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表面分析技術の基礎と応用

表面分析技術の基礎と応用

~各種装置の特徴と表面分析における位置付け~
東京都 開催 会場 開催

開催日

  • 2016年7月21日(木) 13時00分 ~ 16時00分

受講対象者

  • 材料開発や故障解析に携わる若手技術者・新人の方

修得知識

  • 表面分析の基礎知識
  • 表面分析の各種装置による分析の可能性と限界

プログラム

 物質の表面の状態を解析することは、その物質の特性を知る上で非常に重要です。物質表面を解析するためには、電子、X線、イオンなどを励起源として試料に照射することで試料から発生する信号を元に分析しなければなりません。この分析手法の中には、X線光電子分光法 (XPS) のようにスペクトルのみで表面を解析するものや、走査電子顕微鏡法 (SEM/EDS) やオージェ電子分光法 (AES) などの表面の形態観察を行える顕微鏡としての機能を利用するものもあります。
 またトンネル顕微鏡 (STM) や原子間力顕微鏡 (AFM) などの走査プローブ顕微鏡法 (SPM) では、表面形態やその他の物性を原子レベルで評価することができます。ただし各種の表面分析装置は、得意なことと不得意なことがあります。「どのような試料で何を知りたいか」を明確にして、最適な手法あるいは複数の手法をチャレンジすることが大切です。

  1. 表面分析
    • 様々な表面分析手法とその位置付け
  2. 各種分析手法の特徴と使い方
    1. 極低加速電圧走査電子顕微鏡法 (ULV-SEM/EDS)
    2. オージェ電子分光法 (AES)
    3. X線光電子分光法 (XPS-ESCA)
    4. 走査プローブ顕微鏡 (SPM)
    5. その他の分析手法
      • TEM
      • TOF-SIMS
      • Heイオン顕微鏡など
  3. まとめ
    • 質疑応答

会場

江東区文化センター

3F 第2研修室

東京都 江東区 東陽四丁目11-3
江東区文化センターの地図

主催

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お問い合わせ

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受講料

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: 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)

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