第1章 光学薄膜の領域とその動向

第2章 光学薄膜設計

• 1. 光学薄膜の性質
  • 1.1 光学薄膜と設計のための計算法
  • 1.2 四端子行列法と多層膜の性質
• 2. 光学薄膜の性質と計算法
  • 2.1 図式解法
  • 2.2 計算のための多層膜の性質
  • 2.3 電界強度の計算
• 3. 偏光素子・位相板
  • 3.1 偏光ビームスプリッタ設計
• 4. 光学薄膜CAD
  • 4.1 CADのための条件
  • 4.2 CADに取り入れられるプロセス条件
  • 4.3 CAD設計システム
  • 4.4 初期設計
  • 4.5 設計上でのシミュレーション (高耐力化膜構成)
  • 4.6 吸収層を含む多層膜の組み立て
  • 4.7 設計CADのプログラム化
  • 4.8 CAD設計の実際
  • 4.9 最適化
• 5. 設計データ例
  • 5.1 多層膜設計例
  • 5.2 周期的多層膜の性質を利用した例
  • 5.3 金属膜を含む多層膜の例
  • 5.4 その他
  • 5.5 反射防止膜の広帯域化の例

第3章 光学薄膜の基礎となる計測技術

第1節 薄膜の光学的測定

• 1. 分光反射、透過率による測定
• 2. 偏光解析法
• 3. 不均質膜の測定
• 4. 膜厚制御
  • 4.1 反射率および透過率測定による膜厚制御
  • 4.2 偏光解析法
• 5. 蒸着速度の制御

第2節 薄膜の構造と特性評価技術

• 1. 薄膜の構造
  • 1.1 電子顕微鏡による断面構造
  • 1.2 膜構造モデル
  • 1.3 充填率の算定
• 2. 充填率測定法
  • 2.1 水晶振動子法
  • 2.2 直視式 (in-situ) 分光測定法
  • 2.3 特性評価
• 3. 屈折率の動的変化
• 4. 充填率による薄膜挙動の解析例
  • 4.1 狭帯域フィルタの経時変化
  • 4.2 ZrO2不均質膜の挙動の解析
  • 4.3 固体薄膜ECD (エレクトロクロミックデバイス) での充填率
• 5. その他の薄膜分析法
  • 5.1 X線回析と電子線回析
  • 5.2 赤外分光測定法
  • 5.3 表面分析
  • 5.4 走査トンネル顕微鏡およびヘテロダイン式表面粗さ計
• 6. 内部表面積と細孔分布測定法
  • 6.1 吸着曲線
  • 6.2 細孔分布
  • 6.3 内部表面積

第3節 薄膜の応力と耐久性

• 1. 応力と薄膜構造
• 2. 応力のin-situ測定
• 3. 付着力と耐久性

第4章 光学薄膜基板、洗浄および薄膜材料

第1節 光学基板の洗浄

• 1. はじめに
• 2. 有機溶剤による手拭き洗浄
• 3. 超音波洗浄
  • 3.1 超音波振動子
  • 3.2 空洞現象 (キャビテーション)
  • 3.3 加速度
  • 3.4 共振水位
  • 3.5 実際の超音波洗浄機の例
• 4. イオン衝撃
• 5. 洗浄の評価法
  • 5.1 呼気像
  • 5.2 静摩擦係数
  • 5.3 接触角

第2節 蒸着パラメータと薄膜特性

• 1. 蒸着温度
• 2. 蒸着速度
• 3. 真空度
• 4. 経時変化
  • 4.1 充填密度 (パッキングデンシティ) と経時変化
  • 4.2 イオンアシスト蒸着

第3節 蒸着材料の特性

• 1. TiO2について
  • 1.1 TiO2薄膜の作成方法
  • 1.2 TiO2薄膜の性質
• 2. ZrO2、TiO2混合物について
• 3. 混合物質による中間屈折率膜
• 4. プラスチック基板用蒸着材料
  • 4.1 CeO2薄膜の性質
  • 4.2 SiO薄膜
  • 4.3 蒸着時の基板温度上昇
• 5. 紫外用蒸着材料
• 6. 蒸着材料としてのフッ化物

第5章 光学薄膜形成技術

第1節 真空蒸着法

• 1. はじめに
• 2. 蒸着理論
  • 2.1 加熱・蒸発
  • 2.2 飛翔過程
  • 2.3 膜形成・成長過程
• 3. 真空蒸着装置
  • 3.1 装置の歴史と概略構成
  • 3.2 真空排気系
  • 3.3 蒸発源
  • 3.4 膜厚制御法
• 4. 実際の真空蒸着による光学多層膜の作成例
  • 4.1 紫外用マルチコート
  • 4.2 赤外用マルチコート

第2節 プラズマ蒸着法・スパッタ法

• 1. プラズマの光学薄膜技術への応用概説
• 2. プラズマ蒸着法
  • 2.1 イオンプレーティング法
  • 2.2 イオンビームアシステッドディポジション法
  • 2.3 スパッタリング法
• 3. イオンビームアシステッドディポジション (IAD) の測定データ

第3節 薄膜形成特論

• Ⅰ プラスチック基板への薄膜形成技術
  • 1. プラスチック光学部品コーティング技術の問題点
  • 2. プラスチックコーティングの基本的な考え
  • 3. 薄膜の基本設計例
  • 4. MgF2の低温コーティング
• Ⅱ 溶液コーティングによる反射防止膜
  • 1. はじめに
  • 2. 真空薄膜形成
  • 3. 反射防止の原理
  • 4. 溶液コーティングについて
    • 4.1 高屈折率ハードコート
    • 4.2 低屈折率ハードコート
  • 5. 応用例 – ルミナス・HI・Sコートレンズ
    • 5.1 ルミナス・HI・Sコートレンズの構造と技術
    • 5.2 ルミナス・HI・Sコートレンズの特長
  • 6. 今後の応用展開
• Ⅲ イオンプレーティングによる光学薄膜作製技術
  • 1. はじめに
  • 2. RLVIP装置およびその原理
  • 3. 実験結果および考察
    • 3.1 膜の構造
    • 3.2 機械的特性
    • 3.3 光学的特性1 (単層膜)
    • 3.4 光学的特性2 (多層膜)
  • 4. おわりに

第6章 光学薄膜の安定度と信頼性試験

• 1. 光学薄膜信頼性テスト
• 2. MIL規格信頼性テスト
  • 2.1 付着力テスト (MIL M-13508C)
  • 2.2 膜強度テスト (MIL M-13508C、MIL C-675C)
  • 2.3 温度テスト (MIL M-13508C)
  • 2.4 恒温恒湿テスト (MIL C-675C、MIL M-13508C)
  • 2.5 溶解テスト (MIL C-675C、MIL M-13508C)

第7章 光学薄膜技術特論 (軟X線光学素子における多層膜反射ミラー)

• 索引