技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

生成AIによる特許調査の進め方

生成AIによる特許調査の進め方

～先行技術調査、侵害予防調査、無効資料調査、IPランドスケープ… / 調査タイプごとの生成AI活用、プロンプトの設計～
オンライン 開催
関連するセミナー・出版物
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する 関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、企業の知財部員、特許事務所の弁理士、および調査会社のサーチャーを対象に、進化する生成AIを特許調査業務へ戦略的に導入する方法を実践的に解説いたします。

配信期間

  • 2026年2月19日(木) 10時30分 ～ 2026年3月1日(日) 16時30分

お申し込みの締切日

  • 2026年2月19日(木) 10時30分

プログラム

　本講座は、企業の知財部員、特許事務所の弁理士、および調査会社のサーチャーを対象に、進化する生成AIを特許調査業務へ戦略的に導入する方法を実践的に解説します。先行技術調査、侵害予防調査、更に無効資料調査やIPランドスケープまで、主要な調査タイプごとに、仮想事例を通して生成AIの活用方法を紹介します。これらの活用方法のうちGoogleスプレッドシートのAI関数は、大量の特許文献を処理する上で極めて有用です。
　ハルシネーションへの対策、カスタムGPTの作成法といった基礎も網羅し、知財業務の工数を削減しつつ調査品質を向上させるためのAI活用ノウハウをご提供します。

  1. 生成AIの基礎と特許調査への導入
    1. 生成AIの適切な使い方
      1. 知識カットオフ
      2. トークン
      3. ハルシネーション
    2. 本講座で対象とする生成AI
    3. 生成AIの契約プラン
      1. ChatGPT
      2. Copilot
      3. Claude
      4. Gemini
    4. 生成AI利用における主要なリスクと対応策
      • 入力データの取り扱いと機密情報の保護
    5. プロンプト作成の初歩
    6. カスタムGPTの作り方と使い方
    7. ExcelのCopilot関数
    8. GoogleスプレッドシートのAI関数
  2. 主要な特許調査への生成AIの応用
    1. 国際特許分類の調査
    2. 類義語の調査
    3. 出願前先行技術調査へのAI活用事例
      1. 出願前先行技術調査の手順
      2. 発明の特許性を否定する先行技術文献を検索する検索式の設計
      3. 特許文献のスクリーニング
    4. 侵害予防調査 (クリアランス調査) の支援
      1. 侵害予防調査の手順
      2. 日本の事例
        • 製品仕様と抵触する特許文献を探索する検索式の設計
        • 特許文献のスクリーニング
        • 要検討特許と製品仕様を対比したクレームチャート
      3. 米国の事例
        • 製品仕様と抵触する特許文献を探索する検索式の設計
        • 特許文献のスクリーニング
        • 要検討特許と製品仕様を対比したクレームチャート
  3. 高度な特許調査への生成AIの応用
    1. 無効資料調査への応用
      1. 無効資料調査の手順
      2. 対象特許を無効とし得る特許文献を探索する検索式の設計
      3. 対象特許と特許文献を対比したクレームチャート
    2. 刊行物等提出書の作成のための無効資料調査 (情報提供調査)
      1. 刊行物等提出書の作成
    3. 技術動向調査 (IPランドスケープ) への活用
      1. 技術動向調査の手順
      2. 分析軸の決定
      3. 各文献に分析項目を付与
      4. パテントマップの生成
    • 質疑応答
ページのトップヘ

講師

  • 綾木 健一郎 氏
    弁理士法人 磯野国際特許商標事務所
    弁理士
ページのトップヘ

主催

株式会社 技術情報協会
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
  • 5名様以降は、1名あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
    • 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 180,000円(税別) / 198,000円(税込)
    • 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 210,000円(税別) / 231,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

アーカイブ配信セミナー

  • 当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
  • 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
  • 視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
  • 視聴期間は2026年2月19日〜3月1日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
  • セミナー資料は別途、送付いたします。
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する
ページのトップヘ

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/7/14 拒絶理由通知対応の実務ポイントと先を見据えた戦略的権利化 オンライン
2026/7/14 はじめてのPI (プロセスインフォマティクス) オンライン
2026/7/14 AI時代の知財価値評価 オンライン
2026/7/14 新規事業テーマを発掘するための情報収集の仕方と実践ノウハウ オンライン
2026/7/15 パテントマップを活用したアイデア創出とR&Dテーマの発掘 オンライン
2026/7/15 迅速化、効率化を実現する研究開発プロセスの再設計と生成AI、Python、Rの活かし方 オンライン
2026/7/16 生成AIを活用した競合特許分析と弱点の見つけ方、戦略的対抗アイデアの生成 オンライン
2026/7/16 再生医療分野における周辺ビジネスの実際と参入戦略 オンライン
2026/7/16 IPランドスケープの実践と生成AI活用法 オンライン
2026/7/16 異物ゼロへのアプローチ オンライン
2026/7/17 ラボオートメーションに向けた実験環境の構築と導入・実装のポイント オンライン
2026/7/17 生成AI時代に求められる技術文書の作成と整え方 オンライン
2026/7/17 知財業務における生成AI・AIエージェント活用とコーディングの進め方 オンライン
2026/7/17 再生医療分野における周辺ビジネスの実際と参入戦略 オンライン
2026/7/17 IPランドスケープの実践と生成AI活用法 オンライン
2026/7/21 デジタルツインを実現する基本技術と製造現場への導入・活用のポイント オンライン
2026/7/21 メカニスティックモデルとAIの融合による医薬品製造プロセスの開発 オンライン
2026/7/21 製造業のための4M管理デジタル化入門 オンライン
2026/7/22 技術者・研究者のための研究開発テーマの決め方 オンライン
2026/7/22 生成AIを活用したデータ解析の基礎と実践 オンライン
ページのトップヘ

関連する出版物

発行年月
2012/1/15 光学フィルム 技術開発実態分析調査報告書
2012/1/15 免震・制震・耐震技術 技術開発実態分析調査報告書
2012/1/10 放電加工機 技術開発実態分析調査報告書
2011/12/10 製薬大手5社 技術開発実態分析調査報告書
2011/12/10 計測機器関連18社 技術開発実態分析調査報告書
2011/12/5 住友電気工業 技術開発実態分析調査報告書
2011/12/1 建設大手9社 技術開発実態分析調査報告書
2011/11/30 NTTグループ8社 (NTTを除く) 技術開発実態分析調査報告書
2011/11/25 インキ業界10社 技術開発実態分析調査報告書
2011/11/25 アクリル酸エステル 技術開発実態分析調査報告書
2011/11/20 カテーテル 技術開発実態分析調査報告書
2011/11/15 半導体露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2011/11/9 IBM (米国特許版) 技術開発実態分析調査報告書
2011/10/15 通信機器大手3社 技術開発実態分析調査報告書
2011/10/10 酸化チタン 技術開発実態分析調査報告書
2011/10/5 電子部品大手8社 技術開発実態分析調査報告書
2011/10/1 大日本印刷 技術開発実態分析調査報告書
2011/9/25 クリーンルーム 技術開発実態分析調査報告書
2011/9/20 三菱化学 技術開発実態分析調査報告書
2011/9/15 電線7社 技術開発実態分析調査報告書
ページのトップヘ