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半導体洗浄の基礎とクリーン化技術のノウハウ

半導体洗浄の基礎とクリーン化技術のノウハウ

オンライン 開催 個別相談付き

概要

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

開催日

  • 2023年9月22日(金) 13時00分 16時30分

修得知識

  • 半導体デバイス製造におけるクリーン化技術の基礎
  • 製品の歩留まり向上や品質改善および技術開発における基盤技術
  • 製造プロセスや装置機構によるクリーン化の促進、各種ノウハウ

プログラム

 半導体デバイスは現在の科学および産業に多大な貢献をしています。また、その高機能化の進歩は極めて速く、多くの基盤技術が創生されています。その中でも、半導体基板のクリーン化技術は、製品歩留まりに直結しているため、重要なキーテクノロジーの1つとして位置づけられています。
 本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説します。特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説します。本講座を通じて、基礎から学んでいただけます。また、受講者が抱えている日頃の研究開発および現場トラブルに関する相談にも個別に対応します。

  1. 洗浄技術と半導体デバイス
    1. 基本洗浄方式
      • ウェット
      • ドライ
      • 物理除去
    2. 歩留まりと欠陥
      • 致命欠陥とは
  2. 洗浄の基本メカニズム (付着・脱離)
    1. 相互作用因子
      • 粒子間の引力とは
    2. ファイン粒子の性質
      • JKR理論
      • DMT理論
      • Hertz理論
      • 毛管凝縮
    3. DPAT技術
      • AFMによる剥離力の直接測定
    4. 液体ラプラス力
      • 液膜による凝集力
    5. 溶液中の粒子付着と除去
      • DLVO理論
    6. ゼータ電位と分散凝集制御
      • 溶液中の帯電
    7. 表面エネルギーと洗浄 (分散、極性成分からの付着性解析)
    8. 界面への洗浄液の浸透機構
      • 拡張濡れエネルギー
      • Sモデル
  3. 有効な付着物の除去方法とは? (徹底的に除去するには)
    1. RCA洗浄
      • 重金属除去
      • 酸化還元電位
    2. 腐食溶解
      • ポテンシャル-pH電位図
    3. マイクロ気泡の脱離
      • 低表面張力液体による除去
    4. 超音波洗浄
      • 異物除去メカニズム
    5. 乾燥痕対策
      • IPA
      • スピン乾燥
    6. プラズマ処理
      • 有機物分解と物理スパッタ
    7. ブラシスクラバー
      • 機械的除去
  4. 効率的なクリーン化技術とは (クリーンルーム運営)
    1. 花粉、PM2.5、バクテリア、マイクロビーズ (身近な異物)
    2. フィルター技術
      • フィルタリングの基礎
    3. 単分子有機汚染
      • 保管中のクリーンネスとは
    4. パーティクルカウンター
      • 気中浮遊粒子
    5. 動線のコントロール
      • 安全性と作業の効率化
  5. 質疑応答
    • 日頃の疑問、トラブル、解析・技術開発相談に個別に応じます

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

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案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 42,000円(税別) / 46,200円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。

  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

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