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物理学で理解するEUVリソグラフィの基礎・応用・課題と将来展望

物理学で理解するEUVリソグラフィの基礎・応用・課題と将来展望

～半導体製造を支える最先端微細加工技術～
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概要

本セミナーでは、リソグラフィ技術を取り上げ、微細加工の基礎、フォトリソグラフィ技術の原理、フォトリソグラフィ技術の材料、EUVリソグラフィ技術の応用事例について分かりやすく丁寧に解説いたします。

開催日

  • 2025年9月16日(火) 13時00分 ～ 16時00分

修得知識

  • EUVリソグラフィの要素技術
    • EUV光源系
    • 光学系
    • マスク等
  • EUVリソグラフィの関連材料 (レジスト等)
  • EUVリソグラフィが抱える課題と課題解決に向けた取り組み例

プログラム

　生成AIの登場により、半導体製品に対する需要は堅調に高まっています。集積回路中のトランジスタ数の増加速度を予測する「ムーアの法則」の終焉が指摘されるようになってから久しいですが、昨年には高NA-EUV露光装置が半導体デバイスメーカーに納品され、半導体の高密度化のトレンドは今後も続くと見られます。
　本セミナーでは、微細加工技術のキモとも言えるフォトリソグラフィについて、従来技術および先端EUVリソグラフィについて、物理学的な視点で基礎を解説します。EUV露光装置およびEUV光とレジストとの相互作用について特に詳しく解説します。加えて、EUVリソグラフィの応用事例や課題、課題解決に向けた最近の取り組みについて紹介します。

  1. 微細加工技術
    1. トランジスタの変遷
    2. 微細加工技術の基礎
    3. 微細加工パターンの評価手法
  2. フォトリソグラフィの基礎
    1. フォトリソグラフィ技術の原理
    2. フォトリソグラフィの歴史
    3. フォトリソグラフィの特徴
    4. レジスト材料り
  3. EUVリソグラフィの基礎
    1. 装置構成
      1. EUV光の発生原理
      2. 光学系
      3. レジストとEUV光の相互作用
    2. EUV露光システムの特徴
    3. EUVリソグラフィ材料
      1. EUVレジスト
      2. EUVレジスト周辺材料
      3. EUVフォトマスク
      4. EUVペリクル
  4. EUVリソグラフィの応用事例
    1. GAAトランジスタ
  5. EUVリソグラフィの課題と展望
    1. 最新のEUVリソグラフィのパフォーマンス
    2. EUV光源開発の取り組み紹介
    3. EUVレジスト開発の取り組みの紹介
    4. レジスト検査技術開発の取り組みの紹介
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講師

  • 藤原 弘和 氏
    東京大学 大学院 新領域創成科学研究科
    特任助教
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主催

株式会社 トリケップス
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 47,000円 (税別) / 51,700円 (税込)
1口
: 60,000円 (税別) / 66,000円 (税込) (3名まで受講可)

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 Zoomのシステム要件 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
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