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服部 毅 (Hattori Consulting International)
所属
Hattori Consulting International
役職
代表
経歴
- 元 ソニー株式会社 リサーチフェロー
ソニー株式会社に30年余り勤務し、半導体部門で基礎研究、デバイス・プロセス開発から量産ライン (九州および米国テキサス州) の歩留まり向上まで広範な業務を担当。
この間、本社経営/研究企画業務、米国スタンフォード大学 留学、同 集積回路研究所客員研究員なども経験。
ウルトラクリーンテクノロジー研究室長、リサーチフェローを歴任。
2007年に技術・経営コンサルタント、国際技術ジャーナリストとして独立し、現在に至る。
過去に、カリフォルニア大学バークレー校工学部生涯学習講座、大阪大学大学院基礎工学研究科、韓国漢陽大学大学院工学研究科などの非常勤講師や客員教授を歴任。
学協会
- The Electrochemical Society (ECS) フェロー・終身名誉会員
- ECS主催半導体洗浄技術国際会議組織・運営・論文委員
- IMEC主催Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (UCPSS) 国際会議日本代表プログラム委員
- IEEE主催半導体製造国際会議 (ISSM) 運営委員
- SEMI 日本地区スタンダード委員会委員
受賞
- 米国電気化学会 (ECS) フェロー
- 米国電気化学会 (ECS) 終身名誉会員
講演するセミナー
| 会場 | 開催方法 | ||
|---|---|---|---|
| 2026/5/28 | 半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術 | オンライン |
講演したセミナー
| 会場 | 開催方法 | ||
|---|---|---|---|
| 2026/4/17 | 半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで | 東京都 | 会場・オンライン |
|
2026/3/27 2026/4/17 |
半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術 2か月連続セミナー | 東京都 | 会場・オンライン |
| 2026/3/17 | 半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで | 東京都 | 会場・オンライン |
| 2025/5/29 | 半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術 | オンライン | |
| 2025/3/24 | 半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで | 東京都 | 会場・オンライン |
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2025/2/27 2025/3/24 |
半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術 (2コースセット) | 東京都 | 会場・オンライン |
| 2025/2/27 | 半導体製造におけるシリコンウェーハの洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで | 東京都 | 会場・オンライン |
| 2024/5/30 | 半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術 | オンライン | |
| 2024/4/15 | 半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで | 東京都 | 会場・オンライン |
|
2024/3/18 2024/4/15 |
先端半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術 (2コースセット) | 東京都 | 会場・オンライン |
著書
| 発行年月 | ||
|---|---|---|
| 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術 | 2022/10/31 | 在庫あり |