/ISO関係をふまえた医療機器「プロセス」「滅菌」「包装」「ソフトウェア」バリデーションの進め方
2020/7/31	生体情報センシングと人の状態推定への応用
2020/6/30	米国での体外診断用医薬品の開発/審査対応実務集
2020/4/30	生体情報計測による感情の可視化技術
2020/4/27	各国要求及び治験環境と現地の実情
2020/3/30	当局要求をふまえたデータインテグリティ手順書作成の要点
2020/3/24	リアルワールドデータの使用目的に応じた解析手法 - 各データベースの選択と組み合わせ -
2020/2/27	海外データ (試験施設) /海外導入品の信頼性基準適用と効率的なデータ利用・CTD申請
2020/1/30	凍結乾燥の最適な条件設定による品質の安定化 - ラボ機と生産機の性能の違いを反映させたスケールアップ -

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