第1章 序章

• 1. プラズマ化学反応の特徴
• 2. 大気圧プラズマ
  • 2.1 大気圧グロー放電の成り立ち
  • 2.2 大気圧グロー放電の生成
  • 2.3 大気圧グロー放電装置
  • 2.4 グロー放電条件

第2章 大気圧プラズマの基礎

1節 大気圧プラズマの基礎特性

• 1. プラズマ中の基礎過程
• 2. 気体の絶縁破壊 タウンゼント理論とストリーマ理論
• 3. プラズマシミュレーションの方法
• 4. 大気圧プラズマ中の化学反応
• 5. マイクロ放電を伴う誘電体バリア放電
• 6. 大気圧グロー放電
• 7. 大気圧タウンゼント放電

2節 大気圧プラズマの発生とその諸特性

• 1. プラズマの分類とその特徴
• 2. 荷電粒子の生成 (電離) と絶縁破壊
• 3. グロー放電の構造とアーク転移
• 4. 大電流グロー放電プラズマの諸量
• 5. パルス電圧を用いた大気圧グロー放電の発生とその特性

第3章 大気圧プラズマ処理の実例と高度化技術

1節 Ar等希ガスによる電子部品の洗浄、改質

• 1. 大気圧プラズマ
• 2. ダイレクト方式大気圧プラズマの応用
  • 2.1 銅とエポキシ樹脂の新しい接着方法
  • 2.2 水素プラズマによる酸化銅の還元挙動
• 3. リモート方式大気圧プラズマの応用
  • 3.1 液晶パネル端子電極部の洗浄
  • 3.2 半導体実装部品への応用
    • 3.2.1 半導体実装部品の電極部洗浄による接合信頼性の改善
    • 3.2.2 ICのチャージアップダメージ評価
  • 3.3 プリント配線板のめっき前処理への応用
  • 3.4 樹脂の接着性改善
    • 3.4.1 PPS樹脂の接着強度評価
    • 3.4.2 PPS樹脂の表面状態分析

2節 大気圧プラズマによる大型液晶基板の洗浄

• 1. 大気圧プラズマ発生原理
• 2. 液晶ガラス基板用洗浄技術
• 3. 洗浄メカニズム解析
• 4. 洗浄装置

3節 高分子材料のぬれ性制御と接着性改善

• 1. 大気圧プラズマ処理技術
  • 1.1 基本技術
  • 1.2 工業技術
• 2. 高分子材料に対する大気圧プラズマ処理
  • 2.1 大気圧プラズマ処理の対象目的
  • 2.2 撥水性付与処理
  • 2.3 銅張り積層板向け処理
  • 2.4 フッ素系樹脂材料に対する大気圧プラズマ処理

4節 繊維、紙、木材のぬれ性改質

• 1. エチレンのセロハン上での重合
  • 1.1 試料,大気圧プラズマ処理および接触角測定
  • 1.2 セロハンの表面自由エネルギー
  • 1.3 赤外吸収スペクトル
  • 1.4 X線光電子分光分析
• 2. 紙のプラズマ処理
  • 2.1 試料,プラズマ処理および物性評価
  • 2.2 ステキヒト・サイズ度試験
• 3. 木材表面のはっ水性化
  • 3.1 実験方法
  • 3.2 はっ水性
  • 3.3 耐水試験
  • 3.4 色差
  • 3.5 木材処理の特殊性
• 4. 大気圧プラズマによる綿布帛への透湿防水性付与
  • 4.1 試料および処理
  • 4.2 綿布帛のはっ水性
  • 4.3 綿布帛の透湿性

5節 大気圧低温プラズマによる粉体処理

• 1. 粉体処理実例と評価
  • 1.1 ポリマー粉体のバルク表面改質
    • 1.1.1 実験
    • 1.1.2 化学修飾法
    • 1.1.3 結果と考察
    • 1.1.4 結論
  • 1.2 化粧品原料用有機、無機顔料超微粉体への大気圧プラズマによるシリカ薄膜堆積

6節 大気圧プラズマCVDによる単層カーボンナノチューブの配向成長制御

• 1. 大気圧グロー放電の基本特性
  • 1.1 実験装置の概略
  • 1.2 低周波で駆動される大気圧グロー放電とCNT合成への応用
  • 1.3 高周波駆動による大気圧グロー放電の高度化
  • 1.4 大気圧RF放電のモード遷移とシースパラメーター
• 2. プラズマCVDとカーボンナノチューブ合成
  • 2.1 プラズマCVDによる単層カーボンナノチューブ合成:レビュー
  • 2.2 実験装置および方法
  • 2.3 単層カーボンナノチューブの合成
  • 2.4 投入電力の影響
  • 2.5 基板温度の影響
  • 2.6 大気圧プラズマ (APRFD) によるガス加熱
  • 2.7 成長速度と触媒の失活
• 3. 展望

7節 大気圧プラズマCVDによる無機物膜堆積

• 1. 低温Siエピ成長技術への要求
• 2. 低温エピ成長技術の課題
  • 2.1 雰囲気の清浄度の維持
  • 2.2 成長速度の低下
  • 2.3 結晶品質の劣化
• 3. 実験方法
  • 3.1 回転電極型大気圧プラズマCVD法
  • 3.2 多孔質カーボン電極型大気圧プラズマCVD法
  • 3.3 成膜および評価方法
• 4. 回転電極型大気圧プラズマCVD法による低温Siエピ成長
  • 4.1 H2/SiH4ガス組成の影響
  • 4.2 基板温度およびVHF電力の影響
  • 4.3 膜端部でのエピ成長の乱れ
• 5. 多孔質カーボン電極型大気圧プラズマCVD法による低温Siエピ成長
  • 5.1 結晶性の評価
  • 5.2 Siエピ層の不純物分析
  • 5.3 エピ成長速度の温度依存性
  • 5.4 Siエピ層のフォトルミネッセンス評価

8節 大気圧プラズマCVDによる酸化物膜堆積

• 1. 装置構成・基本プロセス
• 2. 優れた被覆性
• 3. 犠牲層膜への応用

9節 大気圧プラズマCVDによる高ガスバリア性炭素膜の合成

• 1. 非晶質炭素膜とは?
• 2. 非晶質炭素膜の食品包装容器への応用
• 3. 大気圧プラズマCVD法による非晶質炭素膜の合成およびガスバリア性評価

10節 大気圧マイクロプラズマとその材料プロセスへの応用

• 1. 大気圧マイクロプラズマ
• 2. マイクロプラズマ
  • 2.1 はじめに
  • 2.2 各種のマイクロプラズマ
  • 2.3 マイクロプラズマの材料プロセス応用

11節 Siエッチング

• 1. 大気圧プラズマによるSiエッチング技術
• 2. 線状マイクロプラズマエッチング装置の構成
• 3. プラズマの微細線化とフッ素ラジカル生成効率の向上
• 4. シリコン微細線エッチングプロセス
• 5. 基板加熱の影響
• 6. 流体シミュレーションによる考察

12節 SiO2エッチング

• 1. マイクロ波励起大気圧非平衡プラズマを用いたシリコン酸化膜の超高速加工
  • 1.1 はじめに
  • 1.2 実験装置
  • 1.3 実験結果及び考察
  • 1.4 まとめ
• 2. 大気圧非平衡パルスプラズマを用いたシリコン酸化膜高速エッチング加工と気相診断
  • 2.1 はじめに
  • 2.2 実験装置
  • 2.3 実験結果及び考察
  • 2.4 まとめ

13節 プラズマCVMによる超精密加工

• 1. プラズマCVMによる形状創成加工
  • 1.1 数値制御による形状創成の概念
  • 1.2 硬X線反射ミラーの作製
  • 1.3 SOIウエハ厚さの均一化・薄膜化
  • 1.4 水晶ウエハ厚さの均一化

14節 大気圧プラズマによる粒子設計

• 1. プラズマを利用した機能性粒子開発の草創期とその概要
  • 1.1 生体適合性色素粒子へのマルチ機能薄膜創製
  • 1.2 磁性体粒子の磁気特性改善と防錆
  • 1.3 映像デバイス用蛍光体粒子のイオン、紫外線遮蔽膜形成
• 2. 大気圧プラズマを利用した粒子の研究・創製と必要性
  • 2.1 粒子設計・製造技術と問題点
  • 2.2 プラズマ法を必用とする粒子材料設計
  • 2.3 材料設計の2つの流れ
• 3. 大気圧プラズマを応用するための粒子設計モデル
  • 3.1 新しいナノ構造粒子設計にかかわる結晶モデル樹立
  • 3.2 新しいイオン又は原子ドーピング粒子の創製とプロセス
  • 3.3 実例 (Feドープ酸化チタン:レーリー散乱可能型、可視部重点散乱型)
  • 3.4 ナノ粒子設計・製造方法の改善と有機金属化合物
  • 3.5 この項のまとめと経済性
• 4. ナノ薄膜形成粒子設計とその典型的モデル
  • 4.1 シリカ薄膜形成のモデルと問題
  • 4.2 シリカ以外の薄膜形成設計技術
  • 4.3 さまざまな組み合わせの薄膜の材料設計
  • 4.4 複数粒子混合系の均質分散のための薄膜形成のための設計と薄膜の表面修飾
• 5. 有機超微粒子の高純度化モデル
  • 5.1 有機超微粒子の高機能・高品質化のためのナノテクノロジー
• 6. 高分解能電子顕微鏡により捕らえたシリカコート粒子

15節 大気圧プラズマによる滅菌およびバイオ分野への応用

• 1. プラズマ滅菌について
• 2. パルス変調高周波励起大気圧プラズマ滅菌
• 3. プラズマ滅菌の第一歩
• 4. プラズマ滅菌に含まれる活発な種

16節 アルゴンプラズマ凝固法の原理と応用

• 1. アルゴンプラズマ凝固法の原理
  • 1.1 電気手術器
  • 1.2 電気手術器の凝固出力
  • 1.3 アルゴンプラズマ凝固 (APC)
• 2. アルゴンプラズマ凝固法 (APC) の組織への効果と特徴
• 3. アルゴンプラズマ凝固装置の構成
• 4. 応用例
• 5. 注意点