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ゾル-ゲル法のメカニズム、製膜の進め方、応用、膜物性評価

ゾル-ゲル法のメカニズム、製膜の進め方、応用、膜物性評価

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概要

本セミナーでは、ゾル-ゲル法の反応メカニズムと有機-無機ハイブリッド材料について、基礎的な理論から、実務に役立つ材料合成法、膜の割れ・剥離対策まで体系的に学べます。

開催日

  • 2023年11月27日(月) 10時30分 ～ 16時30分

プログラム

第1部 ゾル-ゲルコーティングの作成と応用

(2023年11月27日 10:30〜12:30)

　ゾル-ゲル法による薄膜形成技術について概説する。薄膜作成にかかわる基礎項目について説明する。ゾル-ゲル薄膜の光学薄膜、誘電体膜、光触媒、透明導電膜、UVカット膜などへ応用例について述べる。

  1. ゾル-ゲル法による薄膜形成
    1. ゾル-ゲル法の基礎知識
      1. ゾルーゲル法の基本的な工程
      2. ゾルーゲル法の適用範囲
      3. 出発原料と加水分解・重合反応
    2. ゾルーゲル液を用いた成膜手法
      1. スピンコート
      2. ディップコート
      3. ロールコート
      4. バーコート
      5. スプレーコート
    3. 有機-無機ハイブリッド膜
      1. 有機-無機ハイブリッドとは
      2. ゾル-ゲルベース溶液反応の適用
      3. 熱硬化・光硬化反応の適用
  2. ゾル-ゲル法を用いた機能性薄膜への応用
    1. 光学薄膜の形成
      1. 光学材料応用の基礎
      2. 屈折率制御薄膜
      3. フッ素均質導入膜による高硬度低屈折率膜
    2. 誘電体膜の形成
    3. 光触媒膜の形成
      1. 塗布法によるチタニア膜の形成
      2. 結晶性アナターゼ膜の低温形成
    4. 透明導電膜の形成
      1. 塗布法によるITO膜の形成
      2. ゾルーゲル法によるITO膜の低温形成の可能性
      3. 光アシストゾルーゲル法によるITO膜の室温形成
    5. 紫外線カット膜の形成
      1. UV遮蔽に適用可能な素材
      2. 酸化チタン系膜
      3. 酸化セリア系膜
    • 質疑応答

第2部 ゾル-ゲル法による有機-無機ポリマーハイブリッドの合成指針と最近の応用例

(2023年11月27日 13:15〜14:45)

　ハイブリッド材料を得るには一般的にゾル-ゲル法が用いられるが、元々混ざりにくいものを均一に分散させるためには工夫が必要である。講演では、これらの一般的なハイブリッド作成と解析手法を説明する。また、最近の高機能ハイブリッド材料についても紹介する。

  1. これまでの研究例
    • 歴史
    • 最近の応用例
  2. 材料設計指針
    • 相分離を起こさない官能基選択
  3. 合成法
    • ゾル-ゲル法
    • 電子レンジによる作成時間短縮
  4. 同定法
    • 分光スペクトルの解析法
    • 電子顕微鏡
  5. 応用例
    1. 汎用性高分子の耐熱性向上
      • 合成例
      • 物性
      • 機能材料としての応用例
      • 共役系高分子のハイブリッド化
      • 色素含有ハイブリッド材料
      • 刺激応答性ハイブリッド材料
      • フォトパターニング
      • マイクロ波感応熱源としての応用
    • 質疑応答

第3部 ゾルゲル法によるセラミックス薄膜およびナノ材料の作製と評価

(2023年11月27日 15:00〜16:30)

　ゾルゲル法による薄膜作製に用いるコーティング溶液の調製法、その溶液から作製した薄膜の微構造の特徴、その薄膜の応用例について説明する。また、その溶液を用いた様々なナノ材料の作製やその応用についても説明する。

  1. ゾルゲル法によるセラミックス薄膜作製の基礎
  2. コーティング溶液の調製法
    1. 安定なコーティング溶液を調製するための有機添加剤
    2. コーティング溶液の安定化剤の添加効果と溶存金属種の分子構造
  3. ゾルゲル法で作製したセラミックス薄膜の物性
  4. コロイド水溶液をコーティング溶液として用いた薄膜作製
    1. 水系コーティング溶液の調製法
    2. コロイド水溶液を用いて均一な薄膜を作製するための工夫
  5. ゾルゲル法による薄膜作製技術を応用した様々なナノ材料合成
    1. ゼオライト薄膜
    2. 金属酸ナノシート
    3. 金属酸化物ナノ粒子
    • 質疑応答
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講師

  • 福井 俊巳 氏
    株式会社KRI 構造材料研究部
    取締役執行役員, 部長
  • 田中 一生 氏
    京都大学 大学院 工学研究科 高分子化学専攻
    教授
  • 伴 隆幸 氏
    岐阜大学 工学部 化学・生命工学科
    教授
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主催

株式会社 技術情報協会
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お問い合わせ

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: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)

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  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
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    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方

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