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防汚性・視認性向上材料、技術開発のための表面化学の基礎、解析技術とその応用

防汚性・視認性向上材料、技術開発のための表面化学の基礎、解析技術とその応用

~タッチパネル表面材料開発への表面化学からのアプローチ~
東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは防汚/反射防止/耐指紋性向上材料などタッチパネル用フィルム、コーティング、膜材料開発の必須知識と応用について解説致します。

開催日

  • 2013年8月28日(水) 13時00分 16時30分

受講対象者

  • 表面化学に関する技術者、研究者、品質担当者
  • 表面処理に関連する技術者
  • 最先端ハードコート技術に課題のある研究者・開発者・企業担当者
  • タッチパネル・保護フィルムに関心のある技術者・研究者など

修得知識

  • 反射防止膜の構造と特性
  • 防汚剤等の材料知識
  • 表面化学とその応用技術
  • 最近の超撥水・撥油技術
  • 表面分析の基礎
  • 表面エネルギーを含めた物理化学,有機単分子膜 (SAM) の基礎
  • ディスプレイの視認性向上技術

プログラム

 本講座ではまず概論として反射防止膜の構造並びに要求される特性を述べる。更にその表面に塗布されている防汚膜に関して解説する。具体的には防汚性を発揮するための材料化学、撥水・撥油性を理解するための表面化学、また分子レベルの表面の解析技術に関して詳細に解説し、その耐久性を付与するための基本技術について解説する。それを用いた表面化学応用技術についても述べる。
 またタッチパネル等の屋外使用を可能にするディスプレイの視認性向上技術について、指紋付着性への影響因子、屈折率マッチング材料、モスアイによる無反射技術、及びITOパターン非視認化技術の観点から述べる。

  1. ARフィルムの概要
    1. ARフィルムの特徴とその構造
    2. ARフィルムの製造装置
  2. ARフィルムへの要求特性
    1. ARフィルムへの化学的な要求特性
    2. ARフィルムへの物理的な要求特性
    3. ARフィルムへの電気的な要求特性
  3. 表面化学の基礎
    1. 界面現象
    2. 表面エネルギーの解析
      1. 物理化学の手法
      2. Zisman、Fowksの手法
      3. 表面エネルギーの算出
    3. 表面凹凸の影響
      1. Wenzelの手法
      2. Cassie-Baxterの手法
    4. 超撥水・撥油技術
  4. AR表面の防汚化技術
    1. AR表面の防汚膜
    2. 防汚材料
    3. 塗布工程
    4. 防汚メカニズム
    5. 耐指紋特性に及ぼす影響因子
  5. タッチパネル視認性向上技術
    1. 屈折率マッチング材料
    2. モスアイフィルム
    3. ITOパターン非視認化技術
    4. 指紋付着性への影響因子
  6. 表面分析
    1. 表面分析の一般
    2. FTIR
    3. X線光電子分光 (XPS)
    4. Auger分光
    • 質疑応答・名刺交換

講師

大手ディスプレイ・光学デバイス関連材料メーカー 開発部門 研究開発担当者

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん

4F 第1特別講習室

東京都 品川区 東大井5丁目18-1
品川区立総合区民会館 きゅりあんの地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 39,900円 (税込)
複数名
: 31,000円 (税別) / 32,550円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
  • 3名で参加の場合、1名につき 10,500円割引 (同一法人に限ります)
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