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ハイブリッドボンディングに向けた要素技術、材料開発動向と今後の展望

ハイブリッドボンディングに向けた要素技術、材料開発動向と今後の展望

~更なる半導体微細化に向けたハイブリッドボンディング要素技術を展望 / 常温接合技術、洗浄プロセス、ダイシングプロセス、ダイレベルでの接着材料の開発動向~
オンライン 開催

概要

本セミナーでは、更なる半導体微細化に向けたハイブリッドボンディング要素技術について解説いたします。
また、常温接合技術、洗浄プロセス、ダイシングプロセス、ダイレベルでの接着材料の開発動向について解説いたします。

開催日

  • 2025年5月22日(木) 11時00分 16時20分

受講対象者

  • 半導体の洗浄技術に関心のある方

修得知識

  • Cu/SiO2ハイブリッド接合技術の開発動向
  • 半導体3D化、ハイブリッドボンディングを実現する先端半導体洗浄技術
  • D2Wハイブリッドボンディングとダイシング技術
  • チップオンウェハCu-Cuハイブリッド接合の基礎
  • ポリマー/Cuハイブリッド接合が検討されている背景
  • 弊社開発の新規接着材料の特性

プログラム

第1部 Cu/SiO2ハイブリッド接合技術の開発動向と常温接合の適用性展望

(2025年5月22日 11:00〜12:00)

 Moore則により発展してきた半導体デバイスにおいて、微細化による2次元的な拡張限界を解決するための技術潮流であるMore than Mooreでは、異種機能デバイスの高集積化による高機能・多機能の実現を目指す。
 また、現状のスケーリング則によるデバイス間インターコネクションでは高密度化により配線間での寄生容量の増大等による信号遅延が問題化している。さらに、バンピング技術による先端半導体パッケージング技術においては、バンプピッチの狭小化によりはんだボール間のブリッジング等による信頼性低下を引き起こすため、10μmピッチが限界となっている。
 そこで、これら諸問題の解決手段の一つとしてCu-Cuハイブリッド接合技術が期待されている。ハイブリッド接合は、Cu電極と絶縁材料が同一面に形成されたハイブリッド面同士を高精度に位置合わせして両材料を同時に接合する技術となり、実製品では積層型CMOSイメージセンサに適用されているものの、更なる狭小化のための技術開発が進展している。
 本講座では、Cu/SiO2ハイブリッド接合技術に関する開発動向及び常温接合技術によるハイブリッド接合の実現性について展望する。

  1. 三次元積層を中心とした半導体実装におけるハイブリッド接合
  2. 半導体実装に用いられている様々な接合技術について
    1. 直接接合
      • 陽極接合
      • プラズマ活性化接合
      • 表面活性化接合
    2. 中間層を介した接合
      • はんだ/共晶接合
      • 熱圧着接合
      • 超音波接合
      • 原子拡散接合
      • 表有機接着剤
  3. Cu-Cuハイブリッド接合技術について
    1. 絶縁材料別のハイブリッド接合
      • SiO2
      • SiCN
      • 有機誘電材料
    2. ハイブリッド接合の形態
      • Die to Die
      • Die to Wafer
      • Wafer to Wafer
    3. ハイブリッド接合における課題
  4. 常温接合技術によるハイブリッド接合
    1. 常温接合技術を用いたCu/SiO2ハイブリッド接合
    2. ハイブリッド接合へ適用する上での課題と期待
  5. 今後の開発動向
    • 質疑応答

第2部 半導体3D化、ハイブリッドボンディングを実現する先端半導体洗浄技術の開発動向

(2025年5月22日 13:00〜14:00)

 半導体デバイスのさらなる微細化・高性能化に伴い、3D化やハイブリッドボンディングの導入が加速しています。本講座では接合プロセスの洗浄技術に焦点を当て、接合前後の洗浄が求められる背景や課題、最新の技術動向について解説します。

  1. 半導体デバイスのトレンド
  2. Wafer to Wafer洗浄技術
    1. 貼り合わせ前後の課題
    2. 貼り合わせ前後の開発動向
    3. 貼り合わせ後のSi薄膜化
  3. Die to Wafer洗浄技術
    1. 貼り合わせ前後の課題
    2. 貼り合わせ後の洗浄シミュレーション
  4. まとめ
    • 質疑応答

第3部 D2Wハイブリッドボンディングとダイシング技術

(2025年5月22日 14:10〜15:10)

 現在、先端ロジックデバイスなどにおいて、D2Wのハイブリッド接合が量産適用されつつある。これを達成するために、ダイシング工程においても、チップ表面にFEOL同等の非常に高い清浄度が求められている。
 本セミナーでは、ハイブリッド接合に適用されるダイシング技術について、現在の技術トレンドの解説と弊社の取り組みについて紹介する。

  1. ダイシング技術の種類とその特徴
    1. ブレードダイシング
    2. レーザダイシング
    3. プラズマダイシング
  2. D2Wハイブリッド接合
    1. ハイブリッドボンディング
    2. D2Wの種類と特徴
    3. ダイシング工程の課題
  3. ダイシング技術のトレンド
    1. DBIR Ultra
    2. ブレードダイシング、ステルスダイシング
    3. プラズマダイシング
    4. Clean Dicing
  4. まとめ
    • 質疑応答

第4部 ハイブリッド接合の低温化に向けた新規接着材料の開発

(2025年5月22日 15:20〜16:20)

 半導体デバイスの更なる性能向上および低消費電力化に向けて、2.5Dおよび3Dチップレット集積の開発が広く進められている。現在のチップレットにおいて、垂直方向の配線接続には、はんだ マイクロバンプを用いた接合が主流となっているが、10μm以下のピッチでは課題が多く、実現が困難である。これに対して、ハイブリッド接合技術の先端チップレットへの適用が検討されているが、ダイレベルでの接合には依然として課題が多く残されている。
 本講座では、ダイレベルでのハイブリッド接合を実現する際の課題を紹介するとともに、弊社の開発した新規接着材料の特性について紹介する。

  1. ハイブリッド接合概論
    1. チップオンウェハハイブリッド接合が必要とされる技術背景
    2. チップオンウェハハイブリッド接合プロセス
    3. チップオンウェハハイブリッド接合プロセスの課題
  2. 弊社開発新規接着材料のご紹介
    1. ポリマー/Cuハイブリッド接合の特徴と課題
    2. 弊社開発接着材料のコンセプト
    3. 各種プロセス適合性の評価
    4. 信頼性評価
    • 質疑応答

講師

  • 内海 淳
    九州大学 システム情報科学研究院 情報エレクトロニクス部門
    学術研究員
  • 岩畑 翔太
    株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 洗浄開発統轄部 開発戦略部 開発戦略課
    プロセス戦略リーダー
  • 寺西 俊輔
    株式会社ディスコ ダイサ技術部 Linksグループ
  • 中村 雄三
    三井化学 株式会社 研究開発本部 ICTソリューション研究センター 半導体・実装ソリューショングループ
    チームリーダー

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 60,000円 (税別) / 66,000円 (税込)
複数名
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 55,000円(税別) / 60,500円(税込) で受講いただけます。
  • 5名様以降は、1名あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 60,000円(税別) / 66,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 110,000円(税別) / 121,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 165,000円(税別) / 181,500円(税込)
    • 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 220,000円(税別) / 242,000円(税込)
    • 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 250,000円(税別) / 275,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 Zoomのシステム要件テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
  • 開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
    ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
    印刷物は後日お手元に届くことになります。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
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