技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。
(2024年1月24日 10:30〜12:00)
昨今、私たちは新たなデジタル社会と対面している。世の中で頻繁にその言葉を耳にするIOT、AI、Soceity5.0等の発展に対し、さらなるデバイスの高速化、大容量化、省電力化が求められている。そのために不可欠なのがリソグラフィの微細化であり、その実現には、フォトレジスト材料の開発が必須である。究極の微細化であるEUVリソグラフィ用フォトレジスト材料の開発に関し、その歴史、背景を交え解説する。
(2024年1月24日 13:00〜14:30)
(2024年1月24日 14:45〜16:15)
EUVリソグラフィにおいて、次世代サブ10 nmHP用 (オングストロームノード用) として期待されるメタル含有レジストの反応機構と課題について解説します。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
| 開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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| 発行年月 | |
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