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レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

～レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術など～
東京都 開催 会場 開催
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概要

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

開催日

  • 2017年9月21日(木) 12時30分 ～ 16時30分

受講対象者

  • レジスト材料の研究開発、製造、品質管理、販売に携わる方
  • 半導体、ディスプレイ、MEMS、センサーなどのデバイス開発、製造、販売に携わる方

修得知識

  • レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法
  • レジストの品質管理手法
  • レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応
  • リソグラフィープロセスの最適化
  • リソグラフィー使用現場におけるトラブル対応
  • 素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応

プログラム

  1. リソグラフィの基礎
    1. リソグラフィーとは
    2. 露光システムとリソグラフィー装置の変遷
  2. レジスト材料とその高性能化
    1. パターンニング用レジスト材料 (総論)
    2. G線、i線用レジスト
    3. KrF用レジスト
    4. ArFおよびArF液浸用レジスト
    5. EUV用レジスト
  3. レジスト製造技術と品質管理
    1. レジスト製造技術
    2. レジストの性能安定化技術
    3. 品質管理 – その項目と方法
  4. レジスト材料の評価技術
    1. 性能評価
    2. 品質評価
    3. シミュレーション技術
  5. レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
    1. 種々のトラブルとその解決策 (材料面から)
    2. 種々のトラブルとその解決策 (プロセス面から)
    3. 顧客対応の方法
  6. 20nm以下のリソグラフィー技術
    1. ダブルパターンニング技術
    2. DSA技術とその材料
    3. ナノインプリント技術
    4. 今後のリソグラフィー技術
    • 質疑応答
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会場

江東区役所 商工情報センター (カメリアプラザ)

9F 第2研修室

東京都 江東区 亀戸2-19-1
江東区役所 商工情報センター (カメリアプラザ)の地図
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主催

株式会社 R&D支援センター
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)

割引特典について

  • R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
    • 1名でお申込みいただいた場合、1名につき 43,750円 (税別) / 47,250円 (税込)
    • 複数名で同時にお申し込みいただいた場合、1名につき 23,139円 (税別) / 24,990円 (税込)
    • 案内登録をされない方は、1名につき 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)
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