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CMP装置技術の実践知見

CMP装置技術の実践知見

~200mm→300mm時代の装置進化・トラブル解決・ハイブリッド接合最前線~
オンライン 開催

アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2026年9月10日〜24日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2026年9月22日まで承ります。

概要

本セミナーでは、長年DRAM製造現場でCMP装置を運用してきた講師が、200mm→300mm時代の装置大型化・高精度化の要点、研磨メカニズムの基礎、パッド・スラリー・終点検知などコア技術の管理手法、実例に基づくトラブル対策の「型」、そしてCMP後洗浄の設計と実務までを一気通貫で解説いたします。

開催日

  • 2026年9月9日(水) 13時00分16時00分

受講対象者

  • 半導体デバイス・装置・材料 (スラリー/パッド/薬液/部材) メーカーでCMP関連業務に携わる方
  • CMP装置の運用・保全・プロセス開発担当者、管理者
  • ハイブリッド接合など先端パッケージとCMPの関わりを把握したい方
  • 大学・研究機関で平坦化・接合技術を研究されている方

修得知識

  • 200mm/300mm時代のCMP装置構成の違いと技術進化
  • 研磨メカニズムの基礎 (Prestonの式) と面内均一性の考え方
  • パッド・スラリー・終点検知 (EPD) の管理手法と実務トラブルの対策
  • CMP後洗浄の設計思想と、パーティクル・Cu腐食防止の実務対策
  • 「装置は正常なのにレートが変」など、カタログに載らないトラブル切り分けの考え方

プログラム

 CMP (化学機械研磨) は、微細化と多層配線化を支える平坦化技術として量産に定着し、近年はハイブリッド接合をはじめとする先端パッケージの接合品質を左右する基盤技術として、その重要性を一段と増しています。一方でCMP装置は、消耗品・回転体・薬液供給が絡む複雑な装置であり、「装置は正常なのにレートがおかしい」といった、カタログや仕様書には載らないトラブルが現場では頻発します。
 本セミナーでは、DRAM製造現場で20年 (うちCMP15年) にわたり装置を運用してきた講師が、200mm→300mm時代の装置進化の要点、パッド・スラリー・終点検知などコア技術の管理手法、実例に基づくトラブルシューティングの「型」、そしてCMP後洗浄の設計と実務までを一気通貫で解説します。さらに、CMPが品質を決めるハイブリッド接合 (ボンディング) の最前線と関連装置を概説し、装置技術の知見が今後どこで活きるのかを示します。過剰な表現を避け、データと実機事例に基づいた「現場で使える」知見の共有を目指します。

  1. CMP工程の基礎と200mm→300mm装置進化
    1. CMPとは – 目的と研磨機構
    2. 200mm時代のCMP (概要)
    3. 装置の世代ロードマップと200mm装置
      • 研磨部
      • インライン洗浄のセル構成
    4. 200mm→300mm装置の比較と進化の鍵
      • ヘッド多ゾーン化
      • 搬送/生産性
    5. 300mm装置の構成
      • 研磨部
      • 後処理部
      • リアルタイムプロファイル制御
    6. 大口径化がもたらした技術課題とまとめ
  2. CMP成立のコア技術 (パッド・スラリー・終点検知)
    1. CMPの第一原理 (Prestonの式と面内不均一)
    2. 研磨パッド
      • 種類
      • 溝形状
      • ドレッサ
      • 寿命の見極め
    3. スラリー
      • 膜種別の設計
      • 選定ロジック
      • 砥粒選定
      • 沈殿対策
    4. 研磨ヘッド
      • メンブレン
      • リテーナリングと圧力分布
    5. 終点検知EPD (膜種別の検出原理と波形の読み方)
  3. CMPトラブルシューティング実践 (事例中心)
    1. トラブル対応の進め方
      • 現象
      • 切り分け
      • 根本原因
      • 対策
      • 水平展開
    2. 装置起因トラブル事例
      • 研磨ユニット系
      • 搬送系
      • 洗浄・乾燥系
      • 薬液供給系
    3. レート監視と規格管理
    4. スクラッチ – 形と分布から真因を絞る
    5. 改善事例:Cuボイド低減と知見の水平展開
  4. CMP後洗浄の設計と実務
    1. 後洗浄の設計思想と方式比較
      • ブラシ
      • メガソニック
      • 乾燥
    2. 後洗浄薬液のchemistry (pHとゼータ電位)
    3. パーティクル対策とCu腐食防止の両立
    4. 乾燥とウォーターマーク
  5. ボンディング技術の概要と関連装置
    1. なぜ接合が必要になったのか – CMPが決める接合品質
    2. 接合方式の種類
      • W2W/D2W
      • フュージョン/ハイブリッド
    3. 関連装置
      • エッジトリム
      • アライメント
      • バックグラインド
    4. ハイブリッド接合プロセスの流れと接合装置
    5. 接合の検証とピッチ微細化ロードマップ・最新動向
  6. まとめ・質疑応答

講師

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

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  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

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  • 視聴期間は2026年9月10日〜24日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。

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