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ナノインプリントの基礎とナノデバイス・3次元構造の作製・応用技術

ナノインプリントの基礎とナノデバイス・3次元構造の作製・応用技術

～あっ そうだったんだ ナノインプリント～
東京都 開催 会場 開催
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概要

本セミナーでは、ナノインプリントについて基礎から解説し、欠陥を抑え、離型性を高めるための最適な材料設計、プロセス技術について詳解いたいします。

開催日

  • 2016年2月15日(月) 10時30分 ～ 16時30分

プログラム

　本講では、熱ナノインプリント、UVナノインプリントの基本的な物理化学の知識を身につけます。
　さらに、リバーサルナノインプリントやハイブリッドナノインプリントなどを含めた、応用プロセスについて学びます。また、ナノインプリントならではの多彩な応用技術について紹介します。これまで気付かなかったナノインプリントの隠れたメカニズムや応用について、系統だてで解説します。

  1. ナノインプリントの特徴・必要条件、他技術と比べた場合の優位性と得意でない応用
  2. ナノインプリントの樹脂レオロジー、UV硬化反応、モールド/樹脂界面のトライボロジー
  3. 熱・UVナノインプリントの成形メカニズムと、材料・プロセスの設計最適化
  4. 熱・UVナノインプリントにおけるパターン欠陥の要因とその解消
  5. 離型メカニズムと離型方法
  6. 樹脂の収縮と寸法精度
  7. 欠陥回避・高精度加工のための材料、モールド、プロセス技術
  8. 2.5次元構造のモールド作製方法
  9. リバーサルナノインプリントの原理と3次元構造
  10. ハイブリッドナノインプリントの原理と3次元構造
  11. ナノインプリントの応用
    1. ナノ光学素子へのナノインプリント応用
    2. バイオチップへのナノインプリント応用
    3. 生体模倣構造へのナノインプリント応用
    4. バイオチップへのナノインプリント応用
    5. 有機太陽電池へのナノインプリント応用
    6. 半導体へのナノインプリント応用
  12. 今後の展望と最新動向
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講師

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会場

東宝土地 株式会社 高橋ビルヂング
東京都 千代田区 神田神保町3-2
東宝土地 株式会社 高橋ビルヂングの地図
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主催

S&T出版 株式会社
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 46,111円 (税別) / 49,800円 (税込)
複数名
: 36,111円 (税別) / 39,000円 (税込)

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  • STbook会員登録を希望する方
    2名様まで 43,796円(税別) / 47,300円(税込) で受講いただけます。
    追加1名あたり 33,796円(税別) / 36,500円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 43,796円(税別) / 47,300円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 43,796円(税別) / 47,300円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 77,592円(税別) / 83,800円(税込)
  • STbook会員登録を希望しない方
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    追加1名あたり 36,111円(税別) / 39,000円(税込) で受講いただけます。
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    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 46,111円(税別) / 49,800円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 82,222円(税別) / 88,800円(税込)
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