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流動場での高分子結晶化挙動の基礎と成形プロセス中の結晶化解析事例

流動場での高分子結晶化挙動の基礎と成形プロセス中の結晶化解析事例

東京都 開催 会場 開催
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開催日

  • 2017年10月5日(木) 13時00分 ～ 16時30分

受講対象者

  • 高分子材料を扱う技術者
  • 高分子材料の加工に関連する技術者

修得知識

  • 結晶化速度論
    • 結晶化速度と温度の関係
    • 結晶化速度に及ぼす分子配向の影響
  • 分子配向形成論
    • 応力―光学則
    • 流動誘起結晶化と結晶化に伴う自発的配向形成
  • ポリマー種による成形条件の選び方と分子配向、結晶化挙動の関係
  • 絡みあいの影響についての事例
  • 複合成形における高次構造形成におよぼす成分間の運動力学的相互作用

プログラム

　成形プロセスにおける高分子の結晶化挙動は静置場とは全く違った様相を呈する。結晶化速度は流動の影響で数千倍・数万倍になり、一方、結晶化の核剤はほとんど役に立たない。さらに、結晶化により溶けたものが固化することを考慮しないと、成形プロセスの流動場の解析が成り立たない。
　本講では、多くの事例を交えながら、実際のものづくりの場での高分子の結晶化の本質的な考え方について述べる。

  1. 成形プロセス中の結晶化の基礎
    1. 冷却過程の結晶化
    2. 分子配向の基礎:
      • 固体の分子配向と溶融体の分子配向
      • 応力 – 光学則
    3. 流動場の結晶化:
      • 分子配向誘起結晶化と結晶化誘起分子配向
  2. 成形プロセス中の結晶化の解析事例
    1. 結晶化のオンライン計測手法:
      • 結晶化熱解析からシンクロトロン放射光まで
    2. 溶融紡糸過程の解析事例:
      • 低速紡糸と高速紡糸の違い
    3. フィルム成形過程の解析事例:
      • 一軸伸長と二軸伸長
    4. 射出成形における結晶化の解析事例
      • 流動場の影響
  3. 溶融成形過程の移動現象諭と高次構造形成
    1. 溶融成形過程のモデル化の基礎
    2. 高次構造形成を伴う系のモデル化
  4. 絡み合いの影響
    1. 自発的構造形成
    2. 流動履歴の記憶効果
    • 質疑応答・名刺交換
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講師

  • 鞠谷 雄士 氏
    東京工業大学 (現 東京科学大学)
    名誉教授
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会場

東京流通センター

2F 第4会議室

東京都 大田区 平和島6-1-1
東京流通センターの地図
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主催

サイエンス＆テクノロジー 株式会社
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 41,040円 (税込)
複数名
: 20,000円 (税別) / 21,600円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 20,000円(税別) / 21,600円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 38,000円(税別) / 41,040円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 40,000円(税別) / 43,200円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 60,000円(税別) / 64,800円(税込)
  • 受講者全員が会員登録をしていただいた場合に限ります。
  • 同一法人内(グループ会社でも可)による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
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