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液晶パネル用カラーフィルタ作製技術

液晶パネル用カラーフィルタ作製技術

目次

第1章 総論 ~ 液晶パネルにおけるカラーフィルタ

  • 1. カラー液晶パネルの構成
  • 2. 白黒表示液晶パネル
    • 2.1 位相補償型STN-LCD
    • 2.2 a-SiTFT-LCD
  • 3. カラーフィルタ基板
    • 3.1 構造
    • 3.2 製造法
    • 3.3 カラーフィルタ完成後のプロセス
  • 4. バックライト
    • 4.1 特性
    • 4.2 構造

第2章 カラーフィルタ形成技術

第1節 染色法によるカラーフィルタの形成
  • 1. はじめに
  • 2. カラーフィルタの概要
    • 2.1 歴史
    • 2.2 要求品質
    • 2.3 カラーフィルタの構造および構成要素
  • 3. 染色法カラーフィルタの製造技術
    • 3.1 可染性感光材料
    • 3.2 染料
    • 3.3 保護膜
  • 4. 信頼性およびその問題点
  • 5. 今後の課題
第2節 顔料分散法によるカラーフィルタの形成
  • Ⅰ 顔料分散法概論
    • 1. はじめに
    • 2. 各種分散法
      • 2.1 着色剤の特徴
      • 2.2 製造方法
    • 3. まとめ
  • Ⅱ 顔料分散法によるカラーフィルタの形成 (1)
    • 1. はじめに
    • 2. 顔料分散法の製造方法および特徴
      • 2.1 高感度レジスト
      • 2.2 顔料の分散
      • 2.3 高感度着色感剤
      • 2.4 カラーフィルタの製造方法
    • 3. まとめ
  • Ⅲ 顔料分散法によるカラーフィルタの形成 (2)
    • 1. はじめに
    • 2. カラーモザイクの組成
      • 2.1 光重合開始剤
      • 2.2 モノマ
      • 2.3 バインダ
      • 2.4 顔料
    • 3. プロセスとリソグラフィ
      • 3.1 プロセス
      • 3.2 リソグラフィ
    • 4. カラーモザイクの物性と安定性
      • 4.1 カラーモザイクの物性
      • 4.2 カラーモザイクの経時安定性
    • 5. カラーモザイク法カラーフィルタの特性
      • 5.1 透過率と分光特性
      • 5.2 信頼性
    • 6. まとめ
  • Ⅳ 顔料分散法によるカラーフィルタの形成 (3)
    • 1. はじめに
    • 2. 顔料分散ポリイミドによるカラーフィルタ製造法
      • 2.1 材料組成と特長
      • 2.2 カラーフィルタ加工プロセス
    • 3. 顔料分散ポリイミドカラーフィルタの特性
    • 4. まとめ
第3節 印刷法によるカラーフィルタの形成
  • Ⅰ 印刷法概論
    • 1. はじめに
    • 2. カラーパネルの品質特性
    • 3. 印刷法の特徴
      • 3.1 フレキソ印刷
      • 3.2 スクリーン印刷
      • 3.3 平版印刷
      • 3.4 凹版印刷
    • 4. カラーフィルタ適用の現状と課題
    • 5. まとめ
  • Ⅱ 印刷法によるカラーフィルタの形成 (1)
    • 1. はじめに
    • 2. 印刷法概論
      • 2.1 スクリーン印刷
      • 2.2 フレキソ印刷
      • 2.3 平版オフセット印刷
      • 2.4 グラビアオフセット印刷
    • 3. グラビアオフセット印刷法
      • 3.1 ブランケット
      • 3.2 インキ
    • 4. ブラックマトリクスの形成
    • 5. 印刷カラーフィルタ表面平滑化
    • 6. まとめ
  • Ⅲ 印刷法によるカラーフィルタの形成 (2)
    • 1. はじめに
    • 2. カラーフィルタ
    • 3. 印刷法
    • 4. 印刷法と顔料分散法のコンビネーション
      • 4.1 繰り返し印刷によるパターンずれ
      • 4.2 表面平滑化
      • 4.3 研磨による平滑化
    • 5. 印刷法、顔料分散法コンビネーテッドカラーフィルタ
    • 6. おわりに
第4節 電着法によるカラーフィルタの形成
  • 1. 電着の原理
    • 1.1 はじめに
    • 1.2 電着の原理
  • 2. 電着法カラーフィルタの材料
    • 2.1 電着用高分子樹脂
    • 2.2 電着用着色剤
    • 2.3 ブラックマスク (B/M) 用樹脂
    • 2.4 ブラックマスク用着色剤
  • 3. 電着法カラーフィルタの諸特性
    • 3.1 透明導電性ガラス基板
    • 3.2 ITO表面の清浄度とカラーフィルタ仕上がり外観
    • 3.3 電着法カラーフィルタの製造方法
    • 3.4 ブラックマスクの製造方法
    • 3.5 複合材料の一部としてのカラーフィルタ
  • 4. 電着法カラーフィルタの諸特性
    • 4.1 電着法カラーフィルタ製造の特徴
    • 4.2 電着法カラーフィルタの諸特性
  • 5. 現状の取組みと今後の展開
    • 5.1 明るいカラーフィルタ
    • 5.2 基板サイズ
    • 5.3 今後の展開
第5節 電着転写法によるカラーフィルタの形成
  • 1. はじめに
  • 2. 各種カラーフィルタの製造手法およびその課題
  • 3. 電着転写によるカラーフィルタの製造方法
    • 3.1 レジスト現像工程
    • 3.2 電着塗布工程
    • 3.3 転写工程
    • 3.4 生成したカラーフィルタの特徴
  • 4. 電着転写プロセスの特徴
  • 5. おわりに
第6節 レジストダイレクト電着法によるカラーフィルタの形成
  • 1. はじめに
  • 2. 各種カラーフィルタの製法およびその課題
  • 3. レジストダイレクト電着法によるカラーフィルタの形成工程
    • 3.1 レジスト設計とレジスト現像工程
    • 3.2 電着液設計と電着塗布工程
    • 3.3 ブラックマトリクス (B/M) のセルフアライメント導入工程
  • 4. レジストダイレクト電着法の特徴
  • 5. おわりに

第3章 印刷法のトータルシステム

  • 1. はじめに
  • 2. 液晶用の印刷法によるトータルシステム
    • 2.1 全工程の印刷化
    • 2.2 製造法
  • 3. 透明導電膜
    • 3.1 透明導電性インキ
    • 3.2 熱分解法インキ
    • 3.3 分光特性
  • 4. 偏光フィルタ
  • 5. TFT、MIMの印刷
  • 6. 電源
  • 7. スクリーン印刷、ロールコータ
  • 8. クリーンルーム
  • 9. 高解像力パターン
    • 9.1 位相シフトパターン
    • 9.2 SMTによるパターン
  • 10. 評価法 (信頼性)
  • 11. 今後の技術的な方向
    • 11.1 大形化
    • 11.2 トータルシステム
    • 11.3 ハイブリッド法
    • 11.4 印刷装置の周辺と開発と改善

第4章 カラーフィルタ製造装置

  • 1. はじめに
  • 2. カラーフィルタ製造法
  • 3. フォトリソグラフィを利用したカラーフィルタ製造装置
    • 3.1 洗浄装置
    • 3.2 コーティング装置
    • 3.3 露光装置
    • 3.4 現像装置
    • 3.5 ポジレジストの現像
    • 3.6 カラーフィルタの現像
    • 3.7 感光性顔料分散型カラーフィルタ現像ライン
    • 3.8 Cr膜ブラックマトリクスのエッチング装置
    • 3.9 ベーキング装置
    • 3.10 ダイレクトプレートオープン
  • 4. おわりに

第5章 カラーフィルタ検査・評価技術

  • 1. はじめに
  • 2. カラーフィルタ検査概要
    • 2.1 要求品質
    • 2.2 検査方法
  • 3. カラーフィルタの評価技術
    • 3.1 要求特性
    • 3.2 信頼性、評価技術
  • 4. 今後の課題

第6章 パネルメーカからみたカラーフィルタへの要求仕様

  • 1. はじめに
  • 2. カラーフィルタの耐熱性に対する要求仕様について
  • 3. カラーフィルタの耐光性について
  • 4. パターン精度に関する要求仕様
  • 5. ブラックマトリクス・ITOに関する要求仕様
  • 6. カラーフィルタ用ガラス基板について
  • 7. 耐溶剤・耐薬品性について
  • 8. その他
    • 8.1 配向膜塗布性
    • 8.2 シール剤との密着性
    • 8.3 表面断差
  • 9. おわりに
  • 索引

執筆者

  • 成田 建一 : 鳥取三洋電機株式会社 LCD事業部 技術部 技術1課 課長
  • 谷 瑞仁 : 凸版印刷株式会社 エレクトロニクス事業本部 技術開発本部 精密電子研究所 副主任研究員
  • 浜口 卓也 : 大日本印刷株式会社 中央研究所 室長
  • 小林 袈裟直 : 富士写真フイルム株式会社 吉田南工場 研究部 主任研究員
  • 桜井 雄三 : 東レ株式会社 技術センター 液晶材料開発推進グループ 主席部員
  • 根本 四郎 : 凸版印刷株式会社 総合研究所 生産技術センター 主任研究員
  • 正田 新次郎 : 大日本印刷株式会社 中央研究所 主任研究員
  • 池上 昭 : 東洋紙業株式会社 電子技術事業本部 副本部長 兼 研究開発本部 本部長
  • 安川 淳一 : 株式会社シントーケミトロン 次長
  • 松村 晃 : 日本ペイント株式会社 NB事業部 開発グループ 課長
  • 渡辺 苞 : 東京工芸大学 工学部 講師
  • 木瀬 一夫 : 大日本スクリーン製造株式会社 化工機工場 技術1課 技術2係 係長
  • 尾崎 一人 : 大日本スクリーン製造株式会社 化工機工場 技術1課 技術2係
  • 有賀 久 : セイコーエプソン株式会社 T・M事業部 T・M開発部 主任

監修

元 セイコーエプソン株式会社
T・M事業部
TFT技術部
部長
両角 伸治

出版社

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お問い合わせ

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体裁・ページ数

CD-R 216ページ

発行年月

1991年12月

販売元

tech-seminar.jp

価格

39,900円 (税別) / 43,890円 (税込)