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医薬品製造現場における暴露防止・交叉汚染防止の観点からみた暴露許容値の設定とその活用

医薬品製造現場における暴露防止・交叉汚染防止の観点からみた暴露許容値の設定とその活用

~暴露許容値を正しく設定し、使えるために担当者が知っておくべき基礎知識・理解~
東京都 開催 会場 開催

開催日

  • 2019年6月24日(月) 13時00分 16時30分

プログラム

 非専用設備の洗浄基準の設定に科学的根拠が求められるようになってきました。本講座では、その根拠の一つとして用いられるようになってきた暴露許容値を正しく設定し使えるよう、まず暴露許容値を理解いただき、具体的な事例を通し設定や活用におけるポイントをご紹介します。

  1. 暴露許容値とその設定方法
    • 設定に必要な基礎知識
    • 設定事例と演習
  2. 暴露許容値の活用
    • 曝露管理への活用
    • 洗浄基準への活用
    • 質疑応答・名刺交換

講師

  • 加藤 伸明
    シミックCMO株式会社 QM本部
    EHS担当部長

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん

5F 第3講習室

東京都 品川区 東大井5丁目18-1
品川区立総合区民会館 きゅりあんの地図

主催

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  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
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