第1章 レジスト材料

• 1.1 高分子集合体
  • 1.1.1 はじめに
  • 1.1.2 表面エネルギーとサイズ効果
  • 1.1.3 レジスト膜表面ミクロ構造
  • 1.1.4 集合体の凝集モデル
  • 1.1.5 分散凝集解析
  • 1.1.6 サイズ依存性
  • 1.1.7 マニピュレーション
  • 1.1.8 ナノ空孔
• 1.2 付着現象
  • 1.2.1 はじめに
  • 1.2.2 感光性樹脂
  • 1.2.3 水溶液中での付着解析
  • 1.2.4 水溶液中でのレジスト膜付着性
  • 1.2.5 膨潤と溶解
  • 1.2.6 大気中での付着解析
  • 1.2.7 大気中でのレジスト膜付着性
  • 1.2.8 レジスト膜の凝集性
  • 1.2.9 表面処理と付着性
• 1.3 表面硬化層
  • 1.3.1 はじめに
  • 1.3.2 クラック
  • 1.3.3 ポッピング
  • 1.3.4 表面硬化層
  • 1.3.5 環境応力亀裂 (クレイズ)
• 1.4 浸透と膨潤
  • 1.4.1 はじめに
  • 1.4.2 膜応力変動
  • 1.4.3 残留溶媒量と付着性
  • 1.4.4 浸透と電気伝導
  • 1.4.5 膨潤と屈折率変動

第2章 レジストプロセス

• 2.1 レジストプロセス
  • 2.1.1 はじめに
  • 2.1.2 リソグラフィープロセス
  • 2.1.3 各種レジストプロセス
  • 2.1.4 感度曲線とコントラスト
  • 2.1.5 スピンコート特性
• 2.2 密着強化処理 (シランカップリング処理)
  • 2.2.1 はじめに
  • 2.2.2 疎水化処理
  • 2.2.3 最適化プロセス
  • 2.2.4 処理装置
  • 2.2.5 密着性と付着性制御
• 2.3 多層レジストプロセス
  • 2.3.1 はじめに
  • 2.3.2 プロセスフロー
  • 2.3.3 3層レジストプロセス
  • 2.3.4 Si含有2層レジストプロセス
  • 2.3.5 DFR積層レジストプロセス
• 2.4 ウェットプロセス
  • 2.4.1 はじめに
  • 2.4.2 接触角 (Youngの式とDupreの式)
  • 2.4.3 液滴ピンニング
  • 2.4.4 粗い表面の濡れ性 (Wenzelの式)
  • 2.4.5 異種材質表面の濡れ性 (Cassieの式)
  • 2.4.6 濡れ性の変化 (Newmanの式)
  • 2.4.7 ナノ液滴
• 2.5 乾燥プロセス
  • 2.5.1 はじめに
  • 2.5.2 レジスト膜の形成
  • 2.5.3 レジスト液の混合と溶解
  • 2.5.4 乾燥によるエネルギー変化
  • 2.5.5 溶剤拡散モデル
  • 2.5.6 ラプラス力とレジスト膜の凝集
  • 2.5.7 熱処理による膜硬化
  • 2.5.8 パターン間メニスカス
• 2.6 乾燥方式
  • 2.6.1 はじめに
  • 2.6.2 乾燥装置
  • 2.6.3 赤外線乾燥
  • 2.6.4 減圧 (真空) 乾燥
  • 2.6.5 凍結乾燥
  • 2.6.6 超臨界乾燥
  • 2.6.7 スピン乾燥

第3章 ナノスケール計測技術

• 3.1 寸法計測
  • 3.1.1 はじめに
  • 3.1.2 AFMによる寸法測定
  • 3.1.3 高分子集合体の凝集制御
  • 3.1.4 LER (Line Edge Roughness)
• 3.2 DPAT法 (付着力解析法)
  • 3.2.1 はじめに
  • 3.2.2 DPAT法
  • 3.2.3 熱処理温度依存性
  • 3.2.4 サイズ依存性
  • 3.2.5 パターン形状と剥離性
  • 3.2.6 溶液中の付着性
  • 3.2.7 ヤング率測定
• 3.3 耐久性評価
  • 3.3.1 はじめに
  • 3.3.2 加速試験
  • 3.3.3 ワイブル分布

第4章 レジスト付着性

• 4.1 付着現象
  • 4.1.1 はじめに
  • 4.1.2 付着要因
  • 4.1.3 実効付着面積
  • 4.1.4 表面エネルギー成分
  • 4.1.5 分散・極性成分測定
  • 4.1.6 液体の拡張 (拡張係数S )
  • 4.1.7 3成分解析
• 4.2 応力集中効果
  • 4.2.1 はじめに
  • 4.2.2 アンダーカット
  • 4.2.3 応力分布解析
  • 4.2.4 凹凸パターン
  • 4.2.5 開口パターン
  • 4.2.6 ラインパターン
  • 4.2.7 表面硬化層
• 4.3 付着力推定
  • 4.3.1 はじめに
  • 4.3.2 原子間力顕微鏡 (AFM)
  • 4.3.3 フォースカーブ
  • 4.3.4 吸着力と表面自由エネルギー
  • 4.3.5 相互作用解析
  • 4.3.6 付着強度の推定

第5章 レジスト欠陥

• 5.1 プロセス欠陥
  • 5.1.1 はじめに
  • 5.1.2 表面硬化層
  • 5.1.3 濡れ欠陥 (ピンホール)
  • 5.1.4 ポッピング現象
  • 5.1.5 乾燥むら
  • 5.1.6 液滴ポッピング
• 5.2 VF (Viscous Finger) 変形
  • 5.2.1 はじめに
  • 5.2.2 ギャップ間のVF変形
  • 5.2.3 VF変形とレジスト接着性
  • 5.2.4 VF変形と応力集中
• 5.3 ウォータマーク (乾燥痕)
  • 5.3.1 はじめに
  • 5.3.2 形成メカニズム
• 5.4 発泡 (ふくれ)
  • 5.4.1 はじめに
  • 5.4.2 ポッピング
  • 5.4.3 感光剤濃度依存性
• 5.5 微小気泡
  • 5.5.1 はじめに
  • 5.5.2 気泡捕獲パターン
  • 5.5.3 捕獲と脱離
  • 5.5.4 AFMによるナノ気泡制御
  • 5.5.5 マイクロバブルメモリ

• 参考文献