技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、共用設備の洗浄を巡る課題、健康ベース曝露限界値の設定、洗浄閾値の設定、洗浄評価シミュレーション事例、洗浄評価への具体的な対応、目視検査、今後の洗浄実務と洗浄目標設定、洗浄にかかわる最新規制・ガイドライン・査察官用備忘録の概要などについて解説いたします。
共用設備では交叉汚染防止が必須であるが、今後の洗浄バリデーションでは、PIC/Sの最新改訂に見られるように、リスクベースでの対応が必要とされる。そのためのツールは、「健康ベース曝露限界値」である。それを洗浄バリデーションの中で使い込むことが望まれる。
本セミナーでは、共用設備の洗浄を巡る課題、健康ベース曝露限界値の設定、洗浄閾値の設定、洗浄評価シミュレーション事例、洗浄評価への具体的な対応、目視検査、今後の洗浄実務と洗浄目標設定、洗浄にかかわる最新規制・ガイドライン・査察官用備忘録の概要などについて説明する。
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
| 開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
|---|---|---|---|
| 2026/3/19 | 治験薬GMP入門 | オンライン | |
| 2026/3/19 | 中小規模組織 (企業) におけるGMP/GQP文書作成の技法と文書を遵守させるための手法 | オンライン | |
| 2026/3/23 | 治験薬GMP入門 | オンライン | |
| 2026/3/26 | 信頼性基準適用試験の運用への落とし込みと(海外導入品など) 日本申請時の信頼性保証 | オンライン | |
| 2026/3/27 | 半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術 2か月連続セミナー | 東京都 | 会場・オンライン |
| 2026/3/30 | 簡便化、抜け防止の観点をふまえたGMP SOP/製造指図記録書の形式・作成 (改訂) ・記入方法 | オンライン | |
| 2026/4/13 | 簡便化、抜け防止の観点をふまえたGMP SOP/製造指図記録書の形式・作成 (改訂) ・記入方法 | オンライン | |
| 2026/4/17 | 半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで | 東京都 | 会場・オンライン |