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半導体用レジストの特性および材料設計とその評価

半導体用レジストの特性および材料設計とその評価

~フィラーは高分子のどこに入るのか? 室温時の抵抗を低下させ、高温時の抵抗を上げるには? 高分子とフィラーのインターラクションは? 最も良いフィラーは?~
オンライン 開催

概要

本セミナーでは、半導体用レジスト技術の基礎から解説し、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセス、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説いたします。

開催日

  • 2023年9月12日(火) 10時30分 16時30分

受講対象者

  • レジスト材料・プロセスの研究や開発に関わる方
  • 半導体、ディスプレイ、MEMSなどのデバイス開発、製造、販売に携わる方
  • レジストメーカー、およびレジストメーカーに原料を提供する素材メーカーの方

修得知識

  • レジストを製造するための基礎知識、材料設計指針
  • レジストを使用する際の留意事項
  • リソグラフィープロセスについて
  • 素材メーカー、レジストメーカーとしてのデバイスメーカー対応能力
  • レジスト材料
    • ノボラック系ポジ型レジスト
    • 化学増幅型レジスト
  • プロセスについて

プログラム

 半導体、LCD等の電子デバイス製造では、成膜、パターン作製 (レジスト塗布、露光、現像) 、エッチング、レジスト剥離、洗浄等のプロセスを複数回繰り返すことにより、基板上に微細素子がパターンニングされたトランジスタが形成される。これらの工程はリソグラフィー工程と呼ばれ、おおよそ20回から30回繰り返されることになる。
 本講演では、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセスについて解説するとともに、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説する。
 また、元デバイスメーカーにいた者の視線で、レジストメーカーに原料を提供する素材メーカーにおけるレジスト評価法の具体的な手法について丁寧に解説したい。

  1. 感光性レジストの基礎とリソグラフィー工程の解説
    1. 感光性レジストとは?
    2. リソグラフィーについて
    3. フォトレジストの塗布、露光、露光後ベーク (PEB) 、現像工程の概要
  2. レジスト設計の変遷とその作用メカニズム
    1. 半導体・電子デバイスの進化とレジスト設計の変遷
    2. レジストの基本原理
    3. レジストの現像特性
    4. レジストとSi基板との密着性について
  3. ノボラック系ポジ型レジストの材料設計
    1. レジスト現像アナライザ (RDA) を用いた現像特性評価
    2. ノボラック系ポジ型レジストの分子量とレジスト特性の関係
    3. ノボラック系ポジ型レジストのプリベーク温度を変えたレジスト特性評価
    4. PACのエステル化率を変化させたノボラック系ポジ型レジストのレジスト特性
    5. ノボラック系ポジ型レジストの現像温度とレジスト特性との関係
  4. 化学増幅ポジ型レジストの材料設計
    1. 化学増幅ポジ型3成分レジストのベース樹脂とレジスト特性
      • ベース樹脂
      • 溶解抑制剤
      • 酸発生剤
    2. 化学増幅ポジ型3成分レジストの溶解抑制剤とレジスト特性
    3. 化学増幅ポジ型3成分レジストの酸発生剤とレジスト特性
    4. EUVレジストへの展開
    5. i線厚膜レジストへの展開

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 25,000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

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「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。

  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

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