技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術

東京都 開催

概要

本セミナーでは、歩留まり向上のためのクリーン化技術および洗浄・乾燥技術について、基礎から“最先端技術”まで分かりやすく解説いたします。

開催日

  • 2019年1月23日(水) 10時00分 17時00分

修得知識

  • 半導体製造ラインの汚染の実態、
  • その汚染とデバイス欠陥・不良の相関の具体例
  • 半導体ウェーハへの汚染を防止しクリーンに保つためのノウハウ
  • 歩留り向上に役立つクリーン化技術への科学的アプローチ

プログラム

 半導体デバイス (LSI) の超微細化に伴い、半導体デバイスの製造現場では、パーティクル (異物微粒子) や金属不純物、表面吸着化学汚染 (有機汚染に代表されるケミカル・コンタミネーション) などさまざまな微小 (少) な汚染物質が、半導体デバイスの歩留まりや信頼性にますます大きな悪影響を及ぼすようになっています。半導体プロセスは、その全てが汚染の発生源と言っても過言ではありません。このため、製造ラインのクリーン化 (全工程にわたり、いかに汚染を防止し、シリコンウェーハ表面をクリーリーンに保つか) および洗浄 (いかに汚染を除去するか) の重要性が一段と高まっています。洗浄工程は製造プロセスの中に繰り返し登場し最頻の工程になっている。しかし、半導体デバイスの微細化に伴い、洗浄も新材料・新構造への対応が迫られるとともに、洗浄・乾燥に起因する微細回路パターンの倒壊を始め、様々なトラブルが顕在化してきており、従来の洗浄技術にブレークスルーが求められている。
 本セミナーは、今までノウハウとして門外不出の内向きの技術領域として扱われてきた、歩留まり向上のための「先端半導体クリーン化技術および洗浄・乾燥技術」について、その基礎から最先端技術までを、実践的な観点から豊富な事例を交えて、初心者にもわかりやすく、かつ具体的に解説します。いままで半導体の参考書ではほとんど語られることの無かった先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介します。

  1. 半導体クリーン化技術 (シリコンウェーハ表面の汚染をいかに防止するか?)
    1. クリーン化の目的 (なぜクリーン化すべきか)
      1. 歩留の科学・歩留予測曲線
      2. 歩留低下要因・実例
    2. クリーン化の対象 (何をクリーン化すべきか?)
      1. 半導体製造における空気清浄度。ウェーハ搬送方式、汚染発生源の推移
      2. クリーンルームではなくウェーハ表面のクリーン化の重要性
      3. 半導体製造における汚染の実態とデバイス不良例
      4. ウェーハ表面汚染の種類とデバイス特性への影響
    3. 半導体表面クリーン化の手法 (汚染をどのように防止すべきか?)
      1. 半導体プロセスにおけるパーティクルの実態と低減防止策
      2. 半導体プロセスにおける金属汚染の実態と低減防止策
      3. 半導体プロセスにおける無機化学汚染の実態と低減防止策
      4. 半導体プロセスにおける有機化学汚染の実態と低減防止策
    4. 半導体クリーン化技術まとめ
    5. 最先端の話題:ナノパーティクル対策への挑戦
  2. 半導体洗浄乾燥技術 (シリコンウェーハ表面の汚染をいかに除去するか)
    1. 半導体製造における洗浄技術の重要性
    2. 表面汚染除去のメカニズム
    3. ウェーハ表面洗浄手法
    4. ウェーハ表面乾燥手法
    5. 回路パターン付きウェーハ洗浄の洗浄の現状と課題
      1. トランジスタ形成工程の洗浄の現状と課題
      2. 多層配線工程の洗浄の現状と課題
    6. 超微細構造の洗浄の課題と解決策
      1. 水の表面張力や物理力による微細パターン倒壊の現状
      2. 超微細構造にダメージを与えない洗浄・乾燥技術
        • 2流体
        • メガソニック
        • HFべーパー
        • ドライ
        • 表面改質。超臨界流体
        • 局所洗浄など
    7. 最先端半導体メモリおよびロジックにおける洗浄技術の課題と展望
    8. 洗浄・乾燥技術のまとめ
    9. 最先端の話題:最近の洗浄技術国際会議から
    • 質疑応答・名刺交換

講師より

希望者には、過去の半導体洗浄技術国際会議の論文集や超臨界流体洗浄:乾燥技術の解説文献など洗浄技術に関する副読教材 (電子ファイル版) を差し上げます。詳しくは講義の際に紹介いたします。

講師

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん

6F 中会議室

東京都 品川区 東大井5丁目18-1
品川区立総合区民会館 きゅりあんの地図

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 42,750円 (税別) / 46,170円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,300円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 22,500円(税別) / 24,300円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,750円(税別) / 46,170円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 48,600円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 72,900円(税込)
  • 受講者全員が会員登録をしていただいた場合に限ります。
  • 同一法人内(グループ会社でも可)による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
本セミナーは終了いたしました。
講演順序・プログラムは変更となる場合がございます。予めご了承ください。

これから開催される関連セミナー

開始日時
2019/8/26 塗布膜乾燥のメカニズムの理解と品質保持、最適化、トラブル対策のコツと勘どころ 東京都
2019/8/27 ISO 13485における医療機器の洗浄バリデーションの進め方および統計的手法とサンプルサイズ設定根拠 東京都
2019/8/28 医療機器のプロセスバリデーション (PV) と工程管理 東京都
2019/8/30 効果的な洗浄バリデーションのポイントと査察対応 東京都
2019/8/30 測定技術 パワエレにおける評価項目と測定技術 神奈川県
2019/9/11 AI化、IoT化に向けた半導体パッケージ技術の進化と要素技術 東京都
2019/9/18 乾燥方式の基礎・装置選定・トラブルへの対策 東京都
2019/9/20 クリーンルーム清浄度維持の勘どころ 東京都
2019/9/20 異種デバイス集積モジュールへ拡張する半導体デバイスパッケージ最新動向 東京都
2019/9/24 車載半導体・電子部品の品質保証 5時間集中講座 東京都
2019/9/25 乾燥操作の要素技術、 乾燥機の選び方、スケールアップ、評価と省エネ化 東京都
2019/9/25 スプレードライ (噴霧乾燥) 法を活用・応用するための総合知識 東京都
2019/9/26 食品容器包装材の製造工場におけるGMP管理 東京都
2019/9/27 界面活性剤の上手な使い方 東京都
2019/9/27 凍結乾燥・注射剤における外観検査と異物低減対策 東京都
2019/10/8 3極、PIC/Sにおける洗浄バリデーションの許容限度・査察指摘事項とホールドタイムのデータ取得・設定・評価方法 京都府
2019/10/11 SiCパワーデバイスの開発、実装技術と車載展望 東京都
2019/10/11 異物分析の基礎と測定・解析の事例 大阪府
2019/10/16 高薬理活性医薬品の封じ込めと洗浄バリデーションの進め方 東京都
2019/10/16 2030年連続生産実装化へのロードマップ 東京都

関連する出版物

発行年月
2019/4/24 洗浄バリデーション実施ノウハウと実務Q&A集
2018/12/27 押出成形の条件設定とトラブル対策
2018/3/20 レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決
2018/1/10 SiC/GaNパワーエレクトロニクス普及のポイント
2017/9/25 乾燥技術の基礎とトラブル対策
2014/10/31 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2014/10/31 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書
2014/9/30 液体または蒸気による洗浄技術 技術開発実態分析調査報告書
2014/9/30 液体または蒸気による洗浄技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2014/5/30 コンタクトレンズ用洗浄・殺菌消毒剤 技術開発実態分析調査報告書(CD-ROM版)
2014/5/30 コンタクトレンズ用洗浄・殺菌消毒剤 技術開発実態分析調査報告書
2013/12/15 パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書
2013/12/15 パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2013/9/2 原薬・中間体製造プロセスにおける課題と対策
2013/2/10 酸化物半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2013/2/10 酸化物半導体 技術開発実態分析調査報告書
2012/9/4 食と健康の高安全化
2012/7/30 良い塗布膜を得るためのコントロール技術
2012/6/20 3極GMPに対応した設備適格性評価と保守・点検管理
2012/6/15 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)