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ALD (原子層堆積) 技術による薄膜作製と低温プロセスの開発

ALD (原子層堆積) 技術による薄膜作製と低温プロセスの開発

オンライン 開催

概要

本セミナーでは、ALD技術について、原理、メカニズムから応用技術までを解説いたします。
半導体分野以外への応用を目指した「常温成膜」が可能な新しいALD技術も紹介いたします。

開催日

  • 2022年7月22日(金) 10時30分 16時15分

修得知識

  • 半導体プロセス技術の基礎
  • 半導体デバイスの動作原理
  • ALDプロセスの基礎
  • ALDプロセスの将来
  • 高純度オゾンプロセス適用事例
  • 高純度オゾンガスを扱う上での安全面の留意点
  • 高純度オゾンを適用可能なプロセス条件範囲
  • 高純度オゾンに適用できる材質
  • 高純度オゾンの特徴と他酸化手法との違い

プログラム

第1部 ALD (原子層堆積) 技術による薄膜作製メカニズムとその応用事例

(2022年7月22日 10:30〜14:30 ※途中昼休みを含む)

 AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。
 本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD (原子層堆積) 技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介する。また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。

  1. 薄膜形成技術
    1. 薄膜作製/加工の基礎
    2. 薄膜の評価手法
      1. 電気的評価
      2. 化学的分析手法
      3. 光学的評価手法
  2. ALD技術の基礎
    1. ALD技術の原理
    2. ALD薄膜の特長
    3. ALD技術の歴史
    4. ALD装置の仕組み
    5. ALD技術の材料
  3. ALD技術の応用
    1. パワーデバイスへの応用
    2. 酸化物薄膜トランジスへの応用
    3. MOS LSIへの応用
    4. 太陽電池への応用
  4. ALD技術の将来
    1. ALD技術の課題
    2. ALD技術の展望
    • 質疑応答

第2部 高純度オゾンを用いた低温ALDプロセスとその応用技術

(2022年7月22日 14:45〜16:15)

 近年、ALD成膜の適用範囲は、半導体製造プロセスに限らず様々な製品への広がりが見られます。成膜対象物の耐熱性の制限からの低温化に加えて、凹凸形状を持った材質への被覆するニーズに加え、量産対応に向けた生産性やランニングコストの観点も必要とされてきます。
 ALDの酸化源として水や酸素プラズマやオゾンその他いくつかありますが、本セミナーでは高純度オゾンを用いた場合のALDについて紹介します。高純度オゾンはオゾン濃度が高いことに加え従来のオゾナイザーオゾンガスに比べて重金属不純物が少ない純度が高いガスです。また低温ではオゾン同士の反応衝突による酸素ガスへの分解反応がほとんどなく、寿命が長いので様々な炉サイズでも高純度オゾンを基板表面に供給が可能なことが高純度オゾンガスの特徴であり、他の酸化方法との違いについても述べる予定です。

  1. 高純度オゾンの特徴
    1. 従来オゾンとの違い
    2. 高純度オゾンの生成方法
    3. ガスの取り扱い圧力範囲と装置安全性
  2. ALDプロセス以外の高純度オゾン適用例
    1. 分子線エピタキシー
    2. 化学気相堆積
    3. 表面親水化 (オゾン-エチレンラジカル発生技術)
  3. 高純度オゾンALD (PO-ALD) プロセス概要
    1. PO-ALD特徴 (他酸化源と比べた長所・短所)
    2. PO-ALDの装置構成 (従来オゾンALDまたは高温ALD装置構成との違い)
    3. PO-ALDで成膜するのに適した材質・形状
  4. PO-ALD膜種別 成膜および膜質事例
    1. Al2O3膜
    2. TiO2膜
    3. SiO2膜
    4. その他
  5. 適用アプリケーション先事例
  6. まとめ
    • 質疑応答

講師

  • 浦岡 行治
    奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 情報機能素子科学研究室
    教授
  • 亀田 直人
    明電ナノプロセス・イノベーション株式会社 技術開発部
    主管技師

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
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  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

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