先端技術の粋が集められた表面分析装置は、ナノテクを中心とした技術開発に欠かせない存在です。分析の対象 (サンプル) は、半導体素子、医薬品、など様々であり、その使用目的もプロセス開発、品質管理、など多岐にわたっています。
　特に近年の表面分析装置はユーザーフレンドリーであり、比較的容易に相応の結果を得ることができます。その反面、いわゆるブラックボックス化が進んでいるため、表面分析の基礎や原理が蔑ろにされがちです。また、出力されたグラフや数値を確認しても、考察が不十分になる、他のデータとの不整合を見過ごす、等の問題が生じる可能性があります。
　そこで本セミナーでは、基礎事項として、サンプル表面に入射するX線、電子、イオンの特徴、これらと表面との相互作用、出力に至るまでの信号の流れ、等を分かり易く解説します。また、代表的な表面分析の原理や分析結果の例を紹介します。加えて、表面分析の応用として、マッピング、深さ分析について説明します。

1. 表面分析の概要
   1. はじめに
   2. 代表的なフロー
      • 入射→相互作用→認識
2. 表面分析の構成要素
   1. 入射
      1. X線
      2. 電子
      3. イオン
   2. 相互作用
      1. X線と表面の相互作用
         • 吸収
         • 蛍光X線
         • 回折X線 (XRD)
         • 等
      2. 電子と表面の相互作用
         • 吸収
         • 特性X線
         • 二次電子 等
      3. イオンと表面の相互作用
         • 吸収
         • スパッタリング
         • ラザフォード後方散乱 等
   3. 認識
      1. 検出器
      2. 表示
   4. その他
      1. 真空
      2. ステージ
3. 表面形状観察
   1. 光学顕微鏡
   2. SEM
   3. レーザー顕微鏡
   4. SPM
4. 表面元素等分析
   1. XRF
   2. XPS
   3. AES
   4. S-SIMS
5. 表面分析の応用
   1. マッピング
      1. SEM-EDS
      2. EPMA
      3. AES
      4. S-SIMS
      5. XRF
      6. XPS
   2. 深さ分析
      1. D-DIMS
      2. スパッタリングの併用
         • XPS
         • AES
         • S-SIMS
      3. RBS
6. 補足
7. まとめ