技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、原子層制御プロセスの基礎から解説し、原料供給・パージ・反応性ガス供給など多くの制御パラメータの最適化や、ALDプロセスを活用した最新の応用事例を詳解いたします。
近年、ALDによる薄膜作製が注目を集めている。ALDプロセスは原理的に薄膜の均一性や膜厚制御性・再現性に優れている。また、装置形状や装置内の流れなどを最適化しなくても、このような優れた特性を得やすいプロセスである。しかし、同じく化学反応を利用する薄膜形成法であるCVDと比較すればトータルスループットは劣ることが多い。
本講座では、CVD/ALDプロセスを理解し、最適プロセス設計を目指すための速度論を中心に基礎的な講義を行う。ALDプロセス開発を行う方、ALDを利用して薄膜合成を検討されている方の参考となれば幸いである。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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発行年月 | |
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2022/5/20 | コーティング技術の基礎と実践的トラブル対応 |
2021/3/26 | 超撥水・超撥油・滑液性表面の技術 (第2巻) |
2021/3/26 | 超撥水・超撥油・滑液性表面の技術 (第2巻) (製本版 + ebook版) |
2021/3/8 | プラズマ技術 |
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2014/8/25 | ぬれ性のメカニズムと測定・制御技術 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
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