第1部 ナノインプリント技術と量産化

～光ナノインプリントと熱ナノインプリントの比較から～
(2012年6月21日 13:00～14:00)

　ナノインプリント技術は1995年の報告に始まり,研究段階から量産段階へシフトしつつある。
　本講演では,ナノインプリントの量産時期を迎えるに当たり,離型制御や評価方法,樹脂流動の限界などを解説する。

1. はじめに
   ナノインプリントの原理と動向
2. 量産化に向け
   1. 離型性の問題
   2. 分解能の限界
   3. 樹脂流動の限界
   4. 検査技術
3. アプリケーション
4. まとめ
• 質疑応答・名刺交換

第2部 光ナノインプリント用樹脂の開発及びその性能向上

(2012年6月21日 14:15～16:15)

　インプリント技術は、EB加工によるナノオーダーの超微細パターンから機械加工による大きなパターンまで幅広い解像度に対応可能であり、安価にパターンを製造できる手法である。特に、ナノインプリントでは、フォトリソ法をしのぐ解像度のパターン加工が可能である。
　このインプリント技術に対応する樹脂開発を進めており、開発段階で得た性能向上のヒントを含め光ナノインプリント樹脂の紹介を行う。

1. ナノインプリントについて
2. 硬化方式及び硬化材料
   1. 硬化方式の違い
   2. 硬化性材料 (モノマー、ポリマー、開始剤など)
3. UVナノインプリント用レジスト
   1. 期待される特性に対する設計コンセプト
4. 樹脂設計とコンセプトの検証
   1. 高スループット化の決め手
   2. 基板密着性発現機構
   3. モールド剥離性向上
   4. 硬化反応性向上
5. UVナノインプリント材料の新展開
   1. 溶剤現像型レジスト
   2. 後からインプリント材料
6. 最近の応用事例の紹介
7. まとめと今後の展望
• 質疑応答・名刺交換