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奥山 林明

所属

ETSC Consulting

役職

代表

専門

  • 半導体前工程の装置技術
    • CMP
    • WET洗浄
    • Cuめっき
    • アッシャー

経歴

  • 2005年 エルピーダメモリ 株式会社 入社。
    DRAM製造の設備技術者として、WET洗浄・Cuめっき・CMP装置を担当。
  • 2015年 マイクロンによる買収に伴いマイクロンメモリジャパン 株式会社へ。
    WET/CMP主任設備エンジニアとして装置の管理・最適化・シフト運用に従事。消耗品ローカル化によるコスト削減 (年約20%) 、Cuボイド改善などの実績。
  • 2025年9月 ETSC Consultingを設立し独立。
    半導体設備 (WET/CMP/Cuめっき/アッシャー) の業務改善・コスト削減・技術支援、技術セミナー講師として活動中。

DRAM製造現場 通算20年 (Cuめっき/WET洗浄 各20年・アッシャー18年・CMP15年) 。