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表面分析の基礎・原理と応用

表面分析の基礎・原理と応用

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アーカイブ配信のお申し込みは2026年8月18日まで承ります。

概要

本セミナーでは、表面分析の基礎から解説し、X線・電子・イオンの特性とそれらがサンプル表面と相互作用する仕組み、代表的な表面分析手法の原理や分析例、応用としてマッピングや深さ分析について解説いたします。

開催日

  • 2026年8月6日(木) 10時30分 ～ 16時30分

修得知識

  • 表面分析に用いるX線、電子、イオンの特徴とこれらと表面の相互作用
  • 代表的な表面分析法の基礎・原理
  • SEM-EDS
    • AFM
    • XPS
    • SIMS 等
  • 分析装置の一般的な仕組み
  • 各表面分析の相対的な位置づけ
  • 表面分析の結果の適切な解釈

プログラム

　先端技術の粋が集められた表面分析装置は、ナノテクを中心とした技術開発に欠かせない存在です。分析の対象 (サンプル) は、半導体素子、医薬品、など様々であり、その使用目的もプロセス開発、品質管理、など多岐にわたっています。
　特に近年の表面分析装置はユーザーフレンドリーであり、比較的容易に相応の結果を得ることができます。その反面、いわゆるブラックボックス化が進んでいるため、表面分析の基礎や原理が蔑ろにされがちです。また、出力されたグラフや数値を確認しても、考察が不十分になる、他のデータとの不整合を見過ごす、等の問題が生じる可能性があります。
　そこで本セミナーでは、基礎事項として、サンプル表面に入射するX線、電子、イオンの特徴、これらと表面との相互作用、出力に至るまでの信号の流れ、等を分かり易く解説します。また、代表的な表面分析の原理や分析結果の例を紹介します。加えて、表面分析の応用として、マッピング、深さ分析について説明します。

  1. 表面分析の概要
    1. はじめに
    2. 代表的なフロー
      • 入射→相互作用→認識
  2. 表面分析の構成要素
    1. 入射
      1. X線
      2. 電子
      3. イオン
    2. 相互作用
      1. X線と表面の相互作用
        • 吸収
        • 蛍光X線
        • 回折X線 (XRD)
        • 等
      2. 電子と表面の相互作用
        • 吸収
        • 特性X線
        • 二次電子 等
      3. イオンと表面の相互作用
        • 吸収
        • スパッタリング
        • ラザフォード後方散乱 等
    3. 認識
      1. 検出器
      2. 表示
    4. その他
      1. 真空
      2. ステージ
  3. 表面形状観察
    1. 光学顕微鏡
    2. SEM
    3. レーザー顕微鏡
    4. SPM
  4. 表面元素等分析
    1. XRF
    2. XPS
    3. AES
    4. S-SIMS
  5. 表面分析の応用
    1. マッピング
      1. SEM-EDS
      2. EPMA
      3. AES
      4. S-SIMS
      5. XRF
      6. XPS
    2. 深さ分析
      1. D-DIMS
      2. スパッタリングの併用
        • XPS
        • AES
        • S-SIMS
      3. RBS
  6. 補足
  7. まとめ
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主催

株式会社 R&D支援センター
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お問い合わせ

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受講料

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