第1部 ナノインプリント技術の最新動向と展望

(2013年4月23日 10:30〜12:00)

早稲田大学 ナノ理工学研究機構研究院 准教授 水野 潤 氏

　ナノインプリント技術は,プリンストン大学 (現在) のChou教授が1995年に提案した技術で1μm以下のパターン構造を安価に一括加工できる手法である.ナノインプリントは,熱インプリント,光 (UV) インプリント,ソフト (マイクロコンタクト) リソグラフィの3つに分類できる.ここでは最近の企業を中心とした各要素技術の開発情報を紹介し,今後のナノインプリントの展望について紹介していく.

1. はじめに
2. ナノインプリントの要素技術の動向
   1. ナノインプリント用樹脂
   2. ナノインプリント用モールド
   3. ナノインプリント用転写装置
3. ナノインプリントの応用例
4. ナノインプリントへの取り組み
5. 今後の展望

• 質疑応答・名刺交換

第2部 多様化するナノインプリント用モールドと今後の技術展望

(2013年4月23日 12:45〜14:15)

NTTアドバンステクノロジ (株) 先端プロダクツ事業本部 ナノテクビジネスユニット 高橋 千春 氏

　ナノインプリント技術はこの10年ほどで大きく進展し、基礎・基盤研究から応用研究に急速に拡大しつつある。
応用分野によっては量産ラインへの導入も検討が始まっている。モールドの仕様も、ナノインプリント技術の基本となる高精度モールドだけでなく、幅広い応用に対応して、基板材料、パタンサイズ、パタン領域などが異なるモールドが求められている。本講演ではこのような多種多様なモールドについて紹介するとともに、今後予想される課題も踏まえて技術展望を行う。

1. はじめに
   1. ナノインプリント技術の進展
   2. ナノインプリントモールドへの要求
2. 作製技術
   1. 微細加工プロセス
   2. リソグラフィー技術
   3. ドライエッチング技術
   4. ウエットエッチング技術
   5. Ni電鋳技術
   6. その他の技術
3. 各種モールド
   1. Siおよび石英モールド
   2. SiNおよびSiCモールド
   3. Niモールド
   4. 3次元形状モールド
   5. 大面積モールド
   6. その他のモールド
4. 今後の展望とまとめ
   1. 課題と今後の展望
   2. まとめ
• 質疑応答・名刺交換

第3部 ナノインプリント装置の開発動向と応用例

(2013年4月23日 14:30〜16:00)

(株) 日立製作所 日立研究所 主管研究員 工学博士 宮内 昭浩 氏

　ナノインプリントは液晶TV向けの反射防止膜や電子ペーパーの導光板への量産適用が開始され,研究フェーズから量産フェーズへ移行している。装置も初期の平行平板タイプからロール加圧式の高スループット機へ移行している。
　本講座では,ロール加圧式式の装置,プロセスを中心に述べる。また,成型精度を決める樹脂流動に関して最新の研究状況を述べる。

1. イントロダクション
2. ナノインプリント装置
   1. 平行平板型装置
   2. ロール加圧型装置
3. プロセス制御
   1. 樹脂流動
   2. 剥離制御
4. 応用デバイス
5. まとめ

• 質疑応答・名刺交換