技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

CMP技術およびその最適なプロセスを実現するための総合知識

CMP技術およびその最適なプロセスを実現するための総合知識

～装置、スラリー・研磨パッド等の消耗材料の技術、応用プロセス、研磨メカニズム～
東京都 開催 会場 開催
関連するセミナー・出版物
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する 関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、半導体デバイス製造における様々なCMP工程の特徴を紹介し、それに用いられる装置、スラリー、パッドの詳細を解説する。
さらに、CMPによる材料除去のメカニズムについて様々なモデルを紹介し、そこからパッドやスラリーのあるべき姿を考察する。

開催日

  • 2019年5月30日(木) 10時30分 ～ 16時30分

修得知識

  • 材料・プロセス評価技術
  • 装置・スラリー・パッド・コンディショナー等の要素技術
  • デバイス応用事例、様々な基板研磨技術
  • 半導体デバイス製造における様々なCMP工程の基礎と特徴
  • スラリーの基礎・評価
  • パッドの役割と材料除去メカニズム
  • SiC、GaN、シリコン、サファイア、LT/NT基板のCMPの現状と将来の方向性
  • 研磨精度・デバイス表面平坦度の向上とスラリー・パッド等部材の低コスト化の両立

プログラム

　CMPがデバイスの製造工程に用いられるようになって、すでに四半世紀が経過した。当初はゲテモノ扱いされていたCMPも今やなくてはならないキープロセスとなっている。
　半導体デバイス製造における様々なCMP工程の特徴を紹介し、それに用いられる装置、スラリー、パッドの詳細を解説する。さらに、CMPによる材料除去のメカニズムについて様々なモデルを紹介し、そこからパッドやスラリーの開発のヒントを提示する。

  1. CMP装置
    1. CMP装置の構成
    2. ヘッド構造
    3. 終点検出技術
    4. APC
    5. 洗浄
  2. CMPによる平坦化
    1. CMPによる平坦化工程の分類
    2. 平坦化メカニズム
  3. CMP消耗材料
    1. 各種スラリーの基礎
    2. 砥粒の変遷
    3. 添加剤の役割
    4. スラリーの評価方法
    5. 研磨パッドの基礎
    6. 研磨パッドの評価方法
    7. コンディショナーの役割
  4. CMPの応用
    1. 最新配線構造とCMPの詳細
    2. 最新のトランジスタ構造とCMP
    3. 3DNANDにおけるCMP
    4. ウエハ接合技術とCMP
    5. 各種基板CMP
  5. CMPの材料除去メカニズム
    1. 研磨メカニズムモデルの歴史
    2. 新しいモデル～Feret径モデル
    3. Feret径モデルの数値検証
    4. Feret径モデルに基づく開発のヒント
    5. パッド表面状態のマクロモデルによるドレス効果の表現
    • まとめ
    • 質疑応答
ページのトップヘ

講師

  • 礒部 晶 氏
    株式会社 ISTL
    代表取締役
ページのトップヘ

会場

連合会館

4F 404会議室

東京都 千代田区 神田駿河台三丁目2-11
連合会館の地図
ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー 株式会社
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 42,750円 (税別) / 46,170円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,300円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 22,500円(税別) / 24,300円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,750円(税別) / 46,170円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 48,600円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 72,900円(税込)
  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する
ページのトップヘ

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/10/21 シリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向 オンライン
2026/10/21 半導体ウェット洗浄の基礎・実践と最新洗浄技術 オンライン
2026/10/22 半導体製造プロセスにおけるフィルタ技術の基礎と選定・活用 オンライン
2026/10/23 チップレット・次世代パッケージングにおけるインターコネクション技術動向 オンライン
2026/10/26 半導体洗浄の基礎・現象と洗浄機内の流れと反応、洗浄の評価方法および困った時の対策 オンライン
2026/10/26 光電融合技術の最新動向と実装プロセス、樹脂材料への要求特性 オンライン
2026/10/26 ECTC2026から読み解く先端パッケージングの市場・技術の最新動向と今後の展望 東京都 会場・オンライン
2026/10/26 半導体製造における各種汚染の影響と洗浄技術の基礎および技術トレンド オンライン
2026/10/27 初心者のための半導体製造入門 オンライン
2026/10/27 半導体製造における各種汚染の影響と洗浄技術の基礎および技術トレンド オンライン
2026/10/28 SiCパワー半導体の信頼性向上と不純物分析 オンライン
2026/10/28 初心者のための半導体製造入門 オンライン
2026/10/28 大型パッケージ・基板進化時代の液状封止・アンダーフィル オンライン
2026/10/28 物理学で理解するEUVリソグラフィの基礎・応用・課題と将来展望 オンライン
2026/10/29 三次元集積化プロセスの基礎と先進半導体パッケージの最新動向 オンライン
2026/10/29 半導体製造プロセスと機械学習・深層学習 (AI) の活用 オンライン
2026/10/30 CMPスラリーの要求特性、評価技術と添加剤の開発 オンライン
2026/11/4 Si・SiC・GaN・次世代パワーデバイス技術・適用領域の現状・課題と展望 オンライン
2026/11/5 先端半導体デバイスの多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化 (2日間セミナー) オンライン
2026/11/5 データセンター向け半導体封止材の設計と評価 オンライン
ページのトップヘ

関連する出版物

発行年月
2024/12/27 次世代高速・高周波伝送部材の開発動向
2024/11/13 世界のチップレット・先端パッケージ 最新業界レポート
2024/9/13 世界のAIデータセンターを支える材料・デバイス 最新業界レポート
2024/6/19 半導体・磁性体・電池の固/固界面制御と接合・積層技術
2024/4/30 次世代半導体用の難加工結晶材料のための超精密加工技術
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2023/9/29 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2023/4/28 次世代半導体パッケージの最新動向とその材料、プロセスの開発
2022/11/29 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術
2022/10/31 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕 (CD-ROM版)
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕
2021/11/12 レジスト材料の基礎とプロセス最適化
2018/3/20 レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決
2018/1/10 SiC/GaNパワーエレクトロニクス普及のポイント
2014/10/31 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2014/10/31 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書
2013/12/15 パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書
2013/12/15 パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
ページのトップヘ